以甲烷為源氣體,高純碳和金屬鉿為靶材,采用雙靶共濺射磁控技術(shù)制備了鉿摻雜類(lèi)金剛石（Hf-DLC）薄膜,通過(guò)現(xiàn)代分析測(cè)試技術(shù)手段對(duì)薄膜的表面形貌、鍵合結(jié)構(gòu)、化學(xué)組成和光學(xué)性能等進(jìn)行表征、分析。結(jié)果表明,隨著鉿靶濺射功率的增大,薄膜中Hf含量增加,且薄膜中Hf與C形成納米晶HfC;鉿摻雜使得薄膜表面顆粒減小,變得更加細(xì)密。Hf-DLC薄膜的光學(xué)帶隙在1.12～1.8520eV,表現(xiàn)出半導(dǎo)體材料帶隙特性;Hf摻雜使得薄膜中sp²C含量降低,碳π～π*帶邊態(tài)密度增大,導(dǎo)致其光學(xué)帶隙隨著摻雜Hf量的增加而減小。因此,通過(guò)合理控制Hf-DLC薄膜中Hf的含量,可實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜的結(jié)構(gòu)和光學(xué)帶隙的有效調(diào)控。 

【文章來(lái)源】：真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2020,40(11)北大核心CSCD

【文章頁(yè)數(shù)】：6 頁(yè)

【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)
2 結(jié)果分析與討論
    2.1 SEM分析
    2.2 FTIR分析
    2.3 XRD結(jié)構(gòu)分析
    2.4 薄膜的光學(xué)帶隙
3 結(jié)論



本文編號(hào)：3176604