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響應(yīng)曲面法優(yōu)化GH3535平板樣片中FLiNaK熔鹽去污工藝條件

發(fā)布時(shí)間:2021-04-14 13:25
  為了獲得超聲波和化學(xué)法聯(lián)合去污LiF-NaF-KF(FLiNaK)熔鹽的最佳工藝條件,利用響應(yīng)曲面法和Box-Behnken設(shè)計(jì)(BBD)建立多項(xiàng)式模型,考察了反應(yīng)溫度、超聲波功率、硝酸鋁濃度和反應(yīng)時(shí)間等因素對(duì)熔鹽去除率的影響。結(jié)果顯示:模型的相關(guān)系數(shù)r2為0.958 0,校正的相關(guān)系數(shù)radj2為0.915 9,表明模型的回歸性顯著,擬合程度高。影響熔鹽去除率的因素由高到低為:反應(yīng)時(shí)間>超聲波功率>反應(yīng)溫度>硝酸鋁濃度。預(yù)測(cè)的最佳去污工藝條件為:反應(yīng)溫度60℃、超聲波功率300 W、硝酸鋁濃度0.1 mol/L和反應(yīng)時(shí)間9 min。在此條件下開展的去污實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證熔鹽的去除率為98.74%±1.12%(n=3),與預(yù)測(cè)值99.99%的相對(duì)誤差為1.25%。表明采用響應(yīng)曲面法優(yōu)化超聲波和化學(xué)法聯(lián)合去污FLiNaK熔鹽的工藝條件合理,結(jié)果可靠,可為下一步工程應(yīng)用提供參考。 

【文章來源】:核化學(xué)與放射化學(xué). 2020,42(05)北大核心CSCD

【文章頁(yè)數(shù)】:6 頁(yè)

【部分圖文】:

響應(yīng)曲面法優(yōu)化GH3535平板樣片中FLiNaK熔鹽去污工藝條件


GH3535樣片的外觀

曲面圖,熔鹽,去除率,交互作用


為驗(yàn)證模型和優(yōu)化結(jié)果的準(zhǔn)確性,在優(yōu)化條件下開展FLiNaK熔鹽的去污實(shí)驗(yàn)。考慮到實(shí)際的可操作性,將工藝條件參數(shù)修正為反應(yīng)溫度為60 ℃,超聲波功率為300 W,硝酸鋁濃度為0.1 mol/L,反應(yīng)時(shí)間為9 min。三次平行實(shí)驗(yàn)得出的FLiNaK熔鹽去除率平均值為98.74%±1.12%,實(shí)際值與預(yù)測(cè)值之間的相對(duì)誤差為1.25%,表明模型預(yù)測(cè)與實(shí)驗(yàn)結(jié)果擬合較好,所建模型適用于超聲波和化學(xué)法聯(lián)合去污FLiNaK熔鹽的實(shí)驗(yàn)。3 結(jié) 論

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
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本文編號(hào):3137398

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