金屬氧化物表界面調(diào)控與電催化氮還原性能研究
發(fā)布時間:2021-08-13 02:32
常溫常壓下,利用清潔能源驅(qū)動的電化學(xué)催化反應(yīng)能夠?qū)⒇S量小分子轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的高附加值產(chǎn)物,具有巨大的經(jīng)濟(jì)和社會效益。催化劑是電化學(xué)催化反應(yīng)的關(guān)鍵,其吸附和活化周圍環(huán)境分子的能力主要源于表面原子配位的不飽和性。因此,催化基礎(chǔ)研究與表面科學(xué)密不可分。在電催化氮還原反應(yīng)(Electrocatalytic N2 reduction reaction,NRR)中,目前主要存在氮?dú)馕絼恿W(xué)緩慢,強(qiáng)烈的析氫反應(yīng)(Hydrogen evolution reaction,HER)競爭難以避免,以及催化機(jī)理尚未明確等問題。界面調(diào)制和缺陷工程能夠優(yōu)化自旋構(gòu)型、增強(qiáng)電導(dǎo)率和電子相互作用,從而提高材料表面對氮?dú)饧胺磻?yīng)中間體的化學(xué)吸附能力,降低化學(xué)反應(yīng)能壘,提高催化活性。此外,不同組分之間的界面可以構(gòu)成比單個組分更多的活性中心,穩(wěn)定活性表面催化位點(diǎn),產(chǎn)生協(xié)同作用。因此,表界面調(diào)控已成為提高NRR催化劑合成氨產(chǎn)率、選擇性和穩(wěn)定性的重要途徑,并且有利于深入研究電催化固氮的反應(yīng)機(jī)理。液相激光熔蝕技術(shù)(Laser ablation in liquid,LAL)和液相激光輻照技術(shù)(Laser irradiation in l...
【文章來源】:中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)安徽省 211工程院校 985工程院校
【文章頁數(shù)】:111 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
圖1.1鋰介質(zhì)中電催化氨合成的循環(huán)過程【12]
?第一章緒論???交替途徑類似的加氫過程,但兩個N原子都以側(cè)對配位的方式結(jié)合在催化劑表??面,被稱為酶途徑,這種途徑在多相催化反應(yīng)中并不常見。值得注意的是,N2H4??作為NRR中的副產(chǎn)物只可能存在于交替配位路徑中,而且*N2H4從催化劑表面??解吸的過程通常是一個高度電子化步驟,因此N2H4大多是一個次要產(chǎn)物t¥29]。??圖1.2為NRR過程中質(zhì)子偶聯(lián)電子轉(zhuǎn)移的主要途徑示意圖。??Dissociative?Pathway??JH!?_,NHj?;??I?f?Associative?Pathway?i??!?hh2?^h3?!??I?h"c;H、?丨;H??e'?H^c-?NH:?I??U?K?^?NH>?i??li?-Vl?:?:D。妫妫椋?1Hi_-NH,?!??J?"'Alternative"?而????!?v?"?vH2?^?!??卜旦卜私卜見,乂?NH,?;??*?W?W?W?W??VJ[?;??H-e-?r^H?"??mEnzymaticm?i??圖1.2質(zhì)子偶聯(lián)電子轉(zhuǎn)移NRR的反應(yīng)途徑,包括解離途徑、末端配位和交替配位結(jié)合途??徑、酶途徑[26]。??1.2.3電化學(xué)合成氨的問題與挑戰(zhàn)??電化學(xué)合成氨原則上可以在常溫常壓下進(jìn)行,熱力學(xué)驅(qū)動力可由外加電壓??控制。然而,目前NRR過程仍面臨著三個主要問題:(1)N=N鍵能高難以斷??裂,導(dǎo)致較大的過電位;(2)溶液中水分子會參與電子競爭發(fā)生HER,降低了??NRR的法拉第效率;(3)常溫常壓條件TN2在水中的溶解度很低,電催化反??應(yīng)會受到傳質(zhì)過程的顯著影響^32】。為了提高NRR的轉(zhuǎn)化率和
結(jié)構(gòu)、選擇合適的電??解液、優(yōu)化電催化劑體系,對抑制HER競爭反應(yīng),實(shí)現(xiàn)低過電位、高氨產(chǎn)率、??高法拉第效率的NRR具有重要意義。??Ji?|?'?'???.?*?■???■???|?■?I?,#。В?* ̄ ̄'"T—1U、|B???2-?-?\?''????-?i?s^:-5c??.I?1?i?i?1?t???i?i?t?;?>?i?!?i?1???!???i?*???t?>?I?l???^??3?"?"?2?J?^?^?*z?4.^,?0?1??.??圖1.3?(a)過渡金屬密排面上H化學(xué)吸附能與N化學(xué)吸附能之間的函數(shù)關(guān)系散點(diǎn)圖;(b)??低指數(shù)面和高指數(shù)面過渡金屬N結(jié)合能火山圖[36]。??1.3高效電化學(xué)固氮催化劑的合成策略??1.3.1催化劑的設(shè)計概述??催化劑是電化學(xué)體系的核心組成部分,具有高活性、高選擇性和高穩(wěn)定性??的催化體系對NRR電催化劑的研究和應(yīng)用具有重要意義。通常來說,催化劑??的設(shè)計策略主要集中在兩個方面,即提高表面活性和促進(jìn)本征活性[39]。催化劑??的表面活性取決于暴露活性位點(diǎn)的數(shù)量,而活性位點(diǎn)的數(shù)量受晶體結(jié)構(gòu)和形貌??的影響。因此,合理調(diào)控催化劑尺寸、形態(tài)和暴露晶面可以有效增加活性位點(diǎn)??數(shù)量和提高活性位點(diǎn)利用率,從而改善催化性能。催化劑的本征活性取決于材??料電子結(jié)構(gòu),缺陷調(diào)控(包括空位和摻雜)和應(yīng)力工程是促進(jìn)本征活性的常見??策略,如圖1.4所示Ml這是因?yàn)榭瘴、摻雜、應(yīng)變可實(shí)現(xiàn)對催化劑電子構(gòu)型??5??
本文編號:3339564
【文章來源】:中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)安徽省 211工程院校 985工程院校
【文章頁數(shù)】:111 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
圖1.1鋰介質(zhì)中電催化氨合成的循環(huán)過程【12]
?第一章緒論???交替途徑類似的加氫過程,但兩個N原子都以側(cè)對配位的方式結(jié)合在催化劑表??面,被稱為酶途徑,這種途徑在多相催化反應(yīng)中并不常見。值得注意的是,N2H4??作為NRR中的副產(chǎn)物只可能存在于交替配位路徑中,而且*N2H4從催化劑表面??解吸的過程通常是一個高度電子化步驟,因此N2H4大多是一個次要產(chǎn)物t¥29]。??圖1.2為NRR過程中質(zhì)子偶聯(lián)電子轉(zhuǎn)移的主要途徑示意圖。??Dissociative?Pathway??JH!?_,NHj?;??I?f?Associative?Pathway?i??!?hh2?^h3?!??I?h"c;H、?丨;H??e'?H^c-?NH:?I??U?K?^?NH>?i??li?-Vl?:?:D。妫妫椋?1Hi_-NH,?!??J?"'Alternative"?而????!?v?"?vH2?^?!??卜旦卜私卜見,乂?NH,?;??*?W?W?W?W??VJ[?;??H-e-?r^H?"??mEnzymaticm?i??圖1.2質(zhì)子偶聯(lián)電子轉(zhuǎn)移NRR的反應(yīng)途徑,包括解離途徑、末端配位和交替配位結(jié)合途??徑、酶途徑[26]。??1.2.3電化學(xué)合成氨的問題與挑戰(zhàn)??電化學(xué)合成氨原則上可以在常溫常壓下進(jìn)行,熱力學(xué)驅(qū)動力可由外加電壓??控制。然而,目前NRR過程仍面臨著三個主要問題:(1)N=N鍵能高難以斷??裂,導(dǎo)致較大的過電位;(2)溶液中水分子會參與電子競爭發(fā)生HER,降低了??NRR的法拉第效率;(3)常溫常壓條件TN2在水中的溶解度很低,電催化反??應(yīng)會受到傳質(zhì)過程的顯著影響^32】。為了提高NRR的轉(zhuǎn)化率和
結(jié)構(gòu)、選擇合適的電??解液、優(yōu)化電催化劑體系,對抑制HER競爭反應(yīng),實(shí)現(xiàn)低過電位、高氨產(chǎn)率、??高法拉第效率的NRR具有重要意義。??Ji?|?'?'???.?*?■???■???|?■?I?,#。В?* ̄ ̄'"T—1U、|B???2-?-?\?''????-?i?s^:-5c??.I?1?i?i?1?t???i?i?t?;?>?i?!?i?1???!???i?*???t?>?I?l???^??3?"?"?2?J?^?^?*z?4.^,?0?1??.??圖1.3?(a)過渡金屬密排面上H化學(xué)吸附能與N化學(xué)吸附能之間的函數(shù)關(guān)系散點(diǎn)圖;(b)??低指數(shù)面和高指數(shù)面過渡金屬N結(jié)合能火山圖[36]。??1.3高效電化學(xué)固氮催化劑的合成策略??1.3.1催化劑的設(shè)計概述??催化劑是電化學(xué)體系的核心組成部分,具有高活性、高選擇性和高穩(wěn)定性??的催化體系對NRR電催化劑的研究和應(yīng)用具有重要意義。通常來說,催化劑??的設(shè)計策略主要集中在兩個方面,即提高表面活性和促進(jìn)本征活性[39]。催化劑??的表面活性取決于暴露活性位點(diǎn)的數(shù)量,而活性位點(diǎn)的數(shù)量受晶體結(jié)構(gòu)和形貌??的影響。因此,合理調(diào)控催化劑尺寸、形態(tài)和暴露晶面可以有效增加活性位點(diǎn)??數(shù)量和提高活性位點(diǎn)利用率,從而改善催化性能。催化劑的本征活性取決于材??料電子結(jié)構(gòu),缺陷調(diào)控(包括空位和摻雜)和應(yīng)力工程是促進(jìn)本征活性的常見??策略,如圖1.4所示Ml這是因?yàn)榭瘴、摻雜、應(yīng)變可實(shí)現(xiàn)對催化劑電子構(gòu)型??5??
本文編號:3339564
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