發(fā)布時間：2018-04-18 11:10

  本文選題：智能熱控涂層 + 二氧化釩　； 參考：《宇航材料工藝》2016年03期

【摘要】：設(shè)計了基于VO_2的非對稱FP腔薄膜結(jié)構(gòu)的智能熱控涂層,并應(yīng)用光學(xué)模擬計算的方法研究了不同膜層厚度對薄膜結(jié)構(gòu)輻射率的影響,以及輻射率隨角度的變化規(guī)律。計算結(jié)果表明,當(dāng)相變層VO_2層的厚度從15 nm增至120 nm時,薄膜結(jié)構(gòu)的輻射率變化Δε先增加再減小,VO_2厚度為50 nm時,Δε達(dá)到最大,約為0.6。介質(zhì)層HfO_2的厚度主要影響多層薄膜結(jié)構(gòu)的高溫吸收帶位置,但Δε在HfO_2層厚度為800~1 000 nm,均可達(dá)到約0.6的最大值。多層薄膜結(jié)構(gòu)在0°~70°,仍保持明顯的輻射率變化,Δε在0.4以上。
[Abstract]:The intelligent thermal control coating of asymmetric FP cavity film structure based on VO_2 is designed. The influence of different film thickness on the emissivity of the thin film structure and the variation rule of emissivity with angle are studied by optical simulation.The results show that when the thickness of the VO_2 layer increases from 15 nm to 120 nm, 螖 蔚 increases first and then decreases when the thickness of VO _ 2 is 50 nm, 螖 蔚 reaches the maximum, about 0.6 nm.The thickness of dielectric layer HfO_2 mainly affects the location of high temperature absorption band of multilayer structure, but 螖 蔚 can reach the maximum value of about 0.6 when the thickness of HfO_2 layer is 800 ~ 1 000 nm.The structure of the multilayer film is at 0 擄and 70 擄, and the emissivity of the multilayer film remains obvious, 螖 蔚 is more than 0.4.
【作者單位】： 中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所;北京衛(wèi)星環(huán)境工程研究所;
【分類號】：V444.3

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1 余其錚,鮑亦令;計算爐膛中二氧化碳與水蒸汽輻射率的簡化公式[J];哈爾濱工業(yè)大學(xué)學(xué)報;1985年A1期

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本文編號：1768134