北方微電子機(jī)械怎么樣_北方微電子
本文關(guān)鍵詞:北方微電子,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
公司簡(jiǎn)介
北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司,,作為國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的高端半導(dǎo)體裝備制造企業(yè),我們所開(kāi)發(fā)的刻蝕設(shè)備(ETCH)、化學(xué)氣相沉積設(shè)備(CVD)、物理氣相沉積設(shè)備(PVD)等核心產(chǎn)品已廣泛應(yīng)用于集成電路(Semiconductor)、半導(dǎo)體照明(LED)、微機(jī)電系統(tǒng) (MEMS)、功率半導(dǎo)體(Power IC)、先進(jìn)封裝(Advanced Packaging)、光通信(Optical Communication)及化合物半導(dǎo)體(Compound Semi)等尖端領(lǐng)域。北方微電子經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展,形成了刻蝕工藝、薄膜工藝、等離子技術(shù)、精密機(jī)械、自動(dòng)化及軟件、超高真空等核心技術(shù)優(yōu)勢(shì),為微電子產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展提供了值得信賴(lài)的產(chǎn)品和服務(wù)。秉承科技創(chuàng)新,用戶(hù)至上的理念,北方微電子正致力于成為一家具有國(guó)際影響力的高端裝備及工藝解決方案提供商。
企業(yè)文化
我們的使命
生活更美好,環(huán)境更自然。
我們的價(jià)值觀
以客戶(hù)為導(dǎo)向的持續(xù)創(chuàng)新。
我們的愿景
致力于成為一家值得信賴(lài)并受人尊重,在微電子裝備領(lǐng)域擁有領(lǐng)先技術(shù),具有國(guó)際影響力的高端裝備及工藝解決方案提供商。
我們的宗旨
精良品質(zhì),卓越服務(wù),中國(guó)制造。
我們的精神
創(chuàng)造精良,打造民族自尊。
成長(zhǎng)歷程
2012年
半導(dǎo)體照明領(lǐng)域ITO-sputter設(shè)備實(shí)現(xiàn)銷(xiāo)售
先進(jìn)封裝領(lǐng)域Polaris TSV PVD設(shè)備實(shí)現(xiàn)銷(xiāo)售
光波導(dǎo)領(lǐng)域GSE200系列等離子刻蝕機(jī)實(shí)現(xiàn)銷(xiāo)售
成立合肥、武漢、新竹客戶(hù)服務(wù)中心
2011年
半導(dǎo)體照明領(lǐng)域ELEDE® 330 ICP等離子刻蝕機(jī)實(shí)現(xiàn)批量銷(xiāo)售,大陸地區(qū)市場(chǎng)占有率超過(guò)50%
12英寸65nm高密度等離子刻蝕機(jī)參加“十一五”國(guó)家重大科技成就展
12英寸65/45nm NMC612A高密度等離子刻蝕機(jī)通過(guò)中芯國(guó)際北京工廠生產(chǎn)線工藝驗(yàn)證
“十二五”《極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝》重大專(zhuān)項(xiàng)(02專(zhuān)項(xiàng))“45-22nm銅互連PVD設(shè)備研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目通過(guò)立項(xiàng)評(píng)審
8英寸NMC508A高密度等離子刻蝕機(jī)實(shí)現(xiàn)對(duì)上海華虹NEC公司的二次銷(xiāo)售
微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)領(lǐng)域DSE200系列深硅等離子刻蝕機(jī)實(shí)現(xiàn)銷(xiāo)售
成立東莞、蕪湖、西安客戶(hù)服務(wù)中心
2010年
半導(dǎo)體照明領(lǐng)域ELEDE® 330 ICP刻蝕機(jī)實(shí)現(xiàn)銷(xiāo)售
8英寸NMC508A高密度等離子刻蝕機(jī)實(shí)現(xiàn)對(duì)國(guó)家先導(dǎo)工藝研發(fā)中心的銷(xiāo)售
國(guó)家“十二五”《極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝》重大專(zhuān)項(xiàng)(02專(zhuān)項(xiàng))“32-22nm柵刻蝕機(jī)產(chǎn)品研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目正式啟動(dòng)
2009年
“100nm高密度等離子刻蝕機(jī)研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”榮獲國(guó)務(wù)院頒發(fā)的國(guó)家科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)
國(guó)家“十一五”《極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝》重大專(zhuān)項(xiàng)(02專(zhuān)項(xiàng))“65/45nmPVD設(shè)備研發(fā)”項(xiàng)目正式啟動(dòng)
2008年
“100nm高密度等離子刻蝕機(jī)研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”榮獲北京市科學(xué)技術(shù)一等獎(jiǎng)
國(guó)家“十一五”《極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝》重大專(zhuān)項(xiàng)(02專(zhuān)項(xiàng))“90/65nm刻蝕機(jī)研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目正式啟動(dòng)
8英寸NMC508A高密度等離子刻蝕機(jī)實(shí)現(xiàn)對(duì)上海宏力半導(dǎo)體公司的銷(xiāo)售
12英寸90/65nm NMC612高密度等離子刻蝕機(jī)進(jìn)入中芯國(guó)際北京工廠
2007年
公司北京亦莊經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)產(chǎn)業(yè)化基地正式奠基
8英寸NMC508A高密度等離子刻蝕機(jī)實(shí)現(xiàn)對(duì)上海華虹NEC公司的銷(xiāo)售
國(guó)家“十一五”科技支撐計(jì)劃“高密度等離子刻蝕機(jī)反應(yīng)室系統(tǒng)優(yōu)化與工藝制程技術(shù)開(kāi)發(fā)”項(xiàng)目正式啟動(dòng)
2006年
“100nm高密度等離子刻蝕機(jī)”項(xiàng)目通過(guò)國(guó)家科技部和北京市政府組織的聯(lián)合驗(yàn)收
8英寸100nm高密度等離子刻蝕機(jī)與客戶(hù)簽訂批量銷(xiāo)售訂單
成立上?蛻(hù)服務(wù)中心
2005年
8英寸100nm高密度等離子刻蝕機(jī)進(jìn)入中芯國(guó)際天津工廠
通過(guò)由BVQi審核的ISO9001、ISO14001和OHSAS18001管理體系認(rèn)證
成立天津客戶(hù)服務(wù)中心
成立美國(guó)硅谷辦事處
2004年
集成電路制造裝備和工藝試驗(yàn)平臺(tái)建成,潔凈廠房投入使用
第一臺(tái)8英寸100nm高密度等離子刻蝕機(jī)開(kāi)發(fā)成功
成立日本東京辦事處
2003年
國(guó)家“十五”863計(jì)劃集成電路制造裝備重大專(zhuān)項(xiàng)“100nm高密度等離子刻蝕機(jī)”項(xiàng)目正式啟動(dòng)
公司研發(fā)中心選址中關(guān)村電子城科技園區(qū),落成并啟用
2002年
國(guó)家“十五”863計(jì)劃集成電路制造裝備重大專(zhuān)項(xiàng)——“100nm高密度等離子刻蝕機(jī)”項(xiàng)目通過(guò)科技部、北京市政府的立項(xiàng)批復(fù)
2001年
北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司注冊(cè)成立
社會(huì)榮譽(yù)
2013
吳軍博士入選“國(guó)家千人計(jì)劃”和 “北京市海聚工程”——中共中央組織部、中共北京市委組織部
董博宇博士入選“北京市海聚工程”——中共北京市委組織部
2012
公司總裁趙晉榮獲得“2011-2012年度中國(guó)LED行業(yè)優(yōu)秀企業(yè)家”稱(chēng)號(hào)——中國(guó)光學(xué)光電子行業(yè)協(xié)會(huì)
公司總裁趙晉榮入選“科技北京百名領(lǐng)軍人才培養(yǎng)工程”——中共北京市委組織部、北京市科學(xué)技術(shù)委員會(huì)
公司總裁趙晉榮獲得“北京市有突出貢獻(xiàn)的科學(xué)、技術(shù)、管理人才”獎(jiǎng)勵(lì)——中共北京市委組織部
ELEDE® 330 ICP刻蝕機(jī)榮獲“中國(guó)半導(dǎo)體創(chuàng)新產(chǎn)品和技術(shù)項(xiàng)目”獎(jiǎng)——中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)
“2012中國(guó)新興產(chǎn)業(yè)最具投資價(jià)值企業(yè)”——高工產(chǎn)業(yè)研究院
“SEMI中國(guó)產(chǎn)業(yè)獎(jiǎng)”——SEMI 中國(guó)
“2011中國(guó)LED行業(yè)特別獎(jiǎng)”——中國(guó)光學(xué)光電子行業(yè)協(xié)會(huì)
“2012最具潛力LED企業(yè)”——OFWEEK光電新聞網(wǎng)
2012“芯光杯”優(yōu)秀金獎(jiǎng)——中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)
公司總裁趙晉榮獲得“極光獎(jiǎng)”之“最佳LED首腦獎(jiǎng)”——LED INSIDE
ELEDE® 330 ICP 等離子刻蝕機(jī)獲得“極光獎(jiǎng)”之“中國(guó)市場(chǎng)-最佳LED設(shè)備獎(jiǎng)” ——LED INSIDE
2011
2011中關(guān)村高成長(zhǎng)企業(yè)TOP100——北京中關(guān)村高新技術(shù)企業(yè)協(xié)會(huì)
北京市科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)(大產(chǎn)能高亮度LED刻蝕機(jī)研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化)——北京市
第六屆中國(guó)半導(dǎo)體創(chuàng)新產(chǎn)品(LED刻蝕機(jī))——中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)
第二屆北京市發(fā)明專(zhuān)利二等獎(jiǎng)以及中國(guó)專(zhuān)利優(yōu)秀獎(jiǎng)——國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局
公司副董事長(zhǎng)耿錦啟獲得北京市“首都勞動(dòng)獎(jiǎng)?wù)?rdquo;
2010
2010年度優(yōu)秀團(tuán)隊(duì)獎(jiǎng)——國(guó)家科技重大專(zhuān)項(xiàng)02專(zhuān)項(xiàng)實(shí)施管理辦公室
劉韶華博士、王厚工博士入選“國(guó)家千人計(jì)劃”和“北京市海聚工程”
公司總裁趙晉榮獲得國(guó)家科技部頒發(fā)的“十一五國(guó)家科技計(jì)劃執(zhí)行突出貢獻(xiàn)獎(jiǎng)”
2009
國(guó)家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步二等獎(jiǎng)(100納米等離子刻蝕機(jī)項(xiàng)目)——國(guó)務(wù)院
全國(guó)企事業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)試點(diǎn)單位——國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局
最受關(guān)注本土半導(dǎo)體設(shè)備與材料公司——SEMI中國(guó)
丁培軍博士入選首批“國(guó)家千人計(jì)劃” 和“北京市海聚工程”
2008
北京市科技進(jìn)步一等獎(jiǎng)(100納米等離子刻蝕機(jī)項(xiàng)目)——北京市
公司副總裁趙晉榮入選北京市百千萬(wàn)人才工程
北京市制造業(yè)信息化工程“設(shè)計(jì)制造管理集成應(yīng)用”示范企業(yè)——北京市科學(xué)技術(shù)委員會(huì)
中國(guó)制造業(yè)信息化工程風(fēng)云榜“十大創(chuàng)新領(lǐng)袖”——《中國(guó)制造業(yè)信息化》雜志社
信息北京十大應(yīng)用創(chuàng)新成果“應(yīng)用典范”獎(jiǎng)——北京信息化協(xié)會(huì)
中華工人先鋒號(hào)——中華全國(guó)總工會(huì)
榮獲SEMI組織評(píng)選“最受關(guān)注本土半導(dǎo)體設(shè)備與材料公司”稱(chēng)號(hào)
2007
首批“北京市專(zhuān)利示范單位”——北京市知識(shí)產(chǎn)權(quán)局
首都勞動(dòng)獎(jiǎng)狀——北京市總工會(huì)
2006
第一屆中國(guó)半導(dǎo)體創(chuàng)新產(chǎn)品(8英寸等離子刻蝕機(jī))——中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)
北京市高技術(shù)產(chǎn)業(yè)2006重大經(jīng)濟(jì)事件——北京市發(fā)展改革委員會(huì)
北京電子信息產(chǎn)業(yè)十大杰出成就——北京市工業(yè)促進(jìn)局
公司總裁耿錦啟獲得“北京電子信息產(chǎn)業(yè)十大杰出貢獻(xiàn)者”榮譽(yù)
公司總裁耿錦啟 “2006年中國(guó)半導(dǎo)體制造業(yè)年度人物” ——《半導(dǎo)體國(guó)際》
2005
北京市職工優(yōu)秀技術(shù)創(chuàng)新成果三等獎(jiǎng)(100納米等離子刻蝕機(jī)研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目)——北京市
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