本文關(guān)鍵詞：高新技術(shù)企業(yè)專利權(quán)法律保護研究

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【摘要】：隨著全球知識經(jīng)濟的不斷發(fā)展以及競爭的不斷加劇,知識產(chǎn)權(quán)尤其是專利權(quán)越來越成為企業(yè)重要的戰(zhàn)略性資源,能夠使得企業(yè)在面對競爭時保持優(yōu)勢。高新技術(shù)企業(yè)以其高創(chuàng)新高投入高收益的特點,成為了推動技術(shù)進步和經(jīng)濟增長的有力支點,對國民經(jīng)濟的發(fā)展具有十分重要的作用。高新技術(shù)企業(yè)的立足之本在于其核心技術(shù),通過技術(shù)上的創(chuàng)新來增強企業(yè)的核心競爭力是企業(yè)發(fā)展的必然,那么通過專利制度來保護技術(shù)創(chuàng)新是企業(yè)發(fā)展的必需,因而對專利權(quán)進行法律保護應(yīng)該是高新技術(shù)企業(yè)戰(zhàn)略發(fā)展中極為重要的一環(huán)。在國內(nèi),對高新技術(shù)企業(yè)的專利權(quán)保護已經(jīng)逐漸引起重視,但是在具體實踐中還是存在著很多的問題。為了響應(yīng)上海想要創(chuàng)建“科創(chuàng)中心”的時代背景,筆者在分析我國高新技術(shù)企業(yè)專利權(quán)法律保護面臨的困境的的基礎(chǔ)上結(jié)合域外發(fā)達國家的經(jīng)驗提出自己的完善建議。本文共分為五個部分對此問題進行論述：緒論部分主要闡釋本文的研究背景、研究現(xiàn)狀、研究方法以及創(chuàng)新與不足之處,對本文的研究情況進行一個簡單的介紹。第一章主要是理論基礎(chǔ)問題的闡述,首先是對高新技術(shù)企業(yè)以及專利權(quán)的概念及特點分別進行了介紹。在此基礎(chǔ)之上,強調(diào)高新技術(shù)企業(yè)專利權(quán)法律保護的必要性并對面臨的法律風險進行了分析。第二章是對高新技術(shù)企業(yè)專利權(quán)法律保護現(xiàn)狀及瓶頸進行分析,從宏觀和微觀兩個層面列出了現(xiàn)狀保護制度的不足之處。第三章對域外發(fā)達國家的高新技術(shù)企業(yè)專利權(quán)法律保護狀況進行比較并借鑒。日本、美國都是當今世界上的經(jīng)濟強國和專利強國,對其制度經(jīng)驗的吸收對我國專利權(quán)保護的提升大有裨益。第四章是對前文分析研究的升華,從我國目前高新技術(shù)企業(yè)專利權(quán)法律保護存在的問題出發(fā),從宏觀微觀兩個層面對其進行完善,做到前后呼應(yīng)。
【學(xué)位授予單位】：華東師范大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2016
【分類號】：D923.42

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本文編號：1147142