目的:研究靜電場作用球形細(xì)胞后細(xì)胞膜上電場應(yīng)力的大小及分布。方法:求解滿足邊值關(guān)系的拉普拉斯方程得到外電場作用后細(xì)胞膜內(nèi)外電勢的重新分布,并在此基礎(chǔ)上用麥克斯韋應(yīng)力張量法分析電場應(yīng)力大小及分布。結(jié)果:電場應(yīng)力與外加電場強(qiáng)度的平方成正比,與細(xì)胞等效介電常數(shù)成正相關(guān)。103V/m量級的靜電場可以在細(xì)胞膜上產(chǎn)生10-4Pa的應(yīng)力。在平行外電場方向電場應(yīng)力指向膜外表現(xiàn)為拉力,垂直外電場方向電場應(yīng)力指向膜內(nèi)表現(xiàn)為壓力。結(jié)論:球形細(xì)胞膜上電場應(yīng)力呈余弦曲線分布可以解釋電場引發(fā)細(xì)胞形變現(xiàn)象。

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【文章目錄】：
前言
1 模型分析
    1.1 單球形細(xì)胞的物理模型
    1.2 均質(zhì)小球內(nèi)外電場的分布
    1.3 細(xì)胞膜電場應(yīng)力
2 分析討論
    2.1 細(xì)胞的直徑和細(xì)胞膜厚度對細(xì)胞等效相對介電常數(shù)的影響
    2.2 細(xì)胞膜所受電場應(yīng)力數(shù)值的計(jì)算
3 結(jié)論



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