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利用SECM直接模式實(shí)現(xiàn)導(dǎo)體表面微區(qū)可控加工

發(fā)布時(shí)間:2017-09-30 09:22

  本文關(guān)鍵詞:利用SECM直接模式實(shí)現(xiàn)導(dǎo)體表面微區(qū)可控加工


  更多相關(guān)文章: 掃描電化學(xué)顯微鏡 微區(qū)電沉積 ITO 微區(qū)刻蝕


【摘要】:掃描電化學(xué)顯微鏡(SECM)具有操作簡(jiǎn)便、分辨率高、快捷高效、成本較低等優(yōu)點(diǎn),SECM在微區(qū)加工中具有顯著的優(yōu)勢(shì)。本論文利用SECM直接模式研究了導(dǎo)體表面的微區(qū)可控加工。本論文主要研究工作包括:(1) 利用SECM直接模式在玻碳片上實(shí)現(xiàn)了金屬鉑的微區(qū)可控沉積,研究了沉積電位、沉積時(shí)間、氯鉑酸濃度等對(duì)微區(qū)沉積輪廓尺寸和微觀顆粒形貌的影響,發(fā)現(xiàn)沉積點(diǎn)的顆粒形貌具有梯度變化的特點(diǎn),顆粒大小隨著沉積條件的變化而變化。沉積電位主要影響輪廓直徑;而沉積時(shí)間主要影響膜層厚度;诖艘虼送ㄟ^調(diào)控相關(guān)工藝參數(shù)實(shí)現(xiàn)了金屬鉑在玻碳表面的微區(qū)可控沉積。利用SECM的基體產(chǎn)生-探針收集(SG-TC)模式對(duì)鉑沉積層的析氫性能進(jìn)行了探究,發(fā)現(xiàn)該方法沉積的鉑層具有良好的析氫性能。(2) 將濕法刻蝕與SECM直接模式相結(jié)合實(shí)現(xiàn)了ITO導(dǎo)電玻璃的微區(qū)可控刻蝕,發(fā)現(xiàn)這種方法在基體所研究的全電位范圍內(nèi)都能實(shí)現(xiàn)ITO的刻蝕,并對(duì)刻蝕機(jī)理進(jìn)行了分析。認(rèn)為在基體的陽(yáng)極電位范圍內(nèi)主要通過陽(yáng)極溶解反應(yīng)實(shí)現(xiàn)刻蝕,陰極電位區(qū)域內(nèi)通過探針在微區(qū)范圍內(nèi)形成強(qiáng)酸性和強(qiáng)氧化性環(huán)境使ITO薄膜溶解而產(chǎn)生刻蝕。上述微區(qū)刻蝕方法方便快捷、成本低,無需掩膜一步形成微米尺度的圖案化,并且不會(huì)破壞微區(qū)外的其它基底表面,為導(dǎo)電基體表面微區(qū)加工提供了一種新的方法。
【關(guān)鍵詞】:掃描電化學(xué)顯微鏡 微區(qū)電沉積 ITO 微區(qū)刻蝕
【學(xué)位授予單位】:浙江大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號(hào)】:TH742
【目錄】:
  • 致謝5-7
  • 摘要7-8
  • Abstract8-13
  • 第一章 緒論13-39
  • 1.1 SECM的發(fā)展概況13-14
  • 1.2 SECM的實(shí)驗(yàn)裝置14-16
  • 1.3 SECM的工作原理16-19
  • 1.4 SECM的工作模式19-21
  • 1.5 SECM在微區(qū)加工中的應(yīng)用21-31
  • 1.5.1 SECM在微區(qū)沉積中的應(yīng)用21-29
  • 1.5.2 SECM在微區(qū)刻蝕中的應(yīng)用29-31
  • 1.6 本論文的研究目的與意義31
  • 參考文獻(xiàn)31-39
  • 第二章 實(shí)驗(yàn)部分39-45
  • 2.1 實(shí)驗(yàn)試劑及基體39-40
  • 2.1.1 化學(xué)試劑39
  • 2.1.2 實(shí)驗(yàn)用基體及表面前處理39-40
  • 2.1.3 二茂鐵甲醇溶液配制40
  • 2.1.4 鉑沉積液的配制40
  • 2.1.5 ITO刻蝕液的配制40
  • 2.2 實(shí)驗(yàn)用SECM裝置40-43
  • 2.2.1 探針40-41
  • 2.2.2 SECM裝置41-43
  • 2.3 表征方法43-45
  • 2.3.1 循環(huán)伏安(CV)測(cè)試43
  • 2.3.2 逼近曲線(Approach Curve)43
  • 2.3.3 掃描電子顯微鏡(SEM)43
  • 2.3.4 沉積膜厚度及刻蝕深度測(cè)試43
  • 2.3.5 線性掃描伏安(LSV)測(cè)試43-44
  • 2.3.6 SECM基底產(chǎn)生-探針收集(SG-TC)模式測(cè)試44-45
  • 第三章 基于SECM直接模式實(shí)現(xiàn)金屬鉑的微區(qū)可控沉積45-65
  • 3.1 引言45-46
  • 3.2 實(shí)驗(yàn)內(nèi)容及方法46-47
  • 3.2.1 微區(qū)電沉積金屬鉑的方法46-47
  • 3.2.2 微區(qū)沉積的影響因素47
  • 3.2.3 微區(qū)沉積膜層的表征47
  • 3.3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果及討論47-61
  • 3.3.1 鉑超微電極的表征47-49
  • 3.3.2 不同電位對(duì)微區(qū)沉積金屬鉑的影響49-53
  • 3.3.3 不同時(shí)間對(duì)微區(qū)沉積金屬鉑的影響53-56
  • 3.3.4 不同氯鉑酸濃度對(duì)微區(qū)沉積金屬鉑的影響56-59
  • 3.3.5 利用SECM的SG-TC模式測(cè)試鉑微區(qū)沉積層的析氫性能59-61
  • 3.4 本章小結(jié)61
  • 參考文獻(xiàn)61-65
  • 第四章 基于SECM直接模式全電位范圍微區(qū)刻蝕ITO玻璃65-75
  • 4.1 引言65-66
  • 4.2 實(shí)驗(yàn)內(nèi)容及方法66-67
  • 4.2.1 微區(qū)刻蝕ITO的方法66
  • 4.2.2 微區(qū)刻蝕的測(cè)試條件66
  • 4.2.3 微區(qū)刻蝕膜層的表征66-67
  • 4.3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果及討論67-71
  • 4.3.1 全電位范圍微區(qū)刻蝕的實(shí)現(xiàn)67-70
  • 4.3.2 全電位范圍微區(qū)刻蝕機(jī)理70-71
  • 4.4 本章小結(jié)71
  • 參考文獻(xiàn)71-75
  • 第五章 總結(jié)與展望75-77
  • 5.1 總結(jié)75
  • 5.2 展望75-77
  • 附錄77

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