基于專利技術(shù)功效矩陣,確定了技術(shù)手段和技術(shù)問題的雙重分析模式,并設(shè)置了專利布局難易度,從3個維度分別對技術(shù)手段和技術(shù)問題進(jìn)行技術(shù)機會分析,以識別各個技術(shù)方向的技術(shù)機會,以期對各創(chuàng)新主體的技術(shù)創(chuàng)新活動有所幫助。 

【文章來源】：圖書情報導(dǎo)刊. 2020,5(06)

【文章頁數(shù)】：6 頁

【部分圖文】：

該領(lǐng)域內(nèi)技術(shù)功效矩陣圖

有效地進(jìn)行技術(shù)機會的識別能夠幫助企業(yè)進(jìn)行技術(shù)創(chuàng)新，幫助企業(yè)在激烈的競爭中快速占據(jù)優(yōu)勢地位。本文提出了基于專利技術(shù)功效矩陣的技術(shù)機會識別方法，以技術(shù)功效矩陣為基礎(chǔ)，確定了技術(shù)手段和技術(shù)問題的雙重分析模式，并設(shè)定了技術(shù)難易度指標(biāo)，以技術(shù)手段難易度和技術(shù)問題難易度進(jìn)行排序，并參照技術(shù)問題的種類和技術(shù)手段的種類、技術(shù)手段的數(shù)量和技術(shù)問題的數(shù)量，進(jìn)行技術(shù)機會分析，利用該方法可以直觀、系統(tǒng)地對該領(lǐng)域的技術(shù)機會進(jìn)行識別。通過該方法，可以對該領(lǐng)域中眾多技術(shù)手段和技術(shù)問題進(jìn)行分類，從中找出最具技術(shù)機會可能性的技術(shù)手段和技術(shù)問題，企業(yè)也可以在該方法的指導(dǎo)下開展有針對性的專利布局工作。

圖2是該領(lǐng)域的技術(shù)手段技術(shù)機會分析圖，其中柱狀長方體表示技術(shù)手段布局難易度，并按照從難到易的方式進(jìn)行排序；圓錐表示通過某技術(shù)手段可解決技術(shù)問題的種類，解決的技術(shù)問題越多則反映該技術(shù)手段的可能性越大；圓柱表示該領(lǐng)域內(nèi)采用某技術(shù)手段的專利文獻(xiàn)總數(shù)量，該數(shù)值越大表示該領(lǐng)域內(nèi)創(chuàng)新主體對該技術(shù)手段的研究越多，專利布局越密集。從圖2可明顯看出，技術(shù)手段β的布局難易度最高，技術(shù)問題的種類雖然最多，但技術(shù)手段的數(shù)量也最多，可以認(rèn)為技術(shù)手段β為技術(shù)壁壘區(qū)，技術(shù)手段β的布局最難，技術(shù)機會最��；技術(shù)手段θ、δ和ε的布局難易度適中，技術(shù)問題的種類適中，但技術(shù)手段的數(shù)量較多，可以認(rèn)為技術(shù)手段θ、δ和ε為技術(shù)活躍區(qū)，技術(shù)手段θ、δ和ε的布局較難，技術(shù)機會適中；技術(shù)手段α和技術(shù)手段γ的布局難易度最低，但是技術(shù)手段γ解決的技術(shù)問題種類多于技術(shù)手段α，技術(shù)手段γ提供了更多的可能性，從而技術(shù)手段γ為專利潛力區(qū)，而解決技術(shù)問題較少的技術(shù)手段α則為專利沉寂區(qū)，技術(shù)手段γ布局最易，技術(shù)機會也最大，它也是技術(shù)的潛力方向。圖3是該領(lǐng)域的技術(shù)問題技術(shù)機會分析圖，其中柱狀長方體表示技術(shù)問題布局難易度，并按照從難到易的方式進(jìn)行排序；圓錐表示可解決某技術(shù)問題的技術(shù)手段種類，解決某技術(shù)問題所采用的技術(shù)手段種類越多，則反映出對該技術(shù)問題的研究越具有可行性；圓柱表示該領(lǐng)域內(nèi)研究該技術(shù)問題的專利文獻(xiàn)總數(shù)量，該數(shù)值越大，表示該領(lǐng)域內(nèi)創(chuàng)新主體對該技術(shù)問題的研究越多，專利布局越密集。從圖3可明顯看出，技術(shù)問題E的布局難易度最高，技術(shù)手段的種類雖然較多，但技術(shù)問題的數(shù)量最多，可以認(rèn)為技術(shù)問題E為技術(shù)壁壘區(qū)，技術(shù)問題E布局最難，技術(shù)機會最��；技術(shù)問題A的布局難易度適中，技術(shù)手段的種類和技術(shù)問題的數(shù)量適中，可以認(rèn)為技術(shù)問題A為技術(shù)活躍區(qū)，技術(shù)問題A布局難度適中，技術(shù)機會適中；技術(shù)問題F、D和B的布局難易度較低，解決這些技術(shù)問題可采用的技術(shù)手段種類較多，但技術(shù)問題的數(shù)量較少，可見，技術(shù)問題F、D和B為專利潛力區(qū)，布局最易，技術(shù)機會也最大，同樣它們也是技術(shù)的潛力方向；雖然技術(shù)問題C的布局難易度最低，但解決這些技術(shù)問題可采用的技術(shù)手段的種類最少，技術(shù)問題的數(shù)量也最少，從而技術(shù)問題C為專利沉寂區(qū)。

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]基于數(shù)據(jù)挖掘的技術(shù)機會發(fā)現(xiàn)模型研究[J]. 任智軍,喬曉東,徐碩,韓紅旗.  情報雜志. 2015(06)
[2]基于共現(xiàn)分析的技術(shù)機會發(fā)現(xiàn)與可視化識別[J]. 呂一博,康宇航,王淑娟.  科研管理. 2012(04)
[3]基于專利的判斷技術(shù)機會的方法及實證研究[J]. 黃魯成,蔡爽.  科學(xué)學(xué)研究. 2010(02)



本文編號：3602151