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熱處理增強(qiáng)Au納米顆粒超薄膜光電子發(fā)射的研究

發(fā)布時(shí)間:2018-08-12 15:54
【摘要】:本文制備了平均直徑為1.4 nm的11-巰基十一烷酸(Mercaptoundecanoic acid,MUA)修飾的金納米顆粒,隨后通過硅晶片上殼聚糖薄涂層靜電吸附制備了厚度約為10 nm的超薄膜,原子力顯微鏡(Atomic Force Microscopy,AFM)和掃描電子顯微鏡(Scanning Electron Microscopy,SEM)表明金納米顆粒在薄膜中分布較為均勻且薄膜較平整。進(jìn)一步采用紫外光電子能譜(Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy,UPS)研究了不同熱處理溫度對超薄膜的二次電子發(fā)射能力的影響。結(jié)果表明,適度的熱處理有助于超薄膜二次電子發(fā)射強(qiáng)度的提高,尤其是經(jīng)150°C熱處理的薄膜二次電子發(fā)射峰強(qiáng)是未處理樣品的4倍,更高的熱處理溫度造成二次電子發(fā)射峰強(qiáng)度急劇下降。本文結(jié)果有助于推動有機(jī)配體金納米顆粒超薄膜在光電子發(fā)射材料方面的應(yīng)用。
[Abstract]:In this paper, the gold nanoparticles modified by Mercaptoundecanoic acidanilic acid (Mercaptoundecanoic acido MUA) with an average diameter of 1. 4 nm were prepared, and then the ultrathin film was prepared by electrostatic adsorption of chitosan thin coating on silicon wafer, the thickness of which was about 10 nm. Atomic force microscope (AFM) and scanning electron microscope (Scanning Electron) showed that the gold nanoparticles distributed uniformly in the films and the films were flat. The effect of different heat treatment temperature on the secondary electron emission ability of ultrathin films was further studied by (Ultraviolet Photoelectron spectroscopic UPS. The results show that moderate heat treatment can improve the secondary electron emission intensity of ultrathin film, especially the peak intensity of secondary electron emission of the film treated with 150 擄C is 4 times that of the untreated sample. The higher heat treatment temperature results in a sharp decrease in the intensity of the secondary electron emission peak. The results in this paper are helpful to promote the application of organic ligand gold nanoparticles ultrathin films in photoelectron emission materials.
【作者單位】: 中國科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所嘉定園區(qū);中國科學(xué)院大學(xué);
【基金】:國家自然科學(xué)基金(No.11175239、No.11605278、No.11675252) 中國科學(xué)院百人計(jì)劃資助~~
【分類號】:O484

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本文編號:2179538

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