新型液晶分子印跡整體柱的制備及評(píng)價(jià)
本文關(guān)鍵詞:新型液晶分子印跡整體柱的制備及評(píng)價(jià),,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
【摘要】:液晶基質(zhì)的分子印跡聚合物是一種新興的分子識(shí)別材料,液晶單體的加入可替代部分化學(xué)交聯(lián)劑,利用液晶基元的剛性特性,可使制備的分子印跡聚合物在很低的交聯(lián)度水平下依然維持其識(shí)別性能,可有效解決傳統(tǒng)MIP常遇到的位點(diǎn)包埋、印跡效率低和傳質(zhì)慢等缺點(diǎn),因此具有良好發(fā)展?jié)摿。本文以兩種新方法制備了液晶分子印跡整體柱,并對(duì)其制備條件、色譜條件和物理形態(tài)等方面進(jìn)行了考察研究,結(jié)果如下:1大分子擁擠是一種有效地促進(jìn)分子印跡效果的新方法。在本文中,這一個(gè)概念被引入到液晶低交聯(lián)分子印跡整體柱的制備中去,我們同樣先以三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯為為反應(yīng)單體,甲苯和十二醇為致孔劑在不銹鋼管柱中合成整體柱骨架,然后將以氫化奎尼丁為模板,聚甲基丙烯酸甲酯為大分子擁擠試劑,4-甲基苯基雙環(huán)己基乙烯為液晶單體,甲基丙烯酸為功能單體,二甲基丙烯酸乙二醇酯為交聯(lián)劑的分子印跡聚合物接枝到整體柱骨架表面。對(duì)聚合過(guò)程中一些重要的參數(shù),如模板與功能單體的比例,大分子擁擠試劑的濃度和交聯(lián)度等進(jìn)行了系統(tǒng)考察。結(jié)果顯示,實(shí)驗(yàn)所制備的氫化奎尼丁分子印跡整體柱可以在8 min內(nèi)實(shí)現(xiàn)對(duì)手性物質(zhì)奎尼丁和奎寧的分離,分離度可達(dá)2.96。同時(shí)加入大分子擁擠試劑的分子印跡整體柱顯示出更快地分離速度和更高的柱效。這些結(jié)果表明,在低交聯(lián)度分子印跡整體柱的制備中加入大分子擁擠試劑,可以很好地強(qiáng)化印跡效果,并且起到改善柱性能的作用。2加入模板單體來(lái)制備分子印跡整體柱被證實(shí)可以起到加強(qiáng)印跡效果,固化模板的作用。本文以三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯為反應(yīng)單體,甲苯和十二醇為致孔劑在不銹鋼管柱中合成整體柱骨架,隨后將以2,4-二氨基-6-甲基-1,3,5-三嗪為模板,2,4-二氨基-6-(甲基丙烯酰氧基)酯-1,3,5-三嗪為模板單體,4-甲基苯基雙環(huán)己基乙烯為液晶單體,甲基丙烯酸為功能單體的分子印跡聚合物接枝到整體柱骨架表面。通過(guò)電鏡掃描和氮吸附測(cè)試研究了其物理特性,同時(shí)又對(duì)其色譜條件進(jìn)行了系統(tǒng)考察。結(jié)果顯示即使在完全不使用傳統(tǒng)化學(xué)交聯(lián)劑的情況下,我們制備的分子印跡整體柱仍然具有很好的選擇性和印跡效果。同時(shí)含有模板單體的分子印跡整體柱印跡效果更佳。結(jié)果表明,加入模板單體是增強(qiáng)低交聯(lián)度下分子印跡作用的有效手段。
【關(guān)鍵詞】:分子印跡 整體柱 大分子擁擠 模板單體 液晶單體
【學(xué)位授予單位】:天津醫(yī)科大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2015
【分類號(hào)】:R943
【目錄】:
- 中文摘要4-5
- Abstract5-9
- 縮略語(yǔ)/符號(hào)說(shuō)明9-10
- 一、前言10-15
- 1.1 分子印跡技術(shù)10
- 1.2 分子印跡技術(shù)的原理10-11
- 1.3 整體柱技術(shù)11-12
- 1.4 選題依據(jù)12-15
- 二、含大分子擁擠試劑的液晶分子印跡整體柱的制備及評(píng)價(jià)15-31
- 2.1 引言15-17
- 2.2 試劑及儀器17-18
- 2.2.1 儀器17-18
- 2.2.2 試劑18
- 2.3 整體柱的制備方法18-20
- 2.3.1 骨架材料的制備18-19
- 2.3.2 接枝MIPs的制備19-20
- 2.4 結(jié)果與討論20-30
- 2.4.1 整體柱制備參數(shù)的研究20-27
- 2.4.2 整體柱色譜參數(shù)的研究27-30
- 2.5 小結(jié)30-31
- 三、組合模板單體和液晶單體的分子印跡整體柱的制備及評(píng)價(jià)31-45
- 3.1 引言31-33
- 3.2 試劑與儀器33-34
- 3.2.1 儀器33
- 3.2.2 試劑33-34
- 3.3 整體柱的制備方法34-35
- 3.3.1 骨架材料的制備34-35
- 3.3.2 接枝MIPs的制備35
- 3.4 結(jié)果與討論35-44
- 3.4.1 整體柱制備參數(shù)的研究35-38
- 3.4.2 整體柱色譜參數(shù)的研究38-39
- 3.4.3 印跡整體柱的表征39-44
- 3.5 小結(jié)44-45
- 結(jié)論45-46
- 參考文獻(xiàn)46-52
- 發(fā)表論文和參加科研情況說(shuō)明52-54
- 綜述 分子印跡技術(shù)在手性識(shí)別中的應(yīng)用54-77
- 綜述參考文獻(xiàn)70-77
- 致謝77
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本文編號(hào):451981
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