文章通過調研國內外多弧離子鍍制備（Ti,Cr）N納米復合膜的研究,分析了偏壓、弧電流等制備參數對薄膜機械性能的影響。調研發(fā)現:在TiN薄膜中引入Cr元素后,有效地提升了薄膜的機械性能;而偏壓和弧電流在多弧離子鍍制備（Ti,Cr）N的過程中,對成膜性質有很重要的作用。從理論原理來看,偏壓提供了加速離子所需的能量,弧電流則是弧光放電的基礎。它們的共同特征是數值增大會給離子帶來更多的能量,加劇離子對襯底的撞擊,從而提高膜基結合力和薄膜硬度。不過因為作用機理的不同,它們對薄膜的影響也不都是正面的,比如偏壓較大時會降低薄膜的厚度和沉積速率,而弧電流過大則會增加大液滴的形成概率。因此,在多弧離子鍍制備（Ti,Cr）N薄膜的過程中,應該在綜合評估各實驗參數的影響后進行優(yōu)化,從而提高薄膜機械性能。 

【文章來源】：科技智囊. 2020,(10)

【文章頁數】：4 頁

【文章目錄】：
一、前言
二、制備工藝對膜層的影響
    （一）偏壓對膜層的影響
    （二）弧電流對膜層的影響
三、結論


【參考文獻】：
期刊論文
[1]多弧離子鍍（Ti,Cr）N鍍層耐蝕性研究[J]. 郭巧琴,李建平,郭永春,楊忠.  電鍍與精飾. 2017(08)
[2]脈沖偏壓占空比和放置狀態(tài)對大顆粒分布規(guī)律的影響[J]. 魏永強,劉建偉,文振華,蔣志強,田修波.  熱加工工藝. 2015(04)
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[4]LY12鋁合金表面多弧離子鍍（Ti,Cr）N膜[J]. 周蘭英,李晉珩,郎平.  北京理工大學學報. 2004(04)
[5]電弧離子鍍（Ti,Cr）N硬質薄膜的成分、結構與硬度[J]. 陳軍,林國強,陳靜,韋江,王富崗.  大連理工大學學報. 2002(05)
[6]離子鍍膜中的弧電流對膜層質量的影響[J]. 吳玉廣,陳福砦.  真空科學與技術. 1999(05)

碩士論文
[1](Ti，Cr)N薄膜的多弧離子鍍工藝、顯微結構及力學性能研究[D]. 李金麗.中國地質大學（北京） 2006



本文編號：3220438