稀土納米熒光粉用于潛指紋可視化,利用了稀土熒光粉發(fā)光強度高和納米粉體與潛指紋具有適宜的附著力特性,顯示的潛指紋具有高對比度、高質(zhì)量和高強度的熒光,特別是上轉(zhuǎn)換納米熒光粉和長余輝納米熒光粉顯示潛指紋能消除背景干擾,然而用紫外光激發(fā)的稀土熒光粉受到基底背景顏色和強背景自發(fā)熒光的干擾,在潛指紋顯現(xiàn)方面應(yīng)用具有局限性。本文綜述了熒光粉合成方法、形貌、粒度和結(jié)構(gòu)以及各種熒光粉對顯示潛指紋特征脊細節(jié)級別的影響,特別是繼續(xù)開發(fā)發(fā)光強度高、背景干擾小、適應(yīng)各種基底表面顯示潛指紋的稀土納米熒光粉仍然是一個挑戰(zhàn)。 

【文章來源】：稀土. 2020,41(02)北大核心CSCD

【文章頁數(shù)】：12 頁

【文章目錄】：
1 NaYF4∶Yb3+,RE3+上轉(zhuǎn)換納米熒光粉
    1.1 水熱法合成上轉(zhuǎn)換納米熒光粉
    1.2 有機溶劑熱法合成上轉(zhuǎn)換納米熒光粉
2 稀土摻雜的氧化物納米熒光粉
3 稀土摻雜金屬酸鹽熒光粉
    3.1 稀土摻雜釩酸鹽熒光粉
    3.2 稀土摻雜鋁酸鹽熒光粉
    3.3 稀土摻雜鈦酸鹽熒光粉
    3.4 稀土摻雜鋯酸鹽熒光粉
4 稀土摻雜其它化合物熒光粉
    4.1 稀土摻雜磷酸鹽納米熒光粉
    4.2 LaOF∶RE3+晶體材料
    4.3 稀土摻雜硅酸鹽熒光粉
5 總結(jié)與展望


【參考文獻】：
期刊論文
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[2]磁性Fe3O4@YVO4:Eu納米熒光材料的合成及其顯現(xiàn)潛指紋性能的研究[J]. 于遨洋,楊瑞琴.  化學研究與應(yīng)用. 2017(12)
[3]稀土上轉(zhuǎn)換發(fā)光納米晶的發(fā)光調(diào)控及傳感應(yīng)用[J]. 王松,程曉紅,梁桂杰,鐘志成.  稀土. 2017(01)
[4]YVO4∶Eu納米熒光材料的合成及其在手印顯現(xiàn)中的應(yīng)用[J]. 王猛.  光譜學與光譜分析. 2015(06)



本文編號：3442992