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淺談合理擴(kuò)展技術(shù)領(lǐng)域?qū)Ψ乐孤z的影響

發(fā)布時(shí)間:2021-09-27 21:00
  在實(shí)際審查過(guò)程中,影響漏檢的因素有很多,其中,是否能夠合理擴(kuò)展領(lǐng)域是非常重要的一個(gè)方面,本文通過(guò)分析創(chuàng)造性評(píng)判中對(duì)技術(shù)領(lǐng)域的考量,并結(jié)合具體案例進(jìn)行了討論,在創(chuàng)造性評(píng)判中,不能孤立地考慮對(duì)比文件所屬的技術(shù)領(lǐng)域是否與本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域"相近"或"相關(guān)",而應(yīng)當(dāng)基于發(fā)明所要解決的"技術(shù)問(wèn)題",判斷本領(lǐng)域技術(shù)人員是否可以到其他領(lǐng)域?qū)で髮?duì)比文件,從而提高檢索全面性,有效降低漏檢率。 

【文章來(lái)源】:中國(guó)發(fā)明與專利. 2020,17(S1)

【文章頁(yè)數(shù)】:5 頁(yè)

【部分圖文】:

淺談合理擴(kuò)展技術(shù)領(lǐng)域?qū)Ψ乐孤z的影響


(a)巖體結(jié)構(gòu)面三維形貌測(cè)量?jī)x(b)魚(yú)體外形測(cè)量裝置


本文編號(hào):3410606

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