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基于多組分反應(yīng)聚酰亞胺的制備與表征

發(fā)布時(shí)間:2021-07-22 11:06
  聚酰亞胺(PI)是一種以熱性能為主導(dǎo)綜合性能優(yōu)異的特種工程塑料,被廣泛的應(yīng)用于太陽(yáng)能電池板、衛(wèi)星天線、核工業(yè)以及消防領(lǐng)域等。為了滿足社會(huì)高速發(fā)展的需求,人們需要對(duì)PI的結(jié)構(gòu)與性能進(jìn)行深層次的挖掘。本論文將多組分反應(yīng)與PI合成的“二步法”相結(jié)合,將多個(gè)組分的結(jié)構(gòu)引入到PI的結(jié)構(gòu)中,并使PI的分子鏈形成了長(zhǎng)鏈線型結(jié)構(gòu)或體型結(jié)構(gòu)。通過(guò)將多組分反應(yīng)引入到PI的合成當(dāng)中,制備了系列PI材料,并對(duì)其結(jié)構(gòu)與性能進(jìn)行了研究。主要工作如下:1. 以設(shè)計(jì)合成的一系列不同低分子量二胺封端的聚酰胺酸(PAA)為反應(yīng)的原料,對(duì)苯二甲醛與巰基乙酸為反應(yīng)的其他原料,通過(guò)MALI反應(yīng)合成了系列高分子量長(zhǎng)鏈線型結(jié)構(gòu)的聚酰亞胺(MPI)。利用核磁共振氫譜(1H NMR)、紅外光譜(FTIR)、特性粘度測(cè)試對(duì)聚合物的結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征和證實(shí)反應(yīng)的順利進(jìn)行。采用熱重分析(TGA)、綜合熱分析(TG-DSC)、紫外可見(jiàn)吸收光譜(UV-Vis)、附著力測(cè)試、一維X射線衍射(1D WAXD)、熱臺(tái)偏光顯微鏡(POM)、耐化學(xué)性測(cè)試、吸水率測(cè)試等對(duì)系列MPI的性能進(jìn)行了表征,并探究了亞胺化溫度對(duì)MPI的性能影響。結(jié)果... 

【文章來(lái)源】:湘潭大學(xué)湖南省

【文章頁(yè)數(shù)】:76 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【部分圖文】:

基于多組分反應(yīng)聚酰亞胺的制備與表征


共聚聚酰亞胺的結(jié)構(gòu)與力學(xué)圖

過(guò)程圖,聚酰亞胺,衍生物,過(guò)程


湘潭大學(xué)碩士學(xué)位論文12圖1-11POSS衍生物共混復(fù)合聚酰亞胺的過(guò)程Qian等人[60]通過(guò)將TSPPOSS、溶劑黑34和炭黑CABOTM800混合到聚酰胺酸溶液中,經(jīng)亞胺化后制備出一種耐原子氧的超黑耐高溫聚酰亞胺納米復(fù)合薄膜,如圖1-12所示。由于添加劑POSS、染料和炭黑的粒度只有數(shù)十微米,所以在聚酰胺酸溶液中有良好耐化學(xué)性和分散性。TSPPOSS用于增強(qiáng)原子氧電阻,以抵抗高溫原子氧(AO)的侵蝕。采用溶劑黑34和炭黑CABOTM800與聚酰胺酸混合,以制備超低透光率和反射率的超黑聚酰亞胺薄膜。且POSS膜的熱膨脹系數(shù)(CTE)與Kapton和Cu的CTE值相近,有利于基于分層技術(shù)的多層界面工程。通過(guò)表征結(jié)果顯示,TSPPOSS、溶劑黑34和炭黑CABOTM800與聚酰亞胺的納米復(fù)合薄膜表現(xiàn)出優(yōu)異的抗AO性能、寬光譜超黑光學(xué)性能、高發(fā)射率和低熱膨脹性,在空間應(yīng)用中具有廣闊的運(yùn)用前景。圖1-12耐原子氧的超黑聚酰亞胺納米復(fù)合薄膜及性能圖

納米復(fù)合薄膜,原子氧,聚酰亞胺,性能


湘潭大學(xué)碩士學(xué)位論文12圖1-11POSS衍生物共混復(fù)合聚酰亞胺的過(guò)程Qian等人[60]通過(guò)將TSPPOSS、溶劑黑34和炭黑CABOTM800混合到聚酰胺酸溶液中,經(jīng)亞胺化后制備出一種耐原子氧的超黑耐高溫聚酰亞胺納米復(fù)合薄膜,如圖1-12所示。由于添加劑POSS、染料和炭黑的粒度只有數(shù)十微米,所以在聚酰胺酸溶液中有良好耐化學(xué)性和分散性。TSPPOSS用于增強(qiáng)原子氧電阻,以抵抗高溫原子氧(AO)的侵蝕。采用溶劑黑34和炭黑CABOTM800與聚酰胺酸混合,以制備超低透光率和反射率的超黑聚酰亞胺薄膜。且POSS膜的熱膨脹系數(shù)(CTE)與Kapton和Cu的CTE值相近,有利于基于分層技術(shù)的多層界面工程。通過(guò)表征結(jié)果顯示,TSPPOSS、溶劑黑34和炭黑CABOTM800與聚酰亞胺的納米復(fù)合薄膜表現(xiàn)出優(yōu)異的抗AO性能、寬光譜超黑光學(xué)性能、高發(fā)射率和低熱膨脹性,在空間應(yīng)用中具有廣闊的運(yùn)用前景。圖1-12耐原子氧的超黑聚酰亞胺納米復(fù)合薄膜及性能圖

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]PI/T-SiO2雜化薄膜的制備及偶聯(lián)劑的影響[J]. 李元慶,張以河,李明,付紹云.  合成樹脂及塑料. 2004(05)
[2]溫度對(duì)線性和交聯(lián)聚酰亞胺摩擦磨損性能的影響[J]. 叢培紅,李同生,劉旭軍,張緒壽,薛群基,李家澤.  高分子學(xué)報(bào). 1998(05)



本文編號(hào):3297034

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