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電子束輻照水處理反應(yīng)器水動(dòng)力特性及性能優(yōu)化研究

發(fā)布時(shí)間:2021-08-17 17:20
  水污染是當(dāng)前國(guó)內(nèi)外面臨的重大環(huán)境問(wèn)題之一。電子束輻照水處理是一種新型的水處理技術(shù),為傳統(tǒng)水處理技術(shù)難以去除的污水組分提供了新的解決方法。至今國(guó)內(nèi)外對(duì)電子束輻照水處理中反應(yīng)動(dòng)力學(xué)的研究較為深入,但對(duì)反應(yīng)器水動(dòng)力特性和吸收劑量分布規(guī)律的研究相對(duì)薄弱。反應(yīng)器的水動(dòng)力特性和吸收劑量分布均勻性決定了輻照水處理的效率和反應(yīng)器的性能。本文以處理量較大的射流式反應(yīng)器為研究對(duì)象,采用理論分析、數(shù)值模型計(jì)算與試驗(yàn)相結(jié)合的方法,對(duì)電子束流在水流表面的密度分布特征、反應(yīng)器內(nèi)部水流水動(dòng)力特性、反應(yīng)器出流水舌水動(dòng)力特性、水流的吸收劑量分布規(guī)律進(jìn)行了細(xì)致而深入的研究;探討了水流特性對(duì)吸收劑量分布均勻性、反應(yīng)器消毒性能的影響。論文工作取得了以下主要成果:通過(guò)理論分析與計(jì)算研究,提出了影響電子束流在水流表面密度分布均勻性的關(guān)鍵無(wú)量綱物理量VT/d(水流流速V、電子束斑直徑d、電子束掃描周期T);VT/d越小,電子束流在水流表面的密度分布越均勻;VT/d≤0.9時(shí),電子束流在水流表面的密度分布可視為均勻分布。為使得反應(yīng)器達(dá)到較高的處理效率,電子束下水流流速與厚度應(yīng)均勻分布。采用計(jì)算流體力學(xué)方法,建立了反應(yīng)器三維水動(dòng)力模型... 

【文章來(lái)源】:清華大學(xué)北京市 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁(yè)數(shù)】:115 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】:博士

【部分圖文】:

電子束輻照水處理反應(yīng)器水動(dòng)力特性及性能優(yōu)化研究


瀑布式電子束輻照水處理反應(yīng)器(Kurucz,1995)

噴霧式,反應(yīng)器系統(tǒng),電子束輻照,水處理


噴霧式電子束輻照水處理反應(yīng)器系統(tǒng)(Pikae水槽,2 和 9 為水泵,3 為噴霧裝置,4 為輻輪鼓風(fēng)機(jī),7 為電源,8 為控制臺(tái),10 為輻器成的水流厚度小、寬度大且流速快,與電大時(shí)水流就會(huì)濺到電子加速器掃描盒上;,水流更易控制且流速更大,但噴霧形式制。綜合了瀑布式與射流式反應(yīng)器的優(yōu)缺 1.3 所示。污水從射流式反應(yīng)器中水平射的輻照。

射流式,電子束輻照,水處理,反應(yīng)器


圖 1.2 噴霧式電子束輻照水處理反應(yīng)器系統(tǒng)(Pikaev, 1997)圖中,1 為污水出水槽,2 和 9 為水泵,3 為噴霧裝置,4 為輻照室,5 為電子器,6 為渦輪鼓風(fēng)機(jī),7 為電源,8 為控制臺(tái),10 為輻射防護(hù)墻)3 射流式反應(yīng)器瀑布式反應(yīng)器形成的水流厚度小、寬度大且流速快,與電子束要求的水流相似,但流量較大時(shí)水流就會(huì)濺到電子加速器掃描盒上;而噴霧式反應(yīng)器將水流水平噴出,水流更易控制且流速更大,但噴霧形式的水流使得處理霧化程度不易控制。綜合了瀑布式與射流式反應(yīng)器的優(yōu)缺點(diǎn)后,Han 等提式反應(yīng)器,如圖 1.3 所示。污水從射流式反應(yīng)器中水平射出,形成薄層來(lái)自上方電子束的輻照。

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
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本文編號(hào):3348174

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