堆內(nèi)熔融物滯留策略要求壓力容器下封頭外表面的熱流密度不能超過沸騰換熱的臨界熱流密度(Critical Heat Flux,CHF),整體實(shí)驗(yàn)裝置已被廣泛用于強(qiáng)化臨界沸騰換熱的實(shí)驗(yàn)研究中,但在實(shí)際操作有局限性。本實(shí)驗(yàn)對(duì)比了銅光表面在分體和整體實(shí)驗(yàn)裝置中穩(wěn)態(tài)加熱實(shí)驗(yàn)下的CHF,兩者偏差整體小于1.5%。對(duì)分體實(shí)驗(yàn)裝置進(jìn)行理論誤差分析,當(dāng)導(dǎo)熱硅脂厚度小于0.22mm時(shí),誤差可以控制在5%以內(nèi),分體實(shí)驗(yàn)裝置能夠有效的代替整體實(shí)驗(yàn)裝置。

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【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)裝置
2 實(shí)驗(yàn)方法
3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析
4 分析與討論
5 結(jié)語



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