發(fā)布時間：2021-03-25 22:54

　　利用搭建的熱等離子體實驗裝置,對重金屬鎘表面沾污的石墨樣片進行去污處理,并采用X射線熒光分析去污前后的沾污程度。通過改變樣片沾污方式、去污時間和輸出電流,對熱等離子體的干法去污能力進行了探討。研究結(jié)果表明,熱等離子體的去污率與其剝離厚度息息相關(guān),且兩者都隨著輸出電流和去污時間的增大而增大。當輸出電流為60 A、去污時間為100 s時,滴加式和浸泡式樣片的去污率分別為92%和65%,剝離厚度均達到了幾十微米。在同樣的實驗條件下對熱等離子體濕法去污進行了探索,發(fā)現(xiàn)在相同輸出電流時,隨著去污時間的增加濕法去污比干法去污具有更高的去污率,為不同去污場合提供了更多的選擇。 

【文章來源】：核技術(shù). 2020,43(04)北大核心CSCD

【文章頁數(shù)】：5 頁

【部分圖文】：

實驗裝置示意圖

去污前后的樣片形貌如圖2所示，（a）為未沾污樣片形貌圖，經(jīng)預處理后其表面較為光滑且無雜質(zhì)附著；（b）為預處理后樣片的局部放大圖，可以看出其表面存在較多的孔隙和裂紋；（c）為樣片沾污后形貌圖，其表面及基材內(nèi)部均被不同程度污染；（d）為樣片去污后形貌圖，鐘罩型等離子體弧作用在樣片產(chǎn)生剝離，留下了明顯的長條狀去污痕跡。2.1.1 滴加式去污

在不同的電流強度和去污時間下，對滴加式樣片進行去污處理，去污率結(jié)果示于圖3。由圖3所知，石墨表面去污率隨輸出電流和去污時間的增大而增大。在輸出電流大于40 A后，去污率與去污時間基本呈線性關(guān)系。當輸出電流為60 A時，去污效果最為明顯，最高可達到92%。熱等離子體對石墨樣片表面進行了一定程度的剝離，其結(jié)果示于圖4。輸出電流為50 A時，石墨樣片表面的剝離程度最大，最大剝離厚度達到57μm。輸出電流60 A時具有最佳的去污率，其剝離厚度小于50 A，其原因在于表面孔隙和裂紋會加速熱等離子體的剝離作用，而60 A處理樣片的表面孔隙和裂紋較少。因此，可在較小的剝離厚度下便可得到較大的去污率。

【參考文獻】：
期刊論文
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本文編號：3100463