發(fā)布時(shí)間：2021-06-09 10:45

　　文章通過調(diào)研國(guó)內(nèi)外多弧離子鍍制備（Ti,Cr）N納米復(fù)合膜的研究,分析了偏壓、弧電流等制備參數(shù)對(duì)薄膜機(jī)械性能的影響。調(diào)研發(fā)現(xiàn):在TiN薄膜中引入Cr元素后,有效地提升了薄膜的機(jī)械性能;而偏壓和弧電流在多弧離子鍍制備（Ti,Cr）N的過程中,對(duì)成膜性質(zhì)有很重要的作用。從理論原理來看,偏壓提供了加速離子所需的能量,弧電流則是弧光放電的基礎(chǔ)。它們的共同特征是數(shù)值增大會(huì)給離子帶來更多的能量,加劇離子對(duì)襯底的撞擊,從而提高膜基結(jié)合力和薄膜硬度。不過因?yàn)樽饔脵C(jī)理的不同,它們對(duì)薄膜的影響也不都是正面的,比如偏壓較大時(shí)會(huì)降低薄膜的厚度和沉積速率,而弧電流過大則會(huì)增加大液滴的形成概率。因此,在多弧離子鍍制備（Ti,Cr）N薄膜的過程中,應(yīng)該在綜合評(píng)估各實(shí)驗(yàn)參數(shù)的影響后進(jìn)行優(yōu)化,從而提高薄膜機(jī)械性能。 

【文章來源】：科技智囊. 2020,(10)

【文章頁數(shù)】：4 頁

【文章目錄】：
一、前言
二、制備工藝對(duì)膜層的影響
    （一）偏壓對(duì)膜層的影響
    （二）弧電流對(duì)膜層的影響
三、結(jié)論


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]多弧離子鍍（Ti,Cr）N鍍層耐蝕性研究[J]. 郭巧琴,李建平,郭永春,楊忠.  電鍍與精飾. 2017(08)
[2]脈沖偏壓占空比和放置狀態(tài)對(duì)大顆粒分布規(guī)律的影響[J]. 魏永強(qiáng),劉建偉,文振華,蔣志強(qiáng),田修波.  熱加工工藝. 2015(04)
[3]負(fù)偏壓對(duì)多弧離子鍍制備的（Ti,Cr）N膜的影響[J]. 付志強(qiáng),王成彪,李金麗,于翔,彭志堅(jiān).  稀有金屬材料與工程. 2010(S1)
[4]LY12鋁合金表面多弧離子鍍（Ti,Cr）N膜[J]. 周蘭英,李晉珩,郎平.  北京理工大學(xué)學(xué)報(bào). 2004(04)
[5]電弧離子鍍（Ti,Cr）N硬質(zhì)薄膜的成分、結(jié)構(gòu)與硬度[J]. 陳軍,林國(guó)強(qiáng),陳靜,韋江,王富崗.  大連理工大學(xué)學(xué)報(bào). 2002(05)
[6]離子鍍膜中的弧電流對(duì)膜層質(zhì)量的影響[J]. 吳玉廣,陳福砦.  真空科學(xué)與技術(shù). 1999(05)

碩士論文
[1](Ti，Cr)N薄膜的多弧離子鍍工藝、顯微結(jié)構(gòu)及力學(xué)性能研究[D]. 李金麗.中國(guó)地質(zhì)大學(xué)（北京） 2006



本文編號(hào)：3220438