目的:研究靜電場作用球形細胞后細胞膜上電場應力的大小及分布。方法:求解滿足邊值關(guān)系的拉普拉斯方程得到外電場作用后細胞膜內(nèi)外電勢的重新分布,并在此基礎上用麥克斯韋應力張量法分析電場應力大小及分布。結(jié)果:電場應力與外加電場強度的平方成正比,與細胞等效介電常數(shù)成正相關(guān)。103V/m量級的靜電場可以在細胞膜上產(chǎn)生10-4Pa的應力。在平行外電場方向電場應力指向膜外表現(xiàn)為拉力,垂直外電場方向電場應力指向膜內(nèi)表現(xiàn)為壓力。結(jié)論:球形細胞膜上電場應力呈余弦曲線分布可以解釋電場引發(fā)細胞形變現(xiàn)象。

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【文章目錄】：
前言
1 模型分析
    1.1 單球形細胞的物理模型
    1.2 均質(zhì)小球內(nèi)外電場的分布
    1.3 細胞膜電場應力
2 分析討論
    2.1 細胞的直徑和細胞膜厚度對細胞等效相對介電常數(shù)的影響
    2.2 細胞膜所受電場應力數(shù)值的計算
3 結(jié)論



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