本文關鍵詞：一種基于BP及RM算法的柱面近場三維RCS成像算法

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【摘要】：本文結合合成孔徑雷達二維斷面成像中平面波展開法與二維B-P算法,設計了一種新的柱面場三維RCS成像算法。此算法將成像步驟分為相位補償二維縱向斷面成像以及B-P算法水平面成像,用于柱面場RCS成像系統(tǒng)中在測試過程中可實時監(jiān)控二維縱向斷面成像效果。經(jīng)仿真數(shù)據(jù)與實測數(shù)據(jù)驗證,此成像算法成像效果良好,成像分辨率與理論相符,可應用于工程應用中。
【作者單位】： 電子測試技術重點實驗室;中國電子科技集團公司第四十一研究所;
【關鍵詞】： 柱面場 RCS 三維成像 SAR成像
【分類號】：TN957.52
【正文快照】： 引言置如圖1所示,設采樣點為(z,?),工作頻率f雷達散射截面(RCS)多維成像根據(jù)采樣方(對應波數(shù)k)時的目標散射測量數(shù)據(jù)表示為式可分為轉臺成像,掃描架平面近場三維成像,S(z,k,?)。成像目的是獲取目標散射強度在直角^柱面三維成像等。在二維RCS成像技術已經(jīng)相坐標系下的分布g(x,y

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