陰離子改性拋光劑對磷酸鹽激光釹玻璃拋光的影響
發(fā)布時間:2022-10-08 14:51
為了改善氧化鈰拋光液的性能,在不破壞釹玻璃表面質(zhì)量的前提下提高釹玻璃的拋光效率,選擇在氧化鈰拋光液中加入陰離子表面活性劑雷米邦A(yù),并研究了改性后的拋光液對氧化鈰拋光液中粒子粒徑、釹玻璃的材料去除率和拋光后釹玻璃表面質(zhì)量的影響,分析了加入不同質(zhì)量分?jǐn)?shù)雷米邦A(yù)的拋光液在不同pH值下對釹玻璃拋光速率和拋光質(zhì)量的影響。結(jié)果表明:雷米邦A(yù)能夠抑制拋光液中納米粒子的團(tuán)聚,降低氧化鈰的中位粒徑,提高拋光效率。當(dāng)二氧化鈰質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3%、pH為6.5、雷米邦A(yù)質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.30%時,材料去除率達(dá)到最大值169 nm/min;當(dāng)二氧化鈰質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3%、pH為7、雷米邦A(yù)質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.20%時,釹玻璃的表面粗糙度達(dá)到最小值0.9 nm。
【文章頁數(shù)】:5 頁
【文章目錄】:
1 引 言
2 實(shí)驗(yàn)條件與過程
2.1 拋光液的制備
2.2 化學(xué)機(jī)械拋光實(shí)驗(yàn)
2.3 性能表征
3 結(jié)果與討論
3.1 不同質(zhì)量分?jǐn)?shù)雷米邦A(yù)對氧化鈰粒子粒徑的影響
3.2 不同質(zhì)量分?jǐn)?shù)雷米邦A(yù)對釹玻璃化學(xué)機(jī)械拋光的影響
3.3 不同pH值雷米邦A(yù)對釹玻璃化學(xué)機(jī)械拋光效果的影響
4 結(jié) 論
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]拋光過程中光學(xué)元件表面劃痕的形成和控制[J]. 湯文龍,梁尚娟,焦翔,樊全堂,尹進(jìn),朱健強(qiáng). 中國激光. 2019(12)
[2]多桿機(jī)構(gòu)復(fù)合擺動軌跡拋光方法對光學(xué)元件中頻誤差的抑制[J]. 賴璐文,劉志剛,焦翔,朱健強(qiáng). 中國激光. 2019(11)
[3]改性拋光劑對光學(xué)玻璃拋光質(zhì)量的影響[J]. 梁尚娟,湯文龍,焦翔,朱健強(qiáng). 中國激光. 2017(12)
[4]浴法拋光中拋光粉粒徑對去除效果影響的試驗(yàn)研究[J]. 張楊,徐清蘭,陳梅,張蓉竹. 光學(xué)技術(shù). 2014(06)
[5]磷酸鹽激光玻璃的化學(xué)機(jī)械拋光[J]. 張寶安,朱健強(qiáng),樊全堂. 中國激光. 2007(08)
[6]磷酸鹽玻璃型阻垢劑的性能評估及溶解機(jī)理研究[J]. 汪山,程繼健,陳奇. 無機(jī)材料學(xué)報(bào). 2000(06)
本文編號:3687909
【文章頁數(shù)】:5 頁
【文章目錄】:
1 引 言
2 實(shí)驗(yàn)條件與過程
2.1 拋光液的制備
2.2 化學(xué)機(jī)械拋光實(shí)驗(yàn)
2.3 性能表征
3 結(jié)果與討論
3.1 不同質(zhì)量分?jǐn)?shù)雷米邦A(yù)對氧化鈰粒子粒徑的影響
3.2 不同質(zhì)量分?jǐn)?shù)雷米邦A(yù)對釹玻璃化學(xué)機(jī)械拋光的影響
3.3 不同pH值雷米邦A(yù)對釹玻璃化學(xué)機(jī)械拋光效果的影響
4 結(jié) 論
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]拋光過程中光學(xué)元件表面劃痕的形成和控制[J]. 湯文龍,梁尚娟,焦翔,樊全堂,尹進(jìn),朱健強(qiáng). 中國激光. 2019(12)
[2]多桿機(jī)構(gòu)復(fù)合擺動軌跡拋光方法對光學(xué)元件中頻誤差的抑制[J]. 賴璐文,劉志剛,焦翔,朱健強(qiáng). 中國激光. 2019(11)
[3]改性拋光劑對光學(xué)玻璃拋光質(zhì)量的影響[J]. 梁尚娟,湯文龍,焦翔,朱健強(qiáng). 中國激光. 2017(12)
[4]浴法拋光中拋光粉粒徑對去除效果影響的試驗(yàn)研究[J]. 張楊,徐清蘭,陳梅,張蓉竹. 光學(xué)技術(shù). 2014(06)
[5]磷酸鹽激光玻璃的化學(xué)機(jī)械拋光[J]. 張寶安,朱健強(qiáng),樊全堂. 中國激光. 2007(08)
[6]磷酸鹽玻璃型阻垢劑的性能評估及溶解機(jī)理研究[J]. 汪山,程繼健,陳奇. 無機(jī)材料學(xué)報(bào). 2000(06)
本文編號:3687909
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