介質(zhì)/金屬/介質(zhì)透明導(dǎo)電多層膜的橢圓偏振光譜研究
發(fā)布時(shí)間:2020-12-26 19:22
擁有介質(zhì)/金屬/介質(zhì)結(jié)構(gòu)的透明導(dǎo)電多層膜的光學(xué)與電學(xué)性能優(yōu)于單層透明導(dǎo)電氧化物膜或金屬膜,且能夠在低溫下制備。采用磁控濺射室溫制備ZnO/Ag/SiN透明導(dǎo)電多層膜,并進(jìn)行變角度橢圓偏振光譜測(cè)量。對(duì)單層膜建立物理模型并進(jìn)行擬合,獲得每層膜的折射率與消光系數(shù)。由單層膜模型組建多層膜模型,使多層膜的橢圓偏振光譜擬合值與實(shí)測(cè)值相吻合。擬合結(jié)果表明,不同O2和Ar流量比條件下制備襯底層ZnO時(shí),功能層Ag的Drude模型中載流子濃度幾乎不變,而遷移率不同。當(dāng)O2和Ar流量比使ZnO處于氧化態(tài)時(shí),Ag層的遷移率最高,由X射線衍射分析發(fā)現(xiàn),此時(shí)Ag層具有最強(qiáng)的結(jié)晶強(qiáng)度與擇優(yōu)取向。
【文章來(lái)源】:激光與光電子學(xué)進(jìn)展. 2016年10期 北大核心
【文章頁(yè)數(shù)】:8 頁(yè)
【部分圖文】:
玻璃基體上單層膜的橢偏光譜.(a)(b)Zp0層.Fig.2Ellipsometric.spectraofsinglelayerstipglasssubstrate.(a)(6)
53,?103101(2016)?激興與畀電g?進(jìn)展?www.opticsjournal.net??3.2橢偏多層膜的建模和擬合??獲得單層膜的擬合模型后,可以將單層膜逐層累加,對(duì)多層膜進(jìn)行擬合。圖4所示為ZnO/Ag/SiN多??層膜的橢偏擬合模型,圖4(a)為膜層結(jié)構(gòu)及擬合膜厚,圖4(b)為模型名稱及說(shuō)明。以〇2和Ar流量比為??0.24的多層膜為例,由下至上分別為:2?mm的玻璃基體,采用背面反射修正;厚度為50.0?nm的ZnO層,符??合Herzinger等[8]提出的H-J半導(dǎo)體模型;厚度為20.7?nm的Ag層,符合Drude模型;厚度為37.0?nm的??SiN層,符合Cauchy模型;最表面的粗槌度層(Srough),該層本質(zhì)上是根據(jù)有效介質(zhì)理論設(shè)定為50%孔隙??率的表面疏松層,其光學(xué)常數(shù)為內(nèi)部介質(zhì)層光學(xué)常數(shù)的一半[12],擬合厚度為7.5??Srough?7.5?nm?50%?top-layer,?50%?void??SiN?37.0?nm?Cauchy?model??Ag?20.7?nm?Drude?model??ZnO?50.0?nm?H-J?semiconductor?model??glass?2?mm?backside?correction??圖4?ZnO/Ag/SiN多層膜的橢偏擬合模型??Fig.?4?Ellipsometrical?fitting?model?of?multi-layer?ZnO/Ag/SiN?film??橢偏擬合時(shí)待求解的未知參數(shù)個(gè)數(shù)小于等于約束方程的個(gè)數(shù)時(shí)才能獲得精確解。多層膜的擬合中未知??參數(shù)過(guò)多,需要固定一些已知參數(shù),并設(shè)置擬合權(quán)重,避免參
1?0.2?0.3?0.4?0.5??Flow?rate?ratio?of?〇2?to?Ar??圖6?Ag層的載流子濃度與遷移率隨ZnO層02和Ar流量比的變化??Fig.?6?Variation?in?mobility?and?carrier?concentration?of?Ag?film?with?flow?rate?ratio?of?02?to?Ar?in?ZnO?layer??3.3結(jié)構(gòu)分析??采用XRD探測(cè)不同02和Ar流量比條件下制備的ZnO/Ag/SiN多層膜的結(jié)構(gòu)。如圖7(a)所示,曲線??上方標(biāo)示的數(shù)字為02和Ar的流量比,流量比為0表示無(wú)ZnO襯底層的Ag/SiN雙層膜,流量比為0.21???0.30對(duì)應(yīng)ZnO的過(guò)渡態(tài),流量比為0.30?0.50對(duì)應(yīng)ZnO的氧化態(tài)。??如圖7所示,20角在20°?30°之間的非晶峰為玻璃基體與下介質(zhì)層SiN[17],此外還探測(cè)到ZnO(002)衍??射峰與Ag(lll)、(200)衍射峰。Ag(200)衍射峰只在Ag/SiN雙層膜與過(guò)渡態(tài)ZnO/Ag/SiN多層膜中被探??測(cè)到,而在氧化態(tài)的ZnO/Ag/SiN多層膜中沒(méi)有出現(xiàn),說(shuō)明氧化態(tài)的Zn?有利于Ag膜的擇優(yōu)取向。??w?A^ni)?6000?Rb)?"??|?5000-?廣-???ZnO?(002)?|?/??^?^?L?-?Q-50?4000'?/??g?一^??0.40?g?/??一■z?二一?人JL?—?°-24?2000?/????^???0-21?■'?j??^?■一?^^jT^gc200)?〇?—?—?looo-??20?30?40?50?60?°
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]氧化鉿薄膜的寬光譜光學(xué)特性研究[J]. 朱曉龍,肖峻,馬孜. 激光與光電子學(xué)進(jìn)展. 2016(03)
[2]線性離子源對(duì)玻璃基片的表面改性[J]. 孫瑤,汪洪. 硅酸鹽學(xué)報(bào). 2015(11)
[3]濺射工藝對(duì)D/M/D結(jié)構(gòu)中SiN_x介質(zhì)膜光學(xué)常數(shù)的影響[J]. 孫瑤,汪洪. 航空材料學(xué)報(bào). 2015(04)
[4]分光橢偏技術(shù)在銦錫氧薄膜光電特性研究中的應(yīng)用[J]. 胡慧,張麗平,孟凡英,劉正新. 光學(xué)學(xué)報(bào). 2014(10)
[5]氮化硅薄膜熱處理前后表面組成和折射率[J]. 趙青南,董玉紅,劉瑩,趙慶忠,趙修建. 武漢理工大學(xué)學(xué)報(bào). 2010(22)
[6]TiN_x/Ag/TiN_x復(fù)合膜的光學(xué)性能[J]. 黃佳木,蔣攀,董思勤. 光學(xué)學(xué)報(bào). 2010(06)
[7]介質(zhì)/金屬/介質(zhì)多層透明導(dǎo)電薄膜研究進(jìn)展[J]. 劉靜,劉丹,顧真安. 材料導(dǎo)報(bào). 2005(08)
[8]橢圓偏振光譜中的主角測(cè)量條件分析[J]. 趙海斌,夏國(guó)強(qiáng),陳岳立,李晶,周仕明,陳良堯. 光學(xué)學(xué)報(bào). 2001(06)
本文編號(hào):2940321
【文章來(lái)源】:激光與光電子學(xué)進(jìn)展. 2016年10期 北大核心
【文章頁(yè)數(shù)】:8 頁(yè)
【部分圖文】:
玻璃基體上單層膜的橢偏光譜.(a)(b)Zp0層.Fig.2Ellipsometric.spectraofsinglelayerstipglasssubstrate.(a)(6)
53,?103101(2016)?激興與畀電g?進(jìn)展?www.opticsjournal.net??3.2橢偏多層膜的建模和擬合??獲得單層膜的擬合模型后,可以將單層膜逐層累加,對(duì)多層膜進(jìn)行擬合。圖4所示為ZnO/Ag/SiN多??層膜的橢偏擬合模型,圖4(a)為膜層結(jié)構(gòu)及擬合膜厚,圖4(b)為模型名稱及說(shuō)明。以〇2和Ar流量比為??0.24的多層膜為例,由下至上分別為:2?mm的玻璃基體,采用背面反射修正;厚度為50.0?nm的ZnO層,符??合Herzinger等[8]提出的H-J半導(dǎo)體模型;厚度為20.7?nm的Ag層,符合Drude模型;厚度為37.0?nm的??SiN層,符合Cauchy模型;最表面的粗槌度層(Srough),該層本質(zhì)上是根據(jù)有效介質(zhì)理論設(shè)定為50%孔隙??率的表面疏松層,其光學(xué)常數(shù)為內(nèi)部介質(zhì)層光學(xué)常數(shù)的一半[12],擬合厚度為7.5??Srough?7.5?nm?50%?top-layer,?50%?void??SiN?37.0?nm?Cauchy?model??Ag?20.7?nm?Drude?model??ZnO?50.0?nm?H-J?semiconductor?model??glass?2?mm?backside?correction??圖4?ZnO/Ag/SiN多層膜的橢偏擬合模型??Fig.?4?Ellipsometrical?fitting?model?of?multi-layer?ZnO/Ag/SiN?film??橢偏擬合時(shí)待求解的未知參數(shù)個(gè)數(shù)小于等于約束方程的個(gè)數(shù)時(shí)才能獲得精確解。多層膜的擬合中未知??參數(shù)過(guò)多,需要固定一些已知參數(shù),并設(shè)置擬合權(quán)重,避免參
1?0.2?0.3?0.4?0.5??Flow?rate?ratio?of?〇2?to?Ar??圖6?Ag層的載流子濃度與遷移率隨ZnO層02和Ar流量比的變化??Fig.?6?Variation?in?mobility?and?carrier?concentration?of?Ag?film?with?flow?rate?ratio?of?02?to?Ar?in?ZnO?layer??3.3結(jié)構(gòu)分析??采用XRD探測(cè)不同02和Ar流量比條件下制備的ZnO/Ag/SiN多層膜的結(jié)構(gòu)。如圖7(a)所示,曲線??上方標(biāo)示的數(shù)字為02和Ar的流量比,流量比為0表示無(wú)ZnO襯底層的Ag/SiN雙層膜,流量比為0.21???0.30對(duì)應(yīng)ZnO的過(guò)渡態(tài),流量比為0.30?0.50對(duì)應(yīng)ZnO的氧化態(tài)。??如圖7所示,20角在20°?30°之間的非晶峰為玻璃基體與下介質(zhì)層SiN[17],此外還探測(cè)到ZnO(002)衍??射峰與Ag(lll)、(200)衍射峰。Ag(200)衍射峰只在Ag/SiN雙層膜與過(guò)渡態(tài)ZnO/Ag/SiN多層膜中被探??測(cè)到,而在氧化態(tài)的ZnO/Ag/SiN多層膜中沒(méi)有出現(xiàn),說(shuō)明氧化態(tài)的Zn?有利于Ag膜的擇優(yōu)取向。??w?A^ni)?6000?Rb)?"??|?5000-?廣-???ZnO?(002)?|?/??^?^?L?-?Q-50?4000'?/??g?一^??0.40?g?/??一■z?二一?人JL?—?°-24?2000?/????^???0-21?■'?j??^?■一?^^jT^gc200)?〇?—?—?looo-??20?30?40?50?60?°
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]氧化鉿薄膜的寬光譜光學(xué)特性研究[J]. 朱曉龍,肖峻,馬孜. 激光與光電子學(xué)進(jìn)展. 2016(03)
[2]線性離子源對(duì)玻璃基片的表面改性[J]. 孫瑤,汪洪. 硅酸鹽學(xué)報(bào). 2015(11)
[3]濺射工藝對(duì)D/M/D結(jié)構(gòu)中SiN_x介質(zhì)膜光學(xué)常數(shù)的影響[J]. 孫瑤,汪洪. 航空材料學(xué)報(bào). 2015(04)
[4]分光橢偏技術(shù)在銦錫氧薄膜光電特性研究中的應(yīng)用[J]. 胡慧,張麗平,孟凡英,劉正新. 光學(xué)學(xué)報(bào). 2014(10)
[5]氮化硅薄膜熱處理前后表面組成和折射率[J]. 趙青南,董玉紅,劉瑩,趙慶忠,趙修建. 武漢理工大學(xué)學(xué)報(bào). 2010(22)
[6]TiN_x/Ag/TiN_x復(fù)合膜的光學(xué)性能[J]. 黃佳木,蔣攀,董思勤. 光學(xué)學(xué)報(bào). 2010(06)
[7]介質(zhì)/金屬/介質(zhì)多層透明導(dǎo)電薄膜研究進(jìn)展[J]. 劉靜,劉丹,顧真安. 材料導(dǎo)報(bào). 2005(08)
[8]橢圓偏振光譜中的主角測(cè)量條件分析[J]. 趙海斌,夏國(guó)強(qiáng),陳岳立,李晶,周仕明,陳良堯. 光學(xué)學(xué)報(bào). 2001(06)
本文編號(hào):2940321
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