分子印跡技術(shù)是近些年發(fā)展起來的一種新技術(shù),根據(jù)自然界中存在的分子識別作用,如酶與底物、抗體與抗原等,對其進行模擬,以目標(biāo)分子為模板合成具有特殊分子識別功能的分子印跡聚合物的一種技術(shù),可為人們提供具有期望結(jié)構(gòu)和性質(zhì)的分子組合體。是生物化學(xué)、化學(xué)工程、材料科學(xué)、高分子化學(xué)等學(xué)科相互交叉的一門前沿科學(xué),屬于超分子化學(xué)中的主客體化學(xué)范疇。本文在制備亞甲基藍分子印跡的基礎(chǔ)上,一方面加入磁性物質(zhì),使得制備的材料具有磁吸分離能力;另一方面負載二氧化鈦,使其具有光降解性能,在吸附的同時將亞甲基藍降解成無毒無害的小分子物質(zhì)。本文采用熱溶劑法合成了磁性Fe₃O₄納米粒子。以亞甲藍（MB）為印跡模板分子,丙烯酸和N,N’-亞甲基雙丙烯酰胺分別為單體和交聯(lián)劑,通過本體聚合法合成了一種新型磁性亞甲藍分子印跡聚合物（MMB-MIP）。結(jié)果表明,MMB-MIP對MB的吸附容量隨MB初始濃度的增加而增加,最大吸附量可達4865.8 mg·g^-1,其吸附效率遠高于活性炭,吸水樹脂和其它吸附材料。與考馬斯亮藍G250（CBBG250）和氯化鉻（CrCl

【文章來源】：蘭州交通大學(xué)甘肅省

【文章頁數(shù)】：62 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

MMB-MIP制備原理示意圖

圖 3.2 亞甲基藍的紫外標(biāo)準(zhǔn)曲線計算出稀釋之后溶液相應(yīng)的摩爾濃度，然后繪制溶液濃度 C 與吸光度曲線，并對其進行線性擬合，線性相關(guān)系數(shù)為 0.999.得到的線性方程4A =5.6082 10C（ 電鏡分析

(c) (d)圖 3.3 Fe3O4和 MMB-MIP 的 SEM 和 HRTEM 照片。（a）Fe3O4，SEM（b）MMB-MIP，SEM（c）Fe3O4，HRTEM（d）MMB-MIP，HRTEMSEM 用于研究印跡樣品的形態(tài)，HRTEM 可以更清晰地觀察樣品的結(jié)構(gòu)。圖3.3（a）是 Fe3O4納米粒子的 SEM 照片，可以看到 Fe3O4納米粒子的形態(tài)比較規(guī)則，并且大小相對均勻。圖 3.3（b）是 MMB-MIP 的 SEM 圖像，從圖中可以看出，MMB-MIP 表面比較粗糙，且有許多孔道，其在吸附過程中起重要作用。通過孔結(jié)構(gòu)，吸附物容易進入并附著在壓印材料的表面上。圖 3.3（c）是 Fe3O4的HRTEM，可以看出平均納米顆粒直徑為約 170 nm，其基本上是規(guī)則的球形。圖3.3（d）是 MMB-MIP 的 HRTEM，從圖像分析可以看出 MMB-MIP 表面不光滑，有很多溝壑和毛孔，形狀不規(guī)則，這使得 MMB-MIP 有一個良好的吸附性能。3.3.3 紅外分析

【參考文獻】：
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博士論文
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本文編號：2962531