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CTMAB/凹凸棒土顆粒的制備及其吸附Cr(Ⅵ)性能研究

發(fā)布時間:2020-12-21 00:35
  以凹凸棒土粉末為原料經(jīng)一定工藝制得凹凸棒土顆粒,采用陽離子表面活性劑十六烷基三甲基溴化銨(CTMAB)為改性劑,通過微波改性合成了CTMAB/凹凸棒土顆粒,確定了最佳制備工藝條件為煅燒溫度550℃,改性劑濃度80 mmol/L,微波改性時間6 min?疾炝薈r(Ⅵ)溶液初始濃度和p H的影響,當(dāng)Cr(Ⅵ)溶液濃度為20 mg/L,p H=5.6,CTMAB/凹凸棒土顆粒投加量為4 g/L時,在最佳條件下制備的CTMAB/凹凸棒土顆粒對Cr(Ⅵ)的去除率為90.7%。結(jié)果表明:改性后CTMAB進(jìn)入到了凹凸棒土顆粒的表面及孔道,使其所帶電性由負(fù)轉(zhuǎn)為正,因而對以陰離子重鉻酸根存在的Cr(Ⅵ)有更好的吸附性能,且Zeta電位隨p H升高而降低,與去除Cr(Ⅵ)效率變化一致。吸附過程符合Langmuir等溫線和Lagergren準(zhǔn)二級速率方程,表明吸附為一種快速的單分子層化學(xué)吸附。 

【文章來源】:環(huán)境科學(xué)與技術(shù). 2017年10期 北大核心

【文章頁數(shù)】:5 頁

【部分圖文】:

CTMAB/凹凸棒土顆粒的制備及其吸附Cr(Ⅵ)性能研究


改性劑濃度對CTMAB/L凸棒土顆粒去除Cr(VI)效果的影q`uFig.3Effectsofsurfactantconcentrationontheremovalrat

微觀形貌,掃描電鏡圖,凹凸棒土


改性6min,制得改性材料,考察改性劑用量的影響,結(jié)果見圖3。由圖3中可見,隨著改性劑CTMAB濃度的增大,CTMAB/凹凸棒土顆粒對C(rⅥ)的去除率不斷升高,在CTMAB濃度為80mmol/L時達(dá)到最大(90.7%),但當(dāng)CTMAB濃度大于80mmol/L時,CTMAB/凹凸棒土顆粒對C(rⅥ)的去除率反而降低。這可能是因為CTMAB濃度過高時,會形成較多的CTMAB膠束,這些膠束在改性過程中填充于凹凸棒土的孔隙中,占據(jù)了吸附點位,因而導(dǎo)致除C(rⅥ)效率的降低。2.2CTMAB/凹凸棒土顆粒的微觀形貌和Zeta電位2.2.1CTMAB/凹凸棒土顆粒的微觀形貌圖4(a)~(c)分別是凹凸棒土粉末、凹凸棒土顆粒(550℃煅燒)和CTMAB/凹凸棒土顆粒(550℃煅燒后改性)的掃描電鏡圖,表1為它們的孔徑、孔體積、顆粒尺寸及BET比表面積有關(guān)數(shù)據(jù)。由圖4(a)中看表1不同材料的孔徑、孔體積、顆粒尺寸及BET比表面積Table1Theporesize,porevolume,nanoparticlesizeandBETsurfaceareaofadsorbents材料孔徑/A觷孔體積(/cm3·g-1)顆粒尺寸/A觷BET比表面積(/m2·g-1)凹凸棒土粉末66.6210.305322.010186.301凹凸棒土顆粒114.1370.333514.064116.717CTMAB/凹凸棒土顆粒201.7550.2691124.44953.359程浪,等CTMAB/凹凸棒土顆粒的制備及其吸附Cr(Ⅵ)性能研究79

微觀形貌,吸附材料,凹凸棒土


寤?叢齟笪?.3349cm3/g,這可能是煅燒后凹凸棒土失去了吸附水、結(jié)晶水及結(jié)構(gòu)水所致。由改性后CTMAB/凹凸棒土顆粒的微觀形貌(圖4(c))可以看到改性使凹凸棒土晶棒變得分散、疏松,但測出的BET比表面積卻大幅下降,僅有53.4m2/g,孔體積也降至0.2693cm3/g,究其原因,可能是帶正電的CTMAB膠束進(jìn)入到凹凸棒土顆?紫吨星遗c負(fù)電性的凹凸棒土發(fā)生了電中和凝聚,使得CTMAB/凹凸棒土的比表面積和孔體積均下降。2.2.2CTMAB/凹凸棒土顆粒的Zeta電位凹凸棒土顆粒和CTMAB/凹凸棒土顆粒的Zeta電位隨pH的變化如圖5所示。由圖5可見,隨著pH的增大,凹凸棒土顆粒的Zeta電位逐漸上升,但一直都為負(fù)值,且不超過-7.5mV,而CTMAB/凹凸棒土顆粒的Zeta電位均為正值,且隨pH升高而下降。凹凸棒土顆粒表面帶負(fù)電荷是由其自身結(jié)構(gòu)決定的,凹凸棒土晶體中的Si4+可以通過同晶置換被帶較少正電荷的Al3+和Fe3+替代,因而表面體現(xiàn)為呈負(fù)電。改性后,由于較多陽離子表面活性劑CTMAB進(jìn)入到凹凸棒土顆粒表面及內(nèi)部,抵消了其本身負(fù)電性,故CTMAB/凹凸棒土顆粒轉(zhuǎn)而呈正電性。當(dāng)溶液的pH較低時,CTMAB/凹凸棒土顆粒會發(fā)生質(zhì)子吸附作用,將H+吸附到材料表面,Zeta電位因而較高。隨著pH的繼續(xù)增加,表面的H+被OH-離子取代,Zeta電位隨之降低。圖6為CTMAB/凹凸棒土顆粒在不同pH條件下對20mg/LC(rⅥ)的去除率。從圖6可看到,CTMAB/凹凸棒土顆粒對Cr(Ⅵ)的去除率隨pH變化與其Zeta電位隨pH的變化趨勢是一致的,亦即隨pH增大,對C(rⅥ)的去除率降低,造成這一結(jié)果的原因是一方面較低的表面正電不利于對陰離子重鉻酸根的吸附,另一方面OH-會與以陰離子狀態(tài)的C(rⅥ)競爭活性吸附點位[9]。2.3CTMAB/凹凸棒土?

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
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本文編號:2928854

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