等離子體光催化劑的設(shè)計制備及光催化性能和機(jī)理研究
【學(xué)位授予單位】:東北師范大學(xué)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2015
【分類號】:O643.36;X52
【圖文】:
如圖1-1 所示:圖 1-1 半導(dǎo)體的光生電子和空穴的產(chǎn)生、遷移和復(fù)合過程:表面復(fù)合(a),內(nèi)部復(fù)合(b),光生電子遷移到半導(dǎo)體表面的還原反應(yīng)(c),光生空穴遷移到半導(dǎo)體表面的氧化反應(yīng)(d)Fig. 1-1 Generation, transfer and recombination processes of photogenerated electrons and holes onsemiconductor particles: electron-hole recombination at surface (a), electron-hole recombination in bulk (b),oxidation of donor (c), reduction of acceptor
圖 1-2 中為一些常用半導(dǎo)體光催化劑的能帶結(jié)構(gòu)圖,可為選擇半導(dǎo)體光催化劑。許多半導(dǎo)體材料(TiO2、ZnO、Fe2O3、CdS、CdSe 等)具有合適的價帶導(dǎo)帶作光催化劑。但由于有的半導(dǎo)體在光照下不穩(wěn)定、存在光腐蝕現(xiàn)象,有的甚至一定的毒性,因此,目前只有 TiO2被認(rèn)為是最具有應(yīng)用前景的半導(dǎo)體光催化
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本文編號:2727729
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