在很多應(yīng)用環(huán)境下,對(duì)金屬鉭的純度有較高的要求,其冶煉與純化過(guò)程非常重要。真空電子束熔煉是目前效果最好的提純鉭的方法,它可以使雜質(zhì)從熔體表面和內(nèi)部揮發(fā),幾乎可以除去全部氣體元素、較低熔點(diǎn)金屬,以及大部分高熔點(diǎn)金屬。真空電子束熔煉過(guò)程中,雜質(zhì)元素的揮發(fā)速度與多種因素有關(guān),同時(shí)電子束熔煉過(guò)程中熔煉速度、真空度、功率等的控制對(duì)物料的精煉效果影響明顯,合理的熔煉工藝是鉭精煉提純的關(guān)鍵。

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圖1 真空電子束爐熔煉示意圖

本研究使用的EB爐為遠(yuǎn)聚焦雙槍真空電子束熔煉爐,其基本熔煉方式如圖1所示,設(shè)備的主要性能參數(shù)見(jiàn)表1。一般情況下分為水平熔煉和垂直熔煉兩個(gè)步驟。1.2真空電子束熔煉除雜規(guī)律

本文編號(hào)：4039556