發(fā)布時間：2018-07-08 09:33

  本文選題：ICP-MS + 粉塵��； 參考：《中國工業(yè)醫(yī)學(xué)雜志》2014年01期

【摘要】：采用焦磷酸消解試樣,經(jīng)過濾,將游離二氧化硅分離,利用氫氟酸溶解硅酸鹽測得全硅,用電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)儀分別測得消解液和濾液中的硅,間接測得游離二氧化硅含量。硅在0~1 000μg/L內(nèi)呈良好的線性關(guān)系(r=0.999 5),方法的檢出限小于0.35μg/L,試樣加標(biāo)回收率在91.35%~108.16%,精密度小于3.41%。該方法快速、準(zhǔn)確、靈敏、簡便,適用于工作場所粉塵中游離二氧化硅含量的測定。
[Abstract]:Using pyrophosphoric acid to dissolve the sample, the free silica was separated and the silicon was measured by hydrofluoric acid dissolved silicate. The silicon in the digestion solution and the filtrate were measured by inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS), and the content of free silica was measured indirectly. A good linear relationship between silicon in 0~1 000 g/L was found, and the method was detected by the method. The output limit is less than 0.35 mu g/L, the recovery rate of the sample is 91.35%~108.16%, and the precision is less than 3.41%.. The method is fast, accurate, sensitive and simple. It is suitable for the determination of free silica content in the dust of the workplace.
【作者單位】： 河北聯(lián)合大學(xué)公共衛(wèi)生學(xué)院;河北省煤礦衛(wèi)生與安全重點實驗室;
【分類號】：R135.2

【參考文獻】

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【共引文獻】

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本文編號：2106995