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Si摻雜活性氧化物的DFT計算分析

發(fā)布時間:2020-03-24 01:45
【摘要】:摻雜Si的Ru02和Ir02活性復(fù)合氧化物是有重要工業(yè)應(yīng)用價值的電極材料。該活性復(fù)合氧化物的實驗研究有很多,但是卻沒有關(guān)于Si摻雜RuO2和IrtO2材料計算的相關(guān)報道,基于第一性原理的材料計算的研究對于分析Si摻雜的復(fù)合氧化物具有指導(dǎo)意義。本文采用VASP軟件,設(shè)定合理的計算參數(shù)和條件,Si摻雜的(Ru1-xSix)O2 及(Ir1-xSix)O2(x=0、0.125、0.25、0.375、0.5、0.625、0.75、0.875、1)固溶體進行了材料計算。獲得了依靠實驗難以收集的結(jié)構(gòu)、能量和電子結(jié)構(gòu)的相關(guān)數(shù)據(jù),包括這兩種復(fù)合氧化物的晶體結(jié)構(gòu)、能帶、態(tài)密度、Bader、電荷密度、電子局域函數(shù),以及電導(dǎo)率等,為它們的實際應(yīng)用提供理論基礎(chǔ)。計算結(jié)果顯示,(Ru1-xSix)02的晶格點陣常數(shù)均明顯偏離Vegard定律,而(Ir1-xSix)O2偏離程度較小,但是這兩個體系的單晶胞體積都傾向符合Vegard定律,因此Si摻雜使這兩種復(fù)合氧化物的固溶體發(fā)生一定程度畸變,但是Si摻雜RuO2的交互作用似乎更強。采用熱分解法,在不同退火溫度下制備Ru0.5Si0.5O2/Ti電極,證實通過近晶化的退火工藝,可以實現(xiàn)高濃度Si的代位摻雜,較高溫度退火則發(fā)生相分離現(xiàn)象。Si摻雜后,(Ru1-xSix)O2和(Ir1-uxSix)O2的總能相對增大,說明這兩種復(fù)合氧化物不穩(wěn)定。計算結(jié)果與實驗或報導(dǎo)的結(jié)果相吻合。Bader、電荷密度以及電子局域函數(shù)顯示出Ru與O原子、Ir與O原子之間主要體現(xiàn)出共價結(jié)合,而摻雜后在Si、O之間主要體現(xiàn)出離子結(jié)合。能帶結(jié)構(gòu)研究表明,高Si摻雜的RuO2、IrO2材料始終保持金屬導(dǎo)電特性。態(tài)密度的結(jié)果表明,、Si雖然提供少許Si-3p電子,但導(dǎo)電主體仍來自Ru-4d與O-2p及Ir-5d與O-2p共振雜化的電子軌道。高Si摻雜后,(Ru1-xSix)O2和(Ir1-xSix)O2的電導(dǎo)率都隨Si摻雜量的增加呈指數(shù)衰減的變化趨勢。而且可以看出在同樣摻雜摩爾比例的情況下,Si摻雜對于RuO2比IrO2,對電導(dǎo)率下降的影響較大。另外,本文通過計算得到Ru02與Ru0.5Si0.5O2的(1 10)面的表面能、吸附能,發(fā)現(xiàn)摻雜Si之后表面能及吸附能都增大,說明高Si摻雜降低了電極的表面活性。
【圖文】:

曲線,晶格參數(shù),摻雜濃度,金紅石


mkf邋w邋#邋#邋¥逡逑(a)邐(b)逡逑圖3-丨⑻如02和(|3)1^丨().辦().502超胞結(jié)構(gòu)的示意圖逡逑Fig.3-1邋Models邋of邋the邋supercells邋of邋(a)邋Ru02,邋and邋(b)邋(Ruo.sSio邋5)02.逡逑3.2RUl_xSix02的晶體結(jié)構(gòu)研究逡逑首先,我們對Ru02的原胞進行結(jié)構(gòu)優(yōu)化,我們利用GGA-PBE的方法計算逡逑得到的Ru02的晶格常數(shù)為(0=6=4.500邋A,c=3.125A),我們的計算結(jié)果和標(biāo)準(zhǔn)卡逡逑片JCPDS12-1172的Ru02的晶格常數(shù)(a=卜4.499人,C=3.107A)非常符合,這說逡逑明本文所采用的計算方法可行。因此,我們后面對RU|_xSix02的研究都是采用逡逑GGA-PBE的計算方法。我們首先計算了不同的Si摻雜濃度x對RUl.xSix02的晶逡逑格常數(shù)a和c的影響,分別如圖3-3⑷和(b)所示。從圖中我們可以看出,RUl_xSix02逡逑晶格常數(shù)a和c隨摻雜量的增加嚴(yán)重偏離Vegard定律,這與1^^81^02【81]和逡逑Ru^ZrxC^1821固溶體有明顯的不同。從圖中我們還可以看出

示意圖,示意圖,晶格常數(shù),原子半徑


明本文所采用的計算方法可行。因此,我們后面對RU|_xSix02的研究都是采用逡逑GGA-PBE的計算方法。我們首先計算了不同的Si摻雜濃度x對RUl.xSix02的晶逡逑格常數(shù)a和c的影響,分別如圖3-3⑷和(b)所示。從圖中我們可以看出,RUl_xSix02逡逑晶格常數(shù)a和c隨摻雜量的增加嚴(yán)重偏離Vegard定律,這與1^^81^02【81]和逡逑Ru^ZrxC^1821固溶體有明顯的不同。從圖中我們還可以看出,隨著摻雜量的增加,逡逑RU|-xSix02的晶格常數(shù)a先增大后減小,而晶格常數(shù)c則先減小后增大,這是由逡逑于Si的原子半徑要明顯小于RU的原子半徑,從而引起晶格畸變。此外我們還對逡逑RUl_xSix02晶格常數(shù)a和c隨摻雜濃度x的變化進行擬合,我們擬合得到的公式逡逑分別為(3-1)和(3-2)。逡逑(a)4.6,邐(b)3-2r邐逡逑C3邋4.3邋-邐、、邐\邋U邋2.8邋.邐、、逡逑,,.邐2.7-逡逑42邋邐
【學(xué)位授予單位】:福州大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:O646.54

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本文編號:2597606

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