等離子體電磁加速器中快速電磁閥氣體注入特性研究
發(fā)布時間:2021-06-02 19:09
在注氣持續(xù)時間短、注入氣體質(zhì)量大的快速電磁閥測量中,采用高頻響應(yīng)壓力傳感器在電磁閥出口測量了氣體的動態(tài)壓力,通過真空室注氣前后的壓強(qiáng)差測量了注入氣體的質(zhì)量。研究表明,驅(qū)動電流、位移限定以及背景氣壓對氣體注入特性有顯著影響。當(dāng)閥片受到的電磁力遠(yuǎn)大于背景氣壓造成的阻力時,增大驅(qū)動電流和增大背景氣壓都會加速流道口氣體流動,提高氣體注入量;電磁閥最高流速超過當(dāng)?shù)芈曀?流道應(yīng)該設(shè)計成擴(kuò)張式,且流道的長度要求盡可能短;電磁閥的注氣持續(xù)時間主要由閥片的運(yùn)動時間以及閥片關(guān)閉后氣體在流道內(nèi)擴(kuò)散速率決定的。
【文章來源】:核聚變與等離子體物理. 2020,40(01)北大核心CSCD
【文章頁數(shù)】:5 頁
【部分圖文】:
電磁閥結(jié)構(gòu)圖(a)和驅(qū)動電路圖(b)
驅(qū)動電流以及背景氣壓對電磁閥響應(yīng)時間的影響如圖3所示。電磁閥的響應(yīng)時間可以分為兩部分:一部分是閥片受到的電磁力克服背景氣壓造成的阻力、彈簧彈力以及閥片自重所需的時間ts1,另一部分是氣體在流道內(nèi)運(yùn)動的時間ts2。ts1主要與驅(qū)動電流有關(guān),ts2主要與流道入口的初始流速有關(guān)。當(dāng)背景氣壓不變時,驅(qū)動電流越大,電磁閥響應(yīng)時間越短。驅(qū)動電流越大,閥片運(yùn)動越快。一方面閥片克服阻力所需的時間ts1變小;另一方面流道口壓強(qiáng)變化變大,初始流速增大,氣體在流道內(nèi)運(yùn)動的時間ts2變小,故電磁閥響應(yīng)時間縮短。
滑塊模式是目前產(chǎn)生大質(zhì)量高速度高密度等離子體射流所期望的工作模式,要求工作介質(zhì)能夠全部快速的注入,同時在軌道內(nèi)分布較為集中,而且放電時無工作介質(zhì)注入。電磁閥的可關(guān)斷性、注氣的持續(xù)時間也是衡量其性能的一項重要指標(biāo)。實驗通過引入位移限定,分別設(shè)置為0.5mm、1.0mm、1.5mm、2.0mm,研究氣體持續(xù)時間的影響因素。不同位移限定下注氣持續(xù)時間與電流的關(guān)系如圖5所示,背景氣壓對注氣時間的影響如圖6所示。由圖5可知,隨著驅(qū)動電流的增大,不同位移限定條件下注入氣體的持續(xù)時間均呈現(xiàn)先增大后減小的趨勢。在最大位移未達(dá)到限定值前,電流增大,閥片位移增大,注入氣體的持續(xù)時間增大;當(dāng)最大位移超過限定值時,電流增大,閥片運(yùn)動速度增大,由于存在位移限定,閥片由開啟至關(guān)閉的運(yùn)動時間減小。由圖5所示數(shù)據(jù),可以推算出閥片位移達(dá)到0.5mm、1.0mm、1.5mm、2.0mm所需的電流分別約為1.25kA、1.55kA、1.71kA和1.87kA。
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]電磁斥力快速開關(guān)研究[J]. 楊浩,呂瑋,劉彬,方太勛,楊兵,王宇,石巍. 高壓電器. 2016(03)
[2]高壓直流斷路器中電磁斥力快速驅(qū)動器研究[J]. 黃瑜瓏,張祖安,溫偉杰,高樹同,程鐵漢,劉家妤. 高電壓技術(shù). 2014(10)
[3]電磁斥力機(jī)構(gòu)數(shù)學(xué)模型的簡化與求解[J]. 武瑾,莊勁武,王晨,江壯賢. 中國電機(jī)工程學(xué)報. 2013(24)
[4]等離子體驅(qū)動碎片加速器中脈沖充氣電磁閥[J]. 馮春華,房同珍,王龍,楊宣宗,黃建國,陳朝峰,韓建偉,孫遠(yuǎn)程. 核聚變與等離子體物理. 2011(02)
[5]高重復(fù)性脈沖電磁氣閥(FMGV-2)[J]. 吳成,江德儀,楊思澤,沈志剛. 儀器儀表學(xué)報. 1990(02)
本文編號:3210588
【文章來源】:核聚變與等離子體物理. 2020,40(01)北大核心CSCD
【文章頁數(shù)】:5 頁
【部分圖文】:
電磁閥結(jié)構(gòu)圖(a)和驅(qū)動電路圖(b)
驅(qū)動電流以及背景氣壓對電磁閥響應(yīng)時間的影響如圖3所示。電磁閥的響應(yīng)時間可以分為兩部分:一部分是閥片受到的電磁力克服背景氣壓造成的阻力、彈簧彈力以及閥片自重所需的時間ts1,另一部分是氣體在流道內(nèi)運(yùn)動的時間ts2。ts1主要與驅(qū)動電流有關(guān),ts2主要與流道入口的初始流速有關(guān)。當(dāng)背景氣壓不變時,驅(qū)動電流越大,電磁閥響應(yīng)時間越短。驅(qū)動電流越大,閥片運(yùn)動越快。一方面閥片克服阻力所需的時間ts1變小;另一方面流道口壓強(qiáng)變化變大,初始流速增大,氣體在流道內(nèi)運(yùn)動的時間ts2變小,故電磁閥響應(yīng)時間縮短。
滑塊模式是目前產(chǎn)生大質(zhì)量高速度高密度等離子體射流所期望的工作模式,要求工作介質(zhì)能夠全部快速的注入,同時在軌道內(nèi)分布較為集中,而且放電時無工作介質(zhì)注入。電磁閥的可關(guān)斷性、注氣的持續(xù)時間也是衡量其性能的一項重要指標(biāo)。實驗通過引入位移限定,分別設(shè)置為0.5mm、1.0mm、1.5mm、2.0mm,研究氣體持續(xù)時間的影響因素。不同位移限定下注氣持續(xù)時間與電流的關(guān)系如圖5所示,背景氣壓對注氣時間的影響如圖6所示。由圖5可知,隨著驅(qū)動電流的增大,不同位移限定條件下注入氣體的持續(xù)時間均呈現(xiàn)先增大后減小的趨勢。在最大位移未達(dá)到限定值前,電流增大,閥片位移增大,注入氣體的持續(xù)時間增大;當(dāng)最大位移超過限定值時,電流增大,閥片運(yùn)動速度增大,由于存在位移限定,閥片由開啟至關(guān)閉的運(yùn)動時間減小。由圖5所示數(shù)據(jù),可以推算出閥片位移達(dá)到0.5mm、1.0mm、1.5mm、2.0mm所需的電流分別約為1.25kA、1.55kA、1.71kA和1.87kA。
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]電磁斥力快速開關(guān)研究[J]. 楊浩,呂瑋,劉彬,方太勛,楊兵,王宇,石巍. 高壓電器. 2016(03)
[2]高壓直流斷路器中電磁斥力快速驅(qū)動器研究[J]. 黃瑜瓏,張祖安,溫偉杰,高樹同,程鐵漢,劉家妤. 高電壓技術(shù). 2014(10)
[3]電磁斥力機(jī)構(gòu)數(shù)學(xué)模型的簡化與求解[J]. 武瑾,莊勁武,王晨,江壯賢. 中國電機(jī)工程學(xué)報. 2013(24)
[4]等離子體驅(qū)動碎片加速器中脈沖充氣電磁閥[J]. 馮春華,房同珍,王龍,楊宣宗,黃建國,陳朝峰,韓建偉,孫遠(yuǎn)程. 核聚變與等離子體物理. 2011(02)
[5]高重復(fù)性脈沖電磁氣閥(FMGV-2)[J]. 吳成,江德儀,楊思澤,沈志剛. 儀器儀表學(xué)報. 1990(02)
本文編號:3210588
本文鏈接:http://sikaile.net/projectlw/hkxlw/3210588.html
最近更新
教材專著