對殼聚糖進行降解處理,提高其功能活性,是改善殼聚糖應用的主要途徑。脈沖等離子體技術作為一種高效、環(huán)境友好的高級氧化降解技術,已經(jīng)被證明對殼聚糖具有顯著降解效果。但是,只是進行了降解時間對殼聚糖特性的影響研究,pH值和極板間距作為脈沖放電等離子體技術的關鍵工藝參數(shù),并沒有相關報道。此外,也沒有關于降解處理對殼聚糖流變行為影響的相關報道。因此,本論文以脈沖放電等離子體為降解技術,關鍵工藝參數(shù)pH值和極板間距為影響因素,進行降解處理對殼聚糖抗氧化活性、結構表征和流變行為影響研究,為脈沖放電等離子體技術應用于殼聚糖降解提供試驗基礎依據(jù)。（1）以羥自由基、ABTS自由基、DPPH自由基的清除能力、總還原能力為指標,進行降解條件對殼聚糖抗氧化影響研究,試驗結果表明,脈沖放電等離子體降解對殼聚糖抗氧化活性起促進作用,當pH值為2.8,樣品濃度為8mg/mL時,清除率為47.81%;當極板間距為2mm,樣品濃度為8mg/mL時,清除率為42.93%。因此,可知當pH值降低、極板間距減小,殼聚糖抗氧化活性越強。（2）對殼聚糖降解產(chǎn)物進行紫外光譜、紅外光譜、核磁共振光譜（碳譜、氫譜）分析,試驗結果表明,降... 

【文章來源】：沈陽農(nóng)業(yè)大學遼寧省

【文章頁數(shù)】：66 頁

【學位級別】：碩士

【部分圖文】：

pH值對降解產(chǎn)物羥自由基清除能力Fig.2-1Hydroxylradicalscavengingabilityofdegradationproducts

圖 2-2 極板間距對降解產(chǎn)物羥自由基清除能力 ability of plate spacing to remove hydroxyl radicals from degrada，當樣品濃度為 1.33mg/mL 時，殼聚糖原料與極板間降解產(chǎn)物的清除率分別為 16.1、93.1、65.3、65.7、4物的羥自由基清除能力分別提高了 77、49.2、49.6、聚糖原料及其降解產(chǎn)物的羥自由基清除能力逐漸升高物的羥自由基清除能力越強，且遠大于殼聚糖原料。具有活潑氫的羥基，而羥自由基可與多糖中的活潑氫在降解反應中，隨著極板間距的減小，放電過程中形，因而施加于殼聚糖溶液上的電流壓力增強，降解效氫鍵作用降低，分子結構疏松，暴露出更多的活性基018)；此外，高效的降解處理，使得殼聚糖的相對分，2014)。清除能力的正常生理活動中會產(chǎn)生活性氧，而活性氧的存在會

圖 2-3 pH 值對降解產(chǎn)物 ABTS 自由基清除能力Fig. 2-3 pH value of degradation productsABTS free radical scavenging ability由圖 2-3 可知，當樣品濃度為 8mg/mL 時，殼聚糖原料與 pH 值分別為 2.8、3.8、4.8、5.8 條件下的降解產(chǎn)物的清除率分別為 28.6、42.2、42.2、37.5、35.5%，相比于殼聚糖原料，降解產(chǎn)物的 ABTS 自由基清除能力分別提高了 13.6、13.6、8.9、6.9%。隨著樣品濃度的升高，殼聚糖原料及其降解產(chǎn)物的 ABTS 自由基清除能力逐漸升高，且隨著 pH 值的降低，降解產(chǎn)物的 ABTS 自由基清除能力越強

【參考文獻】：
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