采用磁控濺射的方法在傳感器用單晶Si襯底上制備一層Mg-Sn涂層,實(shí)驗(yàn)測試研究濺射次數(shù)對其組織及導(dǎo)電特性的影響。研究結(jié)果表明:沉積涂層內(nèi)形成了具有明顯尺寸差異的顆粒,從而形成了粗糙的表面。隨著濺射次數(shù)增加,Mg含量發(fā)生了逐漸降低的現(xiàn)象,Sn與O元素含量表現(xiàn)為逐漸升高的變化規(guī)律。隨著濺射剝離時(shí)間的增加,Mg1s峰位從1286降低至1285 eV,表現(xiàn)為涂層深度增大后,Mg1s發(fā)生了峰位降低的現(xiàn)象。出現(xiàn)在沉積薄膜內(nèi)的O主要是為了提高靶材的成型能力而加入一些有機(jī)物所產(chǎn)生的。各涂層都具有正的Hall系數(shù),可以判斷屬于p型半導(dǎo)體。當(dāng)涂層內(nèi)Mg含量發(fā)生減小后,電導(dǎo)率也隨之減小。當(dāng)涂層內(nèi)形成更少的Mg₂Sn與更多的Sn之后,引起了載流子濃度的下降,引起遷移率的減小。

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【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)方法
    1.1 涂層制備
    1.2 性能表征
2 結(jié)果和討論
    2.1 表面形貌和成分分析
    2.2 沉積涂層的XPS譜
    2.3 沉積涂層的導(dǎo)電特性
3 結(jié)論



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