40納米NBTI建模及其可靠性設(shè)計(jì)研究
本文關(guān)鍵詞: 負(fù)偏壓溫度不穩(wěn)定性 R-D T/D 參數(shù)提取 可靠性設(shè)計(jì) 時(shí)鐘偏移 出處:《華東師范大學(xué)》2017年碩士論文 論文類(lèi)型:學(xué)位論文
【摘要】:隨著晶體管尺寸的不斷縮小,負(fù)偏壓溫度不穩(wěn)定性(Negative Bias Tenperature Instability,NBTI)已經(jīng)成為制約電路可靠性最重要的因素。本論文基于40nmCMOS工藝對(duì)NBTI效應(yīng)模型參數(shù)提取進(jìn)行研究,并采用VeritogA對(duì)模型及參數(shù)進(jìn)行描述,構(gòu)建NBTI等效電壓源元件,最后對(duì)時(shí)鐘網(wǎng)絡(luò)時(shí)鐘偏移NBT[退化進(jìn)行了仿真及分析。主要工作及研究?jī)?nèi)容如下:1)基于40nm CMOS工藝單管PM0S退化測(cè)試數(shù)據(jù)對(duì)NBTI的反應(yīng)-擴(kuò)散(R-D)模型以及缺陷捕獲/釋放(T/D)模型進(jìn)行了參數(shù)提取,提出并建立了(Coarse-Fine)兩步參數(shù)提取方法。2)基于所提參數(shù)編寫(xiě)VerilogA退化模型元件,將其內(nèi)嵌入Hspice以及Spectre的PDK庫(kù)中。并采用該元件對(duì)NBTI作用下的反向器退化特性進(jìn)行了仿真分析,結(jié)果表明該方法可有效反映門(mén)邏輯單元的時(shí)域退化特性。3)通過(guò)數(shù)值仿真對(duì)反相器的傳輸延遲進(jìn)行建模,并提出一種無(wú)門(mén)控時(shí)鐘網(wǎng)絡(luò)偏移的NBTI退化分析計(jì)算方法;诖朔椒▽(duì)基準(zhǔn)電路ISCAS85-S38417的時(shí)鐘網(wǎng)絡(luò)NBTI退化進(jìn)行計(jì)算,并將其結(jié)果與Hspice仿真結(jié)果進(jìn)行比對(duì),結(jié)果表明誤差約為3.3%,可滿(mǎn)足時(shí)鐘網(wǎng)絡(luò)退化分析計(jì)算需求。同時(shí)利用NBTI等效電壓源對(duì)帶門(mén)控時(shí)鐘網(wǎng)絡(luò)偏移進(jìn)行了仿真及預(yù)測(cè),并根據(jù)仿真結(jié)果對(duì)時(shí)鐘網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行了優(yōu)化。本論文所建模型參數(shù)提取方法及電路可靠性設(shè)計(jì)方法可為高性能高可靠性集成電路設(shè)計(jì)提供重要依據(jù)及參考。
[Abstract]:As the size of the transistor shrinks, the negative bias temperature instability is negative Bias Tenperature Instability. NBTI has become the most important factor that restricts the reliability of the circuit. In this paper, the extraction of NBTI effect model parameters based on 40nm CMOS process is studied. The model and parameters are described by VeritogA, and NBTI equivalent voltage source elements are constructed. Finally, the clock network clock is offset by NBT. [Simulation and analysis of degradation. The main work and research contents are as follows: 1) Reaction-Diffusion R-D) based on 40nm PM0S degradation test data of single-tube PM0S in 40nm CMOS process. The model and the defect capture / release T / D model were used to extract the parameters. A two-step parameter extraction method of Coarse-Fine. 2) is proposed and established. 2) based on the proposed parameters, the VerilogA degradation model elements are compiled. It is embedded in the PDK library of Hspice and Spectre, and the degradation characteristics of the inverter under the action of NBTI are simulated and analyzed by using this element. The results show that this method can effectively reflect the time-domain degradation characteristics of gate logic units. 3) the transmission delay of the inverter is modeled by numerical simulation. A method of NBTI degradation analysis without gating clock network offset is proposed, based on which the NBTI degradation of clock network of reference circuit ISCAS85-S38417 is calculated. The results are compared with the results of Hspice simulation, and the results show that the error is about 3.3%. It can meet the needs of clock network degradation analysis and calculation. At the same time, the offset of clock network with gated control is simulated and predicted by using NBTI equivalent voltage source. According to the simulation results, the clock network is optimized. The model parameter extraction method and the circuit reliability design method can provide important basis and reference for the design of high performance and high reliability integrated circuit.
【學(xué)位授予單位】:華東師范大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2017
【分類(lèi)號(hào)】:TN386
【相似文獻(xiàn)】
相關(guān)期刊論文 前10條
1 程彬杰,邵志標(biāo),王莉萍,于忠,唐天同;基于自動(dòng)微分技術(shù)的器件模型參數(shù)提取算法[J];固體電子學(xué)研究與進(jìn)展;2002年01期
2 呂玉冰;祝曉笑;翁雪濤;岳志強(qiáng);蘇玉棉;;基于CCD工藝提取MOS模型的電路驗(yàn)證[J];半導(dǎo)體光電;2012年02期
3 楊兵;;基于BSIM3v3模型參數(shù)提取[J];電子世界;2011年06期
4 張少勇,黃風(fēng)義,池毓宋,吳忠潔,姜楠;基于區(qū)域化的CMOS模型參數(shù)提取方法[J];電氣電子教學(xué)學(xué)報(bào);2005年03期
5 吳慶國(guó);居悌;;晶體管模型參數(shù)提取的一種新方法[J];南京郵電學(xué)院學(xué)報(bào);1989年04期
6 孫玲玲,劉軍;微波HBT建模技術(shù)研究綜述[J];電子學(xué)報(bào);2005年02期
7 宋文斌;趙恕昆;;器件模型參數(shù)提取過(guò)程中的數(shù)據(jù)格式轉(zhuǎn)化程序設(shè)計(jì)[J];軟件工程師;2012年03期
8 李海,王紀(jì)民,劉志宏;優(yōu)化的BSIM3V3模型參數(shù)提取策略[J];微電子學(xué);2000年06期
9 邢薇薇,劉渭濱,袁保宗;基于實(shí)數(shù)編碼遺傳算法的超二次模型參數(shù)提取計(jì)算[J];北方交通大學(xué)學(xué)報(bào);2003年05期
10 宋文斌;;一種用于器件模型參數(shù)提取的芯片測(cè)試數(shù)據(jù)的獲取方法[J];電子世界;2012年05期
相關(guān)會(huì)議論文 前4條
1 葛霽;劉新宇;申華軍;陳延胡;吳德馨;;GaAs HBT VBIC模型參數(shù)的提取[A];2005'全國(guó)微波毫米波會(huì)議論文集(第三冊(cè))[C];2006年
2 程加力;李壽林;韓波;翟國(guó)華;孫玲;高建軍;;一種改進(jìn)的射頻微波MOSFET模型參數(shù)提取技術(shù)[A];2011年全國(guó)微波毫米波會(huì)議論文集(下冊(cè))[C];2011年
3 章曉文;趙文彬;;Relpro~+可靠性模型參數(shù)提取技術(shù)研究[A];中國(guó)電子學(xué)會(huì)可靠性分會(huì)第十三屆學(xué)術(shù)年會(huì)論文選[C];2006年
4 章曉文;張曉明;韓孝勇;;封裝級(jí)可靠性模型參數(shù)提取系統(tǒng)[A];第三屆電子產(chǎn)品可靠性與環(huán)境試驗(yàn)技術(shù)經(jīng)驗(yàn)交流會(huì)論文集[C];2001年
相關(guān)博士學(xué)位論文 前1條
1 杜明星;功率器件狀態(tài)監(jiān)測(cè)的關(guān)鍵問(wèn)題研究[D];天津大學(xué);2012年
相關(guān)碩士學(xué)位論文 前10條
1 吳永治;集成電路器件模型參數(shù)提取軟件的研究與實(shí)現(xiàn)[D];杭州電子科技大學(xué);2015年
2 王燕玲;40納米NBTI建模及其可靠性設(shè)計(jì)研究[D];華東師范大學(xué);2017年
3 李平;NPT型IGBT電氣模型及參數(shù)提取[D];浙江大學(xué);2009年
4 謝達(dá)勇;CMOS模型參數(shù)提取方法的研究[D];華東師范大學(xué);2002年
5 劉超;基于高低壓CMOS兼容工藝Bsim3v3模型參數(shù)提取的研究[D];電子科技大學(xué);2013年
6 郭超;MOS器件模型參數(shù)提取[D];電子科技大學(xué);2004年
7 朱翔;基于CMOS兼容工藝的器件模型和參數(shù)提取的研究[D];電子科技大學(xué);2008年
8 滕浙乾;SOI/CMOS器件建模研究與模型參數(shù)提取[D];國(guó)防科學(xué)技術(shù)大學(xué);2010年
9 張林;SiGe HBT基于物理的Scalable模型及InP HBT模型研究[D];杭州電子科技大學(xué);2013年
10 張少勇;MOSFET模型及MUX/DEMUX電路設(shè)計(jì)[D];東南大學(xué);2006年
,本文編號(hào):1447403
本文鏈接:http://sikaile.net/shoufeilunwen/xixikjs/1447403.html