中國專利激增:區(qū)域差異、驅動因素與協(xié)調發(fā)展對策研究
本文關鍵詞:中國專利激增:區(qū)域差異、驅動因素與協(xié)調發(fā)展對策研究,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
【摘要】:在知識經濟時代里,知識產權尤其是專利對于經濟社會發(fā)展的作用越發(fā)突出。中國經濟和專利數量在過去的數十年里都實現了“騰飛”,創(chuàng)造了舉世關注的中國速度和中國“奇跡”。自1985年中國正式建立專利制度以來,中國專利數量就快速增長,尤其是2001年以來,中國發(fā)明專利申請量年均增速在25%~30%左右。這種持續(xù)十余年的高增長在全球范圍內是絕無僅有的。中國專利增長一方面一定程度上意味著創(chuàng)新能力的提升,而另一方面也招致專利泡沫、垃圾專利等質疑甚至批判。理論界和政府最關注的問題是,哪些因素、以何種機制驅動了專利激增?相關驅動因素尤其是專利促進政策是否降低了專利申請質量?為了實現建設知識產權強國的新目標,國家以及區(qū)域兩個層面需要采取何種戰(zhàn)略路徑、如何完善相關政策?在上述背景之下,本文綜合采用專利計量學、理論演繹、質性分析、計量經濟學等多種方法,并基于大樣本數據,從區(qū)域視角開展中國專利申請數量與質量的驅動因素以及發(fā)展對策的研究,具體內容如下:(1)區(qū)域專利申請量增長來源不均衡性特征分析。基于專利計量學方法,構建了“區(qū)域-領域-主體”(RFP)分析框架,以2001-2010年間的107萬余條國內發(fā)明專利申請公開數據為基礎,綜合運用文獻分類、基尼系數、矩陣圖和多維尺度分析等方法,全面系統(tǒng)分析了31個省區(qū)專利增長的差異性特征。(2)區(qū)域專利申請量增長影響因素模型、作用機理及關鍵驅動因素的研究。從技術創(chuàng)新與專利的關系視角,借鑒相關理論模型,構建了專利激增驅動因素分析模型——ECP模型;基于該模型,采用系統(tǒng)動力學的方法,對驅動因素作用于專利增長的機理進行了分析;诘湫偷貐^(qū)及企事業(yè)單位訪談的資料,采用質性研究方法,識別出專利資助政策、專利意識、高新技術企業(yè)認定政策等23個主要驅動因素。(3)高新技術企業(yè)認定政策對于不同區(qū)域、行業(yè)、所有權類型專利申請量增長的影響研究。提出了關于高企認定政策促進企業(yè)專利申請量增長影響的6個研究假設,構建加入政策虛擬變量的專利產出方程,綜合采用變系數和不變系數面板數據模型開展計量分析。研究表明高企認定政策明顯促進了企業(yè)專利申請量的增長;對非發(fā)明專利申請量增長的作用強于發(fā)明專利;高企認定政策對專利申請量增長的影響存在顯著的區(qū)域差異性、行業(yè)差異性、規(guī)模差異性以及所有權類型差異性。(4)動態(tài)視角下不同階段和標準的專利資助政策對于不同創(chuàng)新主體專利申請量增長的影響研究。構建區(qū)域專利資助政策文本數據庫,系統(tǒng)分析區(qū)域專利資助政策的主要特征。從資助階段和資助標準兩個維度入手,設置虛擬變量,以負二項分布的離散型計數模型回歸方法為工具,分析了區(qū)域專利資助政策對產學研和非職務發(fā)明專利申請量增長的影響。此外,本文還首次對PCT專利申請量增長的影響因素行了定量研究,發(fā)現了區(qū)域資助PCT申請政策的顯著效應。(5)基于專利法律狀態(tài)的區(qū)域專利申請質量評價及影響因素研究。在區(qū)分專利申請質量與專利質量概念的基礎之上,提出從專利授權率以及實審提出率兩個指標評價區(qū)域專利申請質量的方法;趯偃f條專利數據的文本挖掘,開展區(qū)域專利申請質量的評價與比較實證研究。從全國整體、企業(yè)、高校、科研機構以及非職務發(fā)明等5個層次和類別構建分析模型,采用Logistic回歸模型分析了相關因素對發(fā)明專利授權概率以及實審提出概率的影響。本文還發(fā)現代理機構能顯著提高專利申請質量。(6)區(qū)域專利申請數量與質量協(xié)調發(fā)展的戰(zhàn)略與政策建議。針對當前區(qū)域專利數量、質量與創(chuàng)新能力的不一致狀況,提出基于區(qū)域專利發(fā)展階段的數量與質量協(xié)調發(fā)展的改進思路。具體提出數量導向型、數量為主型、質量導向型、質量為主型和量質并重型5種差異化的區(qū)域專利發(fā)展戰(zhàn)略;并以發(fā)展戰(zhàn)略為依據,提出了高企認定政策、專利資助政策以及其他相關政策的改進建議。綜上,本文系統(tǒng)揭示了區(qū)域內專利申請量增長來源的不均衡性以及區(qū)域間數量與質量發(fā)展的不一致性;識別出專利資助政策等23個關鍵的驅動因素,并明確了相關因素通過要素、能力和傾向三個維度推動專利增長的作用機理;揭示了專利資助政策、高企認定政策等相關因素對不同層次和類別國內發(fā)明專利申請數量與質量以及PCT專利申請數量的影響;最后本文提出基于區(qū)域發(fā)展階段差異性的專利數量與質量協(xié)調發(fā)展戰(zhàn)略路徑以及相關政策的改進建議。本文的研究發(fā)現對于集中資源和精力著力解決新階段國家知識產權戰(zhàn)略實施面臨的關鍵問題,推進知識產權強國建設具有一定的理論與現實意義。
【關鍵詞】:專利激增 專利質量 區(qū)域差異 驅動因素 促進政策 資助政策 協(xié)調發(fā)展
【學位授予單位】:北京理工大學
【學位級別】:博士
【學位授予年份】:2015
【分類號】:F204
【目錄】:
- 摘要5-7
- Abstract7-18
- 第1章 緒論18-36
- 1.1 研究背景、目的與意義18-28
- 1.1.1 研究背景18-26
- 1.1.2 研究目的26-27
- 1.1.3 研究意義27-28
- 1.2 主要研究內容與范圍28-31
- 1.2.1 主要研究內容28-29
- 1.2.2 研究范圍29-31
- 1.3 論文結構與技術路線31-34
- 1.4 主要創(chuàng)新點34-36
- 第2章 理論基礎與文獻綜述36-56
- 2.1 理論基礎36-39
- 2.1.1 科學計量學理論36-37
- 2.1.2 技術創(chuàng)新理論37
- 2.1.3 創(chuàng)新體系理論37-38
- 2.1.4 政策評估理論38-39
- 2.2 文獻綜述39-56
- 2.2.1 關于全球及區(qū)域性專利增長的相關研究40-41
- 2.2.2 關于美國專利增長的相關研究41-42
- 2.2.3 關于中國專利增長的相關研究42-52
- 2.2.4 關于其他國家及地區(qū)專利增長的相關研究52-54
- 2.2.5 文獻述評54-56
- 第3章 區(qū)域專利申請量增長的特征研究56-84
- 3.1 引言56-59
- 3.2 RFP分析框架的構建59-60
- 3.3 研究方法與數據收集60-72
- 3.3.1 研究方法60-70
- 3.3.2 數據收集70-72
- 3.4 區(qū)域專利增長的特征分析72-82
- 3.4.1 區(qū)域分布72-74
- 3.4.2 技術領域分布74-76
- 3.4.3 專利權人類型分布76-79
- 3.4.4 微觀個體分布79-82
- 3.5 本章小結82-84
- 第4章 區(qū)域專利增長的驅動因素及作用機理研究84-114
- 4.1 引言84-89
- 4.1.1 關鍵問題84-85
- 4.1.2 相關研究進展85-89
- 4.1.3 研究思路89
- 4.2 專利增長驅動因素分析模型構建89-96
- 4.2.1 專利與技術創(chuàng)新的關系分析89-91
- 4.2.2 模型借鑒91-93
- 4.2.3 要素-能力-傾向模型(ECP-Model)93-96
- 4.3 專利驅動因素作用機理分析96-99
- 4.3.1 專利系統(tǒng)的邊界條件96
- 4.3.2 因果關系分析96-99
- 4.4 專利增長驅動因素質性分析99-112
- 4.4.1 研究設計99-102
- 4.4.2 樣本收集102-105
- 4.4.3 編碼過程105-109
- 4.4.4 結果與討論109-111
- 4.4.5 區(qū)域差異性分析111-112
- 4.5 本章小結112-114
- 第5章 高新技術企業(yè)認定政策對區(qū)域專利增長影響的多視角交叉研究114-143
- 5.1 引言114-118
- 5.1.1 高新技術企業(yè)認定發(fā)展概況114-116
- 5.1.2 相關研究進展116-118
- 5.2 研究設計118-127
- 5.2.1 研究假設118-123
- 5.2.2 數據來源123-124
- 5.2.3 變量設計124-126
- 5.2.4 模型構建126-127
- 5.3 實證分析127-141
- 5.3.1 區(qū)域視角的分析128-133
- 5.3.2 行業(yè)視角的分析133-136
- 5.3.3 所有權類型視角的分析136-139
- 5.3.4 結果討論139-141
- 5.4 本章小結141-143
- 第6章 動態(tài)視角下資助政策對區(qū)域專利增長的影響研究143-172
- 6.1 引言143-150
- 6.1.1 區(qū)域專利資助政策的發(fā)展特征143-146
- 6.1.2 主要研究進展146-148
- 6.1.3 關鍵問題148-150
- 6.2 資助政策對國內專利申請量增長的影響分析150-166
- 6.2.1 模型設定150-153
- 6.2.2 變量選擇153-155
- 6.2.3 數據來源155-157
- 6.2.4 結果與討論157-166
- 6.3 資助政策對國際專利申請量增長的影響分析166-170
- 6.3.1 模型與變量選擇166-167
- 6.3.2 數據來源167-168
- 6.3.3 結果與討論168-170
- 6.4 本章小結170-172
- 第7章 區(qū)域專利申請質量的評價及影響因素研究172-197
- 7.1 引言172-174
- 7.2 區(qū)域專利申請質量評價研究174-184
- 7.2.1 專利申請質量的含義與研究進展174-176
- 7.2.2 基于法律狀態(tài)的專利申請質量評價指標176-178
- 7.2.3 區(qū)域專利申請質量實證分析178-184
- 7.3 專利促進政策對區(qū)域專利申請質量的影響184-196
- 7.3.1 研究設計184-188
- 7.3.2 結果分析188-196
- 7.4 本章小結196-197
- 第8章 促進區(qū)域專利數量與質量協(xié)調發(fā)展的對策建議197-208
- 8.1 區(qū)域專利數量與質量協(xié)調發(fā)展的戰(zhàn)略定位分析197-203
- 8.1.1 區(qū)域專利申請數量、申請質量與創(chuàng)新能力的關系197-198
- 8.1.2 區(qū)域專利發(fā)展階段劃分198-199
- 8.1.3 區(qū)域數量與質量協(xié)調發(fā)展的戰(zhàn)略定位199-203
- 8.2 高新技術企業(yè)認定政策的改進建議203-204
- 8.2.1 國家層面的政策改進建議203-204
- 8.2.2 區(qū)域認定標準及政策的改進建議204
- 8.3 專利資助政策改進建議204-206
- 8.3.1 理性認識專利資助政策的有限功能204-205
- 8.3.2 關于國家專利資助(國際專利)政策的改進建議205
- 8.3.3 關于區(qū)域專利資助政策的改進建議205-206
- 8.4 其他政策建議206-208
- 結論與展望208-213
- 參考文獻213-225
- 附錄225-234
- 攻讀學位期間發(fā)表論文與研究成果清單234-237
- 致謝237-238
- 作者簡介238
【參考文獻】
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本文關鍵詞:中國專利激增:區(qū)域差異、驅動因素與協(xié)調發(fā)展對策研究,,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
本文編號:325766
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