本文以國產(chǎn)宇航用集成電路為研究目標,詳細分析了集成電路參數(shù)一致性控制過程中的關鍵技術,對測試儀器準確性分析進行了研究,將一致性分析分為批次內(nèi)與批次間兩種分析方法。以工程實踐為目標,說明了集成電路在生產(chǎn)過程中進行參數(shù)一致性分析的方法與步驟,對國內(nèi)集成電路生產(chǎn)廠的參數(shù)一致性分析具有一定指導意義。 

【文章來源】：中國航天. 2020,(S1)

【文章頁數(shù)】：4 頁

【部分圖文】：

測量儀器評價流程圖


本文編號：3630656