本文選題：十溴聯(lián)苯醚 + 印記基因　； 參考：《環(huán)境與健康雜志》2015年07期

【摘要】：目的探討十溴聯(lián)苯醚(BDE-209)暴露對人胚胎干細(xì)胞系(FY-h ES-10細(xì)胞)印記基因表達(dá)的影響。方法將FYh ES-10細(xì)胞分別暴露于含終濃度為0(溶劑對照,DMSO濃度為1‰)、1、10、100 nmol/L BDE-209的培養(yǎng)基,每24 h換液1次,連續(xù)暴露96 h。測定Ki-67陽性率及母源性印記基因H19、KCNK9、DLX5、UBE3A和父源性印記基因SNRPN、MEST、PEG10、GLIS3的表達(dá)水平以及基因組DNA總體甲基化水平。結(jié)果與溶劑對照組比較,各劑量BDE-209暴露組FY-h ES-10細(xì)胞的Ki-67陽性率和基因組總體DNA甲基化水平均較低,差異有統(tǒng)計學(xué)意義(P0.05);且隨著BDE-209暴露劑量的升高,而FY-h ES-10細(xì)胞的Ki-67陽性率呈下降趨勢。各劑量BDE-209暴露組FY-h ES-10細(xì)胞內(nèi)H19、KCNK9、UBE3A、SNRPN、PEG10基因的表達(dá)水平均較低,而DLX5、GLIS3基因的表達(dá)水平均較高,差異有統(tǒng)計學(xué)意義(P0.05);MEST基因的表達(dá)水平均無明顯改變。且隨著BDE-209暴露劑量的升高,FY-h ES-10細(xì)胞H19、KCNK9、PEG10基因的表達(dá)水平均呈下降趨勢,GLIS3基因的表達(dá)水平呈上升趨勢。結(jié)論 BDE-209有可能通過影響印記基因的表達(dá)從而產(chǎn)生胚胎發(fā)育毒性。
[Abstract]:Objective to investigate the effect of decabromodiphenyl ether (BDE-209) exposure on the expression of imprinted genes in human embryonic stem cell line (FY-h ES-10). Methods FYh ES-10 cells were exposed to a medium containing a final concentration of 0 (1 鈥，

本文編號：1789763