幾種自相關過程控制圖的效果研究
發(fā)布時間:2020-11-20 04:34
任何企業(yè)若想在競爭中保持優(yōu)勢,就需要控制并提高產(chǎn)品質(zhì)量。統(tǒng)計過程控制是工業(yè)生產(chǎn)過程中對質(zhì)量把控的最常用方法,主要通過控制圖監(jiān)測質(zhì)量特性確保生產(chǎn)過程處于受控狀態(tài)。選擇合適的控制圖,對于提高產(chǎn)品質(zhì)量及降低成本都具有重要意義。常用的控制圖,包括常規(guī)控制圖、CUSUM控制圖和EWMA控制圖,它們在使用中受到質(zhì)量特性數(shù)據(jù)獨立同分布這一假設前提的約束;然而實際生產(chǎn)過程中,觀測值通常是具有自相關性的。對于觀測數(shù)據(jù)自相關的生產(chǎn)過程,繼續(xù)使用常規(guī)控制圖等進行質(zhì)量監(jiān)控,可能產(chǎn)生大量的虛假報警,從而失去了控制圖本身的意義。因而只有消除質(zhì)量特性數(shù)據(jù)間的自相關性,才能采用常規(guī)控制圖等對其進行監(jiān)控;也可通過調(diào)整控制圖的控制限,直接監(jiān)測過程的自相關數(shù)據(jù),這是監(jiān)控自相關過程的兩種可行辦法。論文針對監(jiān)控自相關過程的問題進行探討,嘗試完善統(tǒng)計過程控制適用于自相關過程的理論和方法。具體工作如下:(1)闡述包括常規(guī)控制圖在內(nèi)的質(zhì)量控制圖的原理及參數(shù)確定方法,針對平穩(wěn)自相關過程進行研究,以??AR1模型擬合帶有偏移的觀測數(shù)據(jù),若直接采用常規(guī)控制圖等進行監(jiān)控,控制圖會發(fā)生虛假警報,給出常規(guī)控制圖不適用于監(jiān)控自相關過程的缺陷。(2)通過擬合時間序列模型得到殘差,以消除自相關性,將殘差作為統(tǒng)計量得到殘差控制圖。數(shù)值實驗結果表明殘差控制圖、殘差CUSUM控制圖和殘差EWMA控制圖對過程中偏移的檢測有一定效果,但計算殘差較為繁瑣。(3)針對以上問題,論文提出改進的EWMA控制圖,通過重新估計統(tǒng)計量的方差改變控制限,得以直接監(jiān)測自相關數(shù)據(jù),且檢測偏移的效果提高。(4)考慮到白噪聲序列可能存在的均值偏移,通過調(diào)整控制圖的決策參數(shù),提出改進的CUSUM控制圖,對過程中均值偏移的檢測更加全面、準確。通過數(shù)值實驗與殘差控制圖對比,結果表明本文提出的改進的控制圖對自相關過程的控制效果更好。
【學位單位】:長安大學
【學位級別】:碩士
【學位年份】:2016
【中圖分類】:O213.1
【文章目錄】:
摘要
Abstract
第一章 緒論
1.1 研究的背景及意義
1.2 自相關過程控制圖國內(nèi)外研究現(xiàn)狀
1.3 本文研究內(nèi)容與結構
第二章 自相關過程介紹
2.1 自相關過程及其識別
2.1.1 自相關過程的產(chǎn)生原因及影響
2.1.2 自相關過程的識別方法
2.2 時間序列分析模型
2.2.1 時間序列的平穩(wěn)性
2.2.2 常見平穩(wěn)時間序列模型
2.2.3 平穩(wěn)時間序列模型的識別
2.3 本章小結
第三章 常規(guī)控制圖的理論
3.1 統(tǒng)計過程控制概述
3.1.1 過程控制中的兩種原因
3.1.2 統(tǒng)計過程控制的兩種狀態(tài)
3.2 質(zhì)量控制圖
3.2.1 控制圖的原理與結構
3.2.2 兩種錯誤及決策準則
3.2.3 控制圖性能評價
3.3 質(zhì)量控制中常用的控制圖
3.3.1 休哈特控制圖——單值控制圖
3.3.2 累積和控制圖
3.3.3 指數(shù)加權移動平均控制圖
3.4 幾種常用控制圖控制效果分析
3.4.1 數(shù)據(jù)生成
3.4.2 休哈特控制圖
3.4.3 CUSUM控制圖
3.4.4 EWMA控制圖
3.5 本章小結
第四章 殘差控制圖
4.1 殘差控制圖
4.1.1 殘差控制圖原理
4.1.2 殘差控制圖的具體流程
4.2 殘差EWMA控制圖
4.3 殘差CUSUM控制圖
4.4 殘差控制圖數(shù)值實驗
4.5 本章小結
第五章 自相關過程的改進型控制圖
5.1 改進的EWMA控制圖
5.1.1 對EWMA控制圖改進的理論基礎
5.1.2 改進的EWMA控制圖的實現(xiàn)步驟
5.2 改進的CUSUM控制圖
5.2.1 對CUSUM控制圖改進的理論基礎
5.2.2 改進CUSUM控制圖的實現(xiàn)步驟
5.3 改進控制圖數(shù)值實驗
5.3.1 改進的EWMA控制圖
5.3.2 改進的CUSUM控制圖
5.4 本章小結
第六章 結論與展望
6.1 論文主要研究成果
6.2 需要進一步研究的問題
參考文獻
攻讀碩士學位期間取得的研究成果
致謝
【參考文獻】
本文編號:2890957
【學位單位】:長安大學
【學位級別】:碩士
【學位年份】:2016
【中圖分類】:O213.1
【文章目錄】:
摘要
Abstract
第一章 緒論
1.1 研究的背景及意義
1.2 自相關過程控制圖國內(nèi)外研究現(xiàn)狀
1.3 本文研究內(nèi)容與結構
第二章 自相關過程介紹
2.1 自相關過程及其識別
2.1.1 自相關過程的產(chǎn)生原因及影響
2.1.2 自相關過程的識別方法
2.2 時間序列分析模型
2.2.1 時間序列的平穩(wěn)性
2.2.2 常見平穩(wěn)時間序列模型
2.2.3 平穩(wěn)時間序列模型的識別
2.3 本章小結
第三章 常規(guī)控制圖的理論
3.1 統(tǒng)計過程控制概述
3.1.1 過程控制中的兩種原因
3.1.2 統(tǒng)計過程控制的兩種狀態(tài)
3.2 質(zhì)量控制圖
3.2.1 控制圖的原理與結構
3.2.2 兩種錯誤及決策準則
3.2.3 控制圖性能評價
3.3 質(zhì)量控制中常用的控制圖
3.3.1 休哈特控制圖——單值控制圖
3.3.2 累積和控制圖
3.3.3 指數(shù)加權移動平均控制圖
3.4 幾種常用控制圖控制效果分析
3.4.1 數(shù)據(jù)生成
3.4.2 休哈特控制圖
3.4.3 CUSUM控制圖
3.4.4 EWMA控制圖
3.5 本章小結
第四章 殘差控制圖
4.1 殘差控制圖
4.1.1 殘差控制圖原理
4.1.2 殘差控制圖的具體流程
4.2 殘差EWMA控制圖
4.3 殘差CUSUM控制圖
4.4 殘差控制圖數(shù)值實驗
4.5 本章小結
第五章 自相關過程的改進型控制圖
5.1 改進的EWMA控制圖
5.1.1 對EWMA控制圖改進的理論基礎
5.1.2 改進的EWMA控制圖的實現(xiàn)步驟
5.2 改進的CUSUM控制圖
5.2.1 對CUSUM控制圖改進的理論基礎
5.2.2 改進CUSUM控制圖的實現(xiàn)步驟
5.3 改進控制圖數(shù)值實驗
5.3.1 改進的EWMA控制圖
5.3.2 改進的CUSUM控制圖
5.4 本章小結
第六章 結論與展望
6.1 論文主要研究成果
6.2 需要進一步研究的問題
參考文獻
攻讀碩士學位期間取得的研究成果
致謝
【參考文獻】
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本文編號:2890957
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