InAs/GaAs自組織量子點(diǎn)分子納米材料光學(xué)性質(zhì)研究
【文章頁(yè)數(shù)】:60 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
圖2.1原子力顯微鏡(AFM)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖
米材料常用的外延制備方法有分子束外延((MBE)和金技術(shù),半導(dǎo)體納米材料常用的結(jié)構(gòu)和形貌表征方法有X描電子顯微鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)和透射電子顯半導(dǎo)體量子點(diǎn)樣品是在美國(guó)加州大學(xué)洛杉磯分校加州納納米材料實(shí)驗(yàn)室的固態(tài)分子束外延設(shè)備(VEECOGEN-93形貌和結(jié)構(gòu)采....
圖2.2GaSb/GaAs和InAs/GaAs量子點(diǎn)AFM圖像
是原子直徑,r是原子之間的距離。隨著r減小,E變大,當(dāng)r減小到一定數(shù)值量為+E;反之,當(dāng)r增大到一定數(shù)值,能量為-E。這樣根據(jù)探針和樣品在掃描生的位置變化,通過(guò)探針的偏移量等間接得到材料表面的形貌圖。AFM的掃要包括三種,分別是:接觸式(CONTACTMODE....
圖2.3光學(xué)顯微鏡與透射電子顯微鏡成像原理的比較
第2章實(shí)驗(yàn)技術(shù)和方法2.2透射電子顯微鏡(TEM)透射電子顯微鏡(Transmissionelectronmicroscope),簡(jiǎn)稱(chēng)透射電鏡,是一種束為照明源,由電磁透鏡聚焦成像的電子光學(xué)儀器。1924年,德布羅意計(jì)算出電波長(zhǎng);1926年Busch發(fā)現(xiàn)軸對(duì)稱(chēng)....
圖2.4給出了三個(gè)樣品的TEM橫截面圖
河北大學(xué)工學(xué)碩士學(xué)位論文了帶電粒子與磁場(chǎng)間的相互作用。當(dāng)具有一定波長(zhǎng)的電子束入射到晶體上拉格條件2sinθ=λ其中,d為晶面距離;為電子束波長(zhǎng),特定角度2θ處產(chǎn)生衍射,這個(gè)衍射波焦面聚集成一點(diǎn),形成衍射點(diǎn),經(jīng)過(guò)電子透鏡在熒光屏上顯示出來(lái),得到電。高分辨電子顯微成像的....
本文編號(hào):4023844
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