磁控濺射法具有薄膜厚度可控、純度高、低溫高速、附著力好、操作控制方便、裝置性能穩(wěn)定、環(huán)境友好等優(yōu)點(diǎn),因此,在各種功能性紡織品的開發(fā)過程中,采用磁控濺射法在紡織品表面制備納米薄膜的技術(shù)越來越受到重視。本課題采用磁控濺射法在滌綸無紡布表面濺射沉積納米Cu膜,對(duì)納米Cu膜織物的導(dǎo)電性能進(jìn)行了研究,并利用復(fù)合鍍膜的方法,在Cu膜上下表面分別沉積ITO、ZnO膜,形成ZnO/Cu/ITO三明治復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu),從而防止氧氣與Cu膜接觸,為提高導(dǎo)電性薄膜織物的性能提供了新的思路與解決方案。論文首先優(yōu)化了導(dǎo)電性納米Cu膜織物的濺射工藝條件（濺射壓強(qiáng)、濺射功率、濺射時(shí)間）,結(jié)果表明:當(dāng)濺射壓強(qiáng)為0.2 Pa,濺射功率為120W,濺射時(shí)間為40 min時(shí),Cu膜的導(dǎo)電性能最好;同時(shí),研究并分析了濺射Cu膜的結(jié)晶狀態(tài)、薄膜厚度、濺射速率與導(dǎo)電性的關(guān)系,發(fā)現(xiàn)在絕大多數(shù)情況下,Cu膜的導(dǎo)電性能與結(jié)晶強(qiáng)度和薄膜厚度呈正相關(guān)關(guān)系,即Cu膜的結(jié)晶情況越好,其導(dǎo)電性越好;Cu薄膜厚度增加,則導(dǎo)電性能也相應(yīng)提高。然后,通過對(duì)暴露在空氣中濺射Cu膜織物導(dǎo)電性隨時(shí)間的變化情況研究,探討了各種濺射工藝條件下所鍍Cu膜的氧化規(guī)律。... 

【文章來源】：天津工業(yè)大學(xué)天津市

【文章頁(yè)數(shù)】：95 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

磁控濺射原理示意圖

基片??麵??圖２－１磁控漉射原理示意圖??根據(jù)磁控濺射設(shè)備所用電源的種類不同，可分為中頻濺射、脈沖漉射、直流??濺射和射頻濺射等。中頻溉射一般適用于雙濺射靶或多漉射靶共濺，以便提高其??濺射工藝中的沉積效率和穩(wěn)定性。脈沖磁控滅射技術(shù)非常適用于各種氮化物和氧??化物等化合物薄膜的制備以及絕緣材料薄膜的制備［９３］。直流溉射常用于濺射導(dǎo)電??靶材，在磁控濺射沉積過程中，直流磁控濺射的設(shè)備和工藝簡(jiǎn)單，溉射效率較高，??但在直流反應(yīng)濺射過程中易產(chǎn)生陰極靶中毒、陽極消失、放電滅弧等現(xiàn)象，而且??直流反應(yīng)濺射過程不穩(wěn)定，難以控制其工藝流程［９４］，限制了自身的應(yīng)用。射頻濺??射通常適用于絕緣材料、半導(dǎo)體和導(dǎo)體等材料的濺射鍍膜，然而濺射速率較慢導(dǎo)??致其濺射效率低［９５］。??２．?１．２磁控濺射技術(shù)在紡織領(lǐng)域的應(yīng)用特點(diǎn)??磁控濺射技術(shù)在紡織領(lǐng)域得到了廣泛研究者們的關(guān)注，在鍍膜技術(shù)方面具有??較大潛力

ＶＩＣＴＯＲ?—??圖２－３數(shù)字萬用表??２．?２．?２雙電測(cè)數(shù)字式四探針測(cè)試儀??本實(shí)驗(yàn)采用的是ＳＴ２２６３型雙電測(cè)數(shù)字式四探針測(cè)試儀（蘇州晶格電子有限??公司，如圖２－４所示），該儀器主要由載物臺(tái)（１８０ｍｍＸ１８０ｍｍ凈載物面積）、??雙軌垂直導(dǎo)向單元、測(cè)試壓力調(diào)節(jié)單元、探頭快速升降扳手（頂部戴紅套部分）、??探頭連接板等單元組成。利用四探針測(cè)試儀可測(cè)量材料表面的方塊電阻。??ｈｍ??圖２－４?ＳＴ２２６３型雙電測(cè)數(shù)字式四探針測(cè)試儀??該儀器的技術(shù)參數(shù)有：??１３??

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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博士論文
[1]滌綸基布表面磁控濺射納米銅膜及性能研究[D]. 孟靈靈.江南大學(xué) 2013
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碩士論文
[1]磁控濺射法PVDF/Cu合金膜的制備及其結(jié)構(gòu)與性能研究[D]. 師艷麗.天津工業(yè)大學(xué) 2016
[2]磁控濺射制備電磁屏蔽紡織材料的性能研究[D]. 洪劍寒.江南大學(xué) 2007
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本文編號(hào)：3239572