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靜電卡盤與晶圓之間的接觸熱阻研究

發(fā)布時(shí)間:2017-09-20 23:13

  本文關(guān)鍵詞:靜電卡盤與晶圓之間的接觸熱阻研究


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【摘要】:在等離子體刻蝕工藝中,晶圓的溫度控制是關(guān)鍵的技術(shù)之一?刂凭A溫度的主要部件即是靜電卡盤,因此靜電卡盤與晶圓之間的接觸熱阻研究至關(guān)重要。晶圓是依靠靜電而吸附在靜電卡盤表面的,且粗糙接觸面之間充有稀薄的氦氣。本文將靜電吸附的因素引入到經(jīng)典的接觸傳熱理論中,建立了靜電卡盤與晶圓之間的接觸傳熱模型,并研究了靜電電壓和氣體壓強(qiáng)對(duì)于接觸傳熱系數(shù)的影響。此外,本文結(jié)合作者先前研究中建立并得到驗(yàn)證的全范疇氣體導(dǎo)熱模型,對(duì)靜電吸附作用下的接觸導(dǎo)熱和稀薄氣體條件下的氣體導(dǎo)熱進(jìn)行了對(duì)比,得到了接觸導(dǎo)熱對(duì)總的導(dǎo)熱效果的貢獻(xiàn)比例。本文的研究有助于揭示靜電卡盤和晶圓之間的傳熱機(jī)理,以及二者之間接觸熱阻的計(jì)算。
【作者單位】: 清華大學(xué)摩擦學(xué)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室機(jī)械工程系;
【關(guān)鍵詞】接觸導(dǎo)熱 氣體導(dǎo)熱 熱阻 靜電卡盤 晶圓 稀薄氣體 影響因素
【基金】:國(guó)家科技重大專項(xiàng)02(2011ZX02403) 國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(51175284)
【分類號(hào)】:TK124
【正文快照】: 在理想情況下,通過(guò)壁面和柱面的熱流控制方程并沒(méi)有考慮在壁面和柱面接觸面處的對(duì)于熱流存在的阻力現(xiàn)象[1]。也就是說(shuō)在不同材料的交界面上,通常認(rèn)為接觸面兩側(cè)溫度是相同的,即是假設(shè)了兩接觸面之間保持了良好的接觸。但在微觀角度上,固體表面往往是粗糙不平的,其上布滿了高低

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本文編號(hào):890959

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