發(fā)布時(shí)間：2024-03-02 02:43

　　鎘是一種有毒重金屬,可以在植物體、動(dòng)物體、人體內(nèi)大量積累,危害動(dòng)植物和人類的健康,已被列入水中優(yōu)先監(jiān)測(cè)污染物。印跡技術(shù)是當(dāng)前制備高選擇性材料的主要方法之一,它是將模板分子或離子(印跡分子或離子)與聚合物單體形成的多重作用點(diǎn),通過聚合過程被記憶下來,當(dāng)模板分子或離子以適當(dāng)?shù)姆绞匠ズ?聚合物中就形成了與模板分子或離子空間構(gòu)型相匹配的具有多重作用位點(diǎn)的空穴,這樣的空穴將對(duì)模板分子或離子及其類似物具有選擇識(shí)別特性。近年來,鎘離子印跡聚合物的研究已成為熱點(diǎn)之一。 第一章主要介紹了環(huán)境中重金屬鎘污染的來源、危害、特點(diǎn)等；綜述了分子印跡技術(shù)和離子印跡技術(shù)的由來、原理、特點(diǎn)以及分子印跡聚合物和離子印跡聚合物的分類、制備方法、應(yīng)用；介紹了近年來Cd2+離子印跡聚合物的研究進(jìn)展以及本文的研究目的和創(chuàng)新之處。 第二章利用表面印跡技術(shù),首次采用水熱輔助加熱法以及常規(guī)加熱法,先將硫氰基丙基三甲氧基硅烷、二乙烯三胺基丙基三甲氧基硅烷、巰丙基三甲基硅烷耦合接枝到硅膠表面,然后以Cd(Ⅱ)離子為模板離子,以環(huán)氧氯丙烷為交聯(lián)劑,通過配位鍵作用,實(shí)施了離子印跡聚合,制備了硫氰基功能化鎘離子印跡硅膠材料、胺基功能化鎘離子...

【文章頁數(shù)】：129 頁

【學(xué)位級(jí)別】：博士

【部分圖文】：

圖1.1分子印跡示意圖

(3)通過一定的方法把模板分子脫去，多聚物內(nèi)部就會(huì)形成一個(gè)相對(duì)于模板分子互補(bǔ)的、親和的空間結(jié)構(gòu)，并含有與模板分子專一結(jié)合的功能基的三維空穴(如圖1.1)。這個(gè)三維空穴可以選擇性地重新與模板分子結(jié)合，即對(duì)模板分子具有專一性識(shí)別作用[32] 0這個(gè)三維空穴的空間結(jié)構(gòu)和功能單體的種類是....

圖1.6表面接枝印跡法制備離子印跡聚合物的示意圖

待其與PEI/Si02反應(yīng)完全后，用環(huán)氧氯丙焼進(jìn)行交聯(lián)聚合，最后得到Cu2+或Cd2+表面IIP。制得的離子印跡聚合物對(duì)相應(yīng)的模板離子均有較好的吸附選擇性。圖1.6給出了Gao等制備的離子印跡聚合物的示意圖。.^(Cll2)2 Z(CH2)犬 （CH2)2一m,NH— 一NN....

圖2.7硫氰基功能化鎘離子印跡娃膠材料(A)和非印跡娃膠材料(B)的掃描電鏡Fig.2.7SEMofthiocyanato-functionalizedion-imprinted(A)andnon-imprinted(B)silicagel-41-

‘ ...?.-?:..-?.??-:.:.^>.i--:4:--u<....:V‘?■.>■■■?-.%=...篇：&.........圖2.8胺基功能化鎘離子印跡娃膠材料(A)和非印跡娃膠材料(B：)的掃描電鏡Fig.2.8SEMofa....

圖2.8胺基功能化鎘離子印跡娃膠材料(A)和非印跡娃膠材料(B：)的掃描電鏡Fig.2.8SEMofamino-functionalizedion-imprinted(A)andnon-imprinted(B)silicagel-42-

圖2.9琉基功能化錫離子印跡娃膠材料(A)和非印跡娃膠材料(B)的掃描電鏡Fig.2.9SEMofthiol-functionalizedion-imprinted(A)andnon-imprinted(B)silicagel

本文編號(hào)：3916205