鎘暴露對HepG2細(xì)胞NRF2信號通路影響
發(fā)布時(shí)間:2019-10-16 06:48
【摘要】:目的探討鎘暴露對HepG2細(xì)胞轉(zhuǎn)錄因子NF-E2相關(guān)因子2(NRF2)信號通路的影響。方法采用甲佲比色法測定CdCl_2(0、1、2.5、5、10、25、50、100、200μmol/L)處理24 h后,HepG2細(xì)胞活力變化;應(yīng)用蛋白免疫印跡法檢測CdCl_2(1、2、5、10、20μmol/L)處理細(xì)胞6 h后,NRF2蛋白水平;采用RT-q PCR方法檢測10μmol/L CdCl_2處理細(xì)胞2、4、6、12、24 h后,GCLC、GCLM、HO1和AKR1C1 m RNA水平變化,檢測CdCl_2(1、2、5、10、20μmol/L)處理細(xì)胞6 h后,GCLC、GCLM、HO1和AKR1C1 m RNA水平變化。結(jié)果 HepG2細(xì)胞活力隨鎘處理劑量升高而降低(P0.05);與對照組(0.60±0.01)比較,1、2、5、10、20μmol/L鎘處理組HepG2細(xì)胞NRF2蛋白表達(dá)水平[分別為(0.65±0.01)、(1.37±0.04)、(1.94±0.05)、(2.24±0.07)、(2.22±0.05)]均明顯升高(P0.05);與對照組比較,鎘處理6 h時(shí),HepG2細(xì)胞內(nèi)GCLC、GCLM、HO1和AKR1C1 m RNA水平[分別為(45.76±7.04)、(114.21±5.23)、(59.52±1.50)、(674.13±27.12)]明顯升高(P0.05);與對照組比較,5μmol/L鎘處理組HepG2細(xì)胞內(nèi)GCLC和GCLM m RNA水平[分別為(24.77±2.16)、(29.93±0.67)]升高,2μmol/L鎘處理組HepG2細(xì)胞內(nèi)HO1和AKR1C1 m RNA水平[分別(28.55±2.02)、(186.32±12.63)]升高(P0.05)。結(jié)論鎘暴露能激活HepG2細(xì)胞系中NRF2信號通路。
【圖文】:
on-ferroni檢驗(yàn);以P<0.05為差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義。2結(jié)果2.1鎘暴露對HepG2細(xì)胞活力影響對照組HepG2細(xì)胞活力為(100±5.19)%,1、2.5、5、10、25、50、100、200μmol/L鎘處理組細(xì)胞活力分別為(107.88±3.92)%、(100.58±3.10)%、(99.94±3.20)%、(85.12±1.68)%、(72.43±1.89)%、(55.27±0.87)%、(33.79±3.95)%和(20.51±3.12)%;隨鎘處理濃度增加,細(xì)胞活力逐漸降低,鎘劑量大于10μmol/L時(shí),細(xì)胞活力明顯低于對照組,差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P<0.05)。2.2鎘處理對HepG2細(xì)胞中NRF2蛋白表達(dá)水平影響(圖1)對照組、1、2、5、10、20μmol/LCdCl2處理組HepG2細(xì)胞中NRF2蛋白表達(dá)水平分別為(0.60±0.01)、(0.65±0.01)、(1.37±0.04)、(1.94±0.05)、(2.24±0.07)和(2.22±0.05);與對照組比較,鎘處理組HepG2細(xì)胞中NRF2蛋白表達(dá)水平明顯升高,差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P<0.05)。注:1:對照組;2~6:1、2、5、10、20μmol/L染鎘組。圖1鎘處理對HepG2細(xì)胞NRF2蛋白表達(dá)影響2.3鎘處理不同時(shí)間對HepG2細(xì)胞NRF2通路下游基因mRNA表達(dá)影響(表1)與對照組比較,,各劑量鎘處理組HepG2細(xì)胞中NRF2通路下游基因GCLC、GCLM、HO1和AKR1C1mRNA表達(dá)水平明顯升高,差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P<0.05),且均在鎘處理6h時(shí)表達(dá)量出現(xiàn)峰值。表1鎘處理不同時(shí)間對HepG2細(xì)胞NRF2下游基因mRNA表達(dá)影響(xs
本文編號:2549854
【圖文】:
on-ferroni檢驗(yàn);以P<0.05為差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義。2結(jié)果2.1鎘暴露對HepG2細(xì)胞活力影響對照組HepG2細(xì)胞活力為(100±5.19)%,1、2.5、5、10、25、50、100、200μmol/L鎘處理組細(xì)胞活力分別為(107.88±3.92)%、(100.58±3.10)%、(99.94±3.20)%、(85.12±1.68)%、(72.43±1.89)%、(55.27±0.87)%、(33.79±3.95)%和(20.51±3.12)%;隨鎘處理濃度增加,細(xì)胞活力逐漸降低,鎘劑量大于10μmol/L時(shí),細(xì)胞活力明顯低于對照組,差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P<0.05)。2.2鎘處理對HepG2細(xì)胞中NRF2蛋白表達(dá)水平影響(圖1)對照組、1、2、5、10、20μmol/LCdCl2處理組HepG2細(xì)胞中NRF2蛋白表達(dá)水平分別為(0.60±0.01)、(0.65±0.01)、(1.37±0.04)、(1.94±0.05)、(2.24±0.07)和(2.22±0.05);與對照組比較,鎘處理組HepG2細(xì)胞中NRF2蛋白表達(dá)水平明顯升高,差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P<0.05)。注:1:對照組;2~6:1、2、5、10、20μmol/L染鎘組。圖1鎘處理對HepG2細(xì)胞NRF2蛋白表達(dá)影響2.3鎘處理不同時(shí)間對HepG2細(xì)胞NRF2通路下游基因mRNA表達(dá)影響(表1)與對照組比較,,各劑量鎘處理組HepG2細(xì)胞中NRF2通路下游基因GCLC、GCLM、HO1和AKR1C1mRNA表達(dá)水平明顯升高,差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P<0.05),且均在鎘處理6h時(shí)表達(dá)量出現(xiàn)峰值。表1鎘處理不同時(shí)間對HepG2細(xì)胞NRF2下游基因mRNA表達(dá)影響(xs
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