RNA干擾MMP-2基因?qū)θ司铙w上皮細(xì)胞增殖及移行能力的影響
發(fā)布時(shí)間:2023-02-27 08:18
目的研究RNA干擾基質(zhì)金屬蛋白酶-2(matrix metalloproteinase-2,MMP-2)表達(dá)對(duì)體外培養(yǎng)的人晶狀體上皮細(xì)胞(human lens epithelial cells,hLECs)增殖、移行的影響。探討RNA干擾技術(shù)抑制LECs增殖、移行的可行性,以探索防治后發(fā)性白內(nèi)障的新方法。方法設(shè)計(jì)構(gòu)建含有靶向MMP-2的短發(fā)夾RNA(short hairpin RNA,shRNA)質(zhì)粒載體和不含靶向MMP-2的shRNA陰性對(duì)照質(zhì)粒載體,體外轉(zhuǎn)染hLECs SRA01/04,分別標(biāo)記為MMP-2沉默組和陰性對(duì)照組;以等體積培養(yǎng)液代替轉(zhuǎn)染質(zhì)粒培養(yǎng)作為空白對(duì)照組。實(shí)時(shí)熒光定量PCR和Western blot檢測(cè)轉(zhuǎn)染后24 h MMP-2 mRNA及MMP-2蛋白的表達(dá)水平。MTT比色法測(cè)定細(xì)胞轉(zhuǎn)染后24 h、48 h以及72 h時(shí)hLECs的增殖能力。細(xì)胞劃痕實(shí)驗(yàn)方法測(cè)定轉(zhuǎn)染后24 h、48 h時(shí)hLECs的移行愈合率。結(jié)果轉(zhuǎn)染24 h后MMP-2沉默組mRNA及其蛋白的相對(duì)表達(dá)水平分別為0.202±0.075、80.856±2.165,與空白對(duì)照組1.041±0.163和...
【文章頁(yè)數(shù)】:5 頁(yè)
【文章目錄】:
1 材料與方法
2 結(jié)果
3 討論
本文編號(hào):3750994
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