發(fā)布時(shí)間：2018-01-04 12:22

  本文關(guān)鍵詞：7YSZ熱障涂層高溫氧化過程中的微結(jié)構(gòu)演變和阻抗譜分析　出處：《中國(guó)表面工程》2016年03期 　論文類型：期刊論文

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【摘要】：在大氣環(huán)境中,測(cè)試7YSZ熱障涂層抗1 000℃高溫氧化性能,以模擬發(fā)動(dòng)機(jī)葉片的巡航飛行高溫氧化過程。采用交流阻抗技術(shù)并結(jié)合掃描電鏡及X射線衍射系統(tǒng)研究了高溫氧化過程中TGO層生長(zhǎng)與YSZ層微結(jié)構(gòu)演變。結(jié)果表明:隨著氧化時(shí)間的增加,TGO層厚度增加符合拋物線規(guī)律,在中頻階段的阻抗譜響應(yīng)愈加顯著。YSZ熔融顆粒在較低測(cè)試溫度下表現(xiàn)為容抗特征,隨測(cè)試溫度升高逐步表現(xiàn)為感抗特征。阻抗譜分析顯示YSZ晶粒的電阻及電容隨氧化時(shí)間增加,均呈一定幅度波動(dòng)變化,高溫氧化對(duì)熔融顆粒本身的電學(xué)特征影響不明顯;隨著氧化時(shí)間的增加,YSZ晶界電阻值不斷增加,電容值不斷下降,表明YSZ內(nèi)微裂紋發(fā)生了生長(zhǎng)和擴(kuò)展,最終導(dǎo)致YSZ層的剝落失效。
[Abstract]:The oxidation resistance of 7YSZ thermal barrier coating at 1 000 鈩，

本文編號(hào)：1378500