核電站一回路冷卻劑中有機(jī)物干擾下的痕量陰離子檢測(cè)技術(shù)
發(fā)布時(shí)間:2021-08-24 22:32
為了保證核電廠機(jī)組安全,在核電廠《化學(xué)監(jiān)督大綱》中對(duì)一回路的F-、Cl-、SO42-作了嚴(yán)格的規(guī)定。如果一回路樣品溶液中含有高濃度的有機(jī)物,會(huì)對(duì)離子色譜法測(cè)量痕量陰離子造成嚴(yán)重干擾,影響了F-、Cl-、SO42-的分離。通過采用RP柱有效地去除了樣品溶液中高濃度有機(jī)物,降低了有機(jī)物對(duì)痕量陰離子測(cè)量造成的影響,成功實(shí)現(xiàn)WWER機(jī)組高濃度有機(jī)物溶液中痕量陰離子的準(zhǔn)確測(cè)量,確保水化學(xué)工況能及時(shí)得到有效控制和監(jiān)督。
【文章來源】:產(chǎn)業(yè)與科技論壇. 2020,19(07)
【文章頁數(shù)】:2 頁
【部分圖文】:
RP柱實(shí)物圖
用RP柱對(duì)存硼水箱樣品進(jìn)行預(yù)處理后,測(cè)量其TOC含量,結(jié)果為252μg/L,可見樣品中大部分的有機(jī)物已被去除;然后,再進(jìn)行痕量陰離子的分析,離子色譜譜圖如圖3所示,可見各組分的分離情況得到改善,可以進(jìn)行較為準(zhǔn)確的定性與定量分析。因此,RP柱有效地消除了溶液中高濃度有機(jī)物對(duì)痕量陰離子測(cè)量的影響,可以應(yīng)用于高濃度有機(jī)物溶液中痕量陰離子的測(cè)量。
本文編號(hào):3360839
【文章來源】:產(chǎn)業(yè)與科技論壇. 2020,19(07)
【文章頁數(shù)】:2 頁
【部分圖文】:
RP柱實(shí)物圖
用RP柱對(duì)存硼水箱樣品進(jìn)行預(yù)處理后,測(cè)量其TOC含量,結(jié)果為252μg/L,可見樣品中大部分的有機(jī)物已被去除;然后,再進(jìn)行痕量陰離子的分析,離子色譜譜圖如圖3所示,可見各組分的分離情況得到改善,可以進(jìn)行較為準(zhǔn)確的定性與定量分析。因此,RP柱有效地消除了溶液中高濃度有機(jī)物對(duì)痕量陰離子測(cè)量的影響,可以應(yīng)用于高濃度有機(jī)物溶液中痕量陰離子的測(cè)量。
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