基于遺傳算法優(yōu)化青少年下頜磨牙后區(qū)生長潛力預(yù)測方法研究
發(fā)布時(shí)間:2024-05-11 23:40
目的探討影響青少年下頜磨牙后區(qū)生長潛力的因素,并分析基于遺傳算法(genetic algorithms,GAS)優(yōu)化青少年下頜磨牙后區(qū)生長潛力非線性預(yù)測方程的準(zhǔn)確性。方法選取2017—2019年于吉林大學(xué)口腔醫(yī)院正畸科就診的符合納入標(biāo)準(zhǔn)的初診患者306例。通過頭顱定位側(cè)位片測量下頜磨牙后間隙及頸椎測量指標(biāo),采用多元線性回歸分析下頜磨牙后間隙與年齡、下頜第三磨牙牙齡、頸椎骨齡等的相關(guān)性,選取最強(qiáng)相關(guān)因子構(gòu)建線性回歸方程和基于GAS優(yōu)化的非線性方程,并比較兩個(gè)預(yù)測方程的準(zhǔn)確性。結(jié)果 (1)不同矢狀骨面型患者下頜磨牙后間隙不同,骨性Ⅰ類錯(cuò)畸形組[(9.99±2.53)mm]與骨性Ⅲ類錯(cuò)畸形組[(10.53±3.53)mm]比較,差異無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P> 0.05);而骨性Ⅱ類錯(cuò)畸形組患者下頜磨牙后間隙[(8.98±2.71)mm]小于骨性Ⅰ類和Ⅲ類錯(cuò)畸形組,差異均有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(均P <0.05)。故將所有患者分為骨性Ⅰ+Ⅲ類錯(cuò)畸形組和骨性Ⅱ類錯(cuò)畸形組。(2)下頜磨牙后間隙(RMS)與下頜第三磨牙牙齡(YL)呈正相關(guān)關(guān)系,兩組分別構(gòu)建線性回歸方程和基于GAS優(yōu)化的非線性方程如下。骨性...
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本文編號:3970539
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圖1下頜磨牙后間隙測量示意圖
由于部分青少年患者下頜第二磨牙尚未完全萌出,故以下頜第一磨牙為基準(zhǔn)測量下頜磨牙后間隙。根據(jù)參考文獻(xiàn)[2]的測量方法,選用眶耳平面(FH平面)為參考線,過下頜升支前緣最凹點(diǎn),做FH平面的垂線,下頜第一磨牙牙冠遠(yuǎn)中最凸點(diǎn)到該垂線的距離即為下頜第一磨牙后間隙(圖1)。1.2.3下頜第....
圖2采用Nolla法評估牙齡示意圖(引自參考文獻(xiàn)[8])
采用Nolla法評估下頜第三磨牙牙齡,將牙齒發(fā)育過程分為10個(gè)階段(圖2),包括牙囊尚未出現(xiàn)(階段0)、牙囊存在(階段1)、牙冠鈣化(階段2~6)、牙根鈣化(階段7~9)、牙根完全形成(階段10),并記為0~10分,當(dāng)牙齒發(fā)育介于兩個(gè)連續(xù)階段之間,可適當(dāng)分別加0.2、0.5或0.....
圖3頸椎骨標(biāo)志點(diǎn)示意圖(引自參考文獻(xiàn)[9])
(1)標(biāo)志點(diǎn)的確定:C2d、C3d、C4d分別為C2、C3和C4椎體下緣的最凹點(diǎn);C2a、C2p、C3la、C3lp、C4la、C4lp分別為C2、C3、C4椎體下緣的最前部和最后部;C3ua、C3up、C4ua、C4up分別為C3、C4椎體上緣的最前部和最后部;C3um、C4u....
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