隨著科技進(jìn)步與社會(huì)發(fā)展,精密光學(xué)元件、光學(xué)系統(tǒng)的應(yīng)用日益廣泛。光學(xué)元件表面存在的疵病和微量雜質(zhì)元素會(huì)導(dǎo)致光學(xué)元件損傷閾值降低,嚴(yán)重影響光學(xué)元件與光學(xué)系統(tǒng)的性能。有效檢測(cè)光學(xué)元件表面疵病元素成分和微量雜質(zhì)分布,對(duì)優(yōu)化光學(xué)元件精密加工工藝、提高光學(xué)元件和光學(xué)系統(tǒng)的性能具有重要意義。本論文分析了表面疵病檢測(cè)技術(shù)以及激光誘導(dǎo)擊穿光譜技術(shù)的國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀,針對(duì)現(xiàn)有光學(xué)元件表面疵病元素成分檢測(cè)技術(shù)的不足,結(jié)合表面疵病檢測(cè)技術(shù)與激光誘導(dǎo)擊穿光譜技術(shù),設(shè)計(jì)搭建一套微區(qū)激光誘導(dǎo)擊穿光譜系統(tǒng)（micro-LIBS）,用以檢測(cè)光學(xué)元件表面尺寸大小為微米量級(jí)的疵病元素成分,以及光學(xué)元件微量雜質(zhì)元素分布。使用設(shè)計(jì)搭建的微區(qū)激光誘導(dǎo)擊穿光譜系統(tǒng)定性檢測(cè)光學(xué)元件表面直徑約為10μm的疵病,有效檢測(cè)出疵病中元素成分;使用系統(tǒng)定性檢測(cè)磁流變拋光的K9玻璃拋光表面,有效檢測(cè)出樣品表面殘留有微量拋光液元素成分,在此基礎(chǔ)上掃描檢測(cè)拋光液元素成分的分布,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明微量拋光液元素成分不均勻地殘留于K9玻璃拋光表面。 

【文章來(lái)源】：浙江大學(xué)浙江省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁(yè)數(shù)】：90 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

圖１．２激光誘導(dǎo)等離子體產(chǎn)生過(guò)程示意圖??

圍??（ａ）?（Ｄ）??圖１．?３鋁合金表面ｍｉｃｒｏ－ＬＩＢＳ?２Ｄ掃描檢測(cè)燒蝕坑ＳＥＭ圖??如圖１．?３所示為使用ｍｉｃｒｏ－ＬＩＢＳ掃面檢測(cè)鋁合金表面后的燒蝕坑的ＳＥＭ圖，從圖中??可見(jiàn)，由于采用低能量脈沖激光且激光經(jīng)顯微聚焦透鏡聚焦，燒蝕坑橫向直徑為ｌＯｐｍ左??右，且燒蝕坑形狀規(guī)則，可知ｍｉｃｒｏ－ＬＩＢＳ具有很高的空間分辨率｜４７］。??（ａ）?（ｂ）??■ｙｍ?５０００，?ｒｒ—ｊ???Ｔｒ＊?ｉｔ?Ｍｎ－Ｆｅ－Ｃｕ?ｐｒｅｃｉｐｉｔａｔｅ?Ａｌ?ｉ?ｊ?＇?Ｍｎ??§?４０００?Ｊ?Ａｌ－ａｌｌｏｙ?ｍａｔｒｉｘ?：?１１?，??ｍ?ｔｓｏｏｏ?Ｌ?Ｉ?Ｉ?．??３?Ｃｕ?Ｆｅ?ｌｌ?．?！??２０００?；；?Ｊ?＇?１；?ｊ?ｊ?Ｉ?．??Ｊｍ?１?ｌｏｏｐ?１８?，?ｊｌｊ＇ｌｉ?（ｊｌ?：?１?ａ?．??３２０?３４０?３６０?３８０?４００?４２０??Ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ?［ｎｍ］??圖１．４?（ａ）鋁合金表面（ｂ）鋁合金表面ＵＢＳ譜圖??如圖１．４所示，（ａ）為鋁合金表面顯微圖，其中Ｍｌ、Ｍ２點(diǎn)表示在鋁合金表面無(wú)沉淀??物位置的ｍｉｃｒｏ－ＬＩＢＳ檢測(cè)點(diǎn)

?４２０??Ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ?［ｎｍ］??圖１．４?（ａ）鋁合金表面（ｂ）鋁合金表面ＵＢＳ譜圖??如圖１．４所示，（ａ）為鋁合金表面顯微圖，其中Ｍｌ、Ｍ２點(diǎn)表示在鋁合金表面無(wú)沉淀??物位置的ｍｉｃｒｏ－ＬＩＢＳ檢測(cè)點(diǎn)，ＰＩ、Ｐ２點(diǎn)表示在鋁合金表面有沉淀物位置的ｍｉｃｒｏ－ＵＢＳ檢??測(cè)點(diǎn)。（ｂ）為檢測(cè)結(jié)杲，其中實(shí)線表示ＰＩ、Ｐ２點(diǎn)的檢測(cè)結(jié)果，虛線表示Ｍｌ、Ｍ２點(diǎn)的檢??測(cè)結(jié)果，從圖中可以明顯看出ｍｉｃｒｏ－ＬＩＢＳ可以精確檢測(cè)出鋁合金表面沉淀物的元素成分??［４８］??〇??１１??


本文編號(hào)：3482202