至2019年,中國大陸地區(qū)占全球顯示面板產(chǎn)能的近40%。但是,占總設(shè)備投資75%的Array段制程設(shè)備幾乎由日本、韓國和美國壟斷,光學(xué)自動(dòng)檢測(cè)設(shè)備（AOI）是大尺寸面板Array段制程的核心設(shè)備之一,直接決定了產(chǎn)品的良率。其主要用途是對(duì)制程中的各類像素缺陷、mask缺陷、線缺陷和異物缺陷等進(jìn)行檢測(cè),并提供缺陷準(zhǔn)確位置、尺寸、種類等信息,以改進(jìn)工藝和指導(dǎo)缺陷修復(fù),進(jìn)而提高產(chǎn)品良率。面板的多層膜結(jié)構(gòu)和Array制程的復(fù)雜工藝造成待檢基板紋理復(fù)雜,且存在大量近透明、低對(duì)比度微小缺陷,這給缺陷檢測(cè)帶來極大困難和挑戰(zhàn)。針對(duì)上述問題,本課題開展“顯示面板Array制程缺陷自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)方法研究”。主要研究工作如下:（1）開展了基于多項(xiàng)式曲線擬合和Retinex理論的光照不均校正算法研究,在完成微缺陷光學(xué)自動(dòng)檢測(cè)系統(tǒng)設(shè)計(jì)基礎(chǔ)上,討論系統(tǒng)成像存在的光照不均對(duì)缺陷檢測(cè)的影響,開展基于曲線擬合和多尺度高斯函數(shù)的光照不均校正算法的對(duì)比研究。采用二次、四次多項(xiàng)式結(jié)合的復(fù)合校正方法改進(jìn)了基于曲線擬合的光照不均校正效果;根據(jù)基于Retinex理論的光照分量估計(jì)模型,利用多尺度高斯函數(shù)在不同尺度下提取的光照分量進(jìn)行加... 

【文章來源】：哈爾濱工業(yè)大學(xué)黑龍江省 211工程院校 985工程院校

【文章頁數(shù)】：65 頁

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

Array制程工藝及可能出現(xiàn)缺陷

哈爾濱工業(yè)大學(xué)工程碩士學(xué)位論文4因造成的缺陷，且在制造過程中無法進(jìn)行檢測(cè)，僅能用于顯示面板制造完成后的檢測(cè)，不能在產(chǎn)品制造過程實(shí)現(xiàn)及時(shí)修復(fù)。光學(xué)檢測(cè)方法由于其非接觸性、自動(dòng)化程度高、可擴(kuò)展性強(qiáng)是當(dāng)前發(fā)展最快且使用最為廣泛的表面缺陷檢測(cè)方法之一[9]。目前全球AOI平板檢測(cè)設(shè)備生產(chǎn)廠家中，以色列的奧寶科技（Orbotech）憑借其科研轉(zhuǎn)化能力在AOI檢測(cè)設(shè)備研制中占據(jù)領(lǐng)先地位，并且在國內(nèi)市場(chǎng)有著極大的市場(chǎng)占有率，圖2-1為奧寶公司平板AOI檢測(cè)設(shè)備圖。韓國LG公司研發(fā)的光學(xué)缺陷檢測(cè)設(shè)備能夠?qū)χ匾毕莺涂珊雎匀毕葸M(jìn)行分類識(shí)別，分類正確率能達(dá)到98%。相較于國外，國內(nèi)技術(shù)和基礎(chǔ)相對(duì)薄弱，AOI設(shè)備多為小尺寸離線檢測(cè)設(shè)備，距離國外技術(shù)水平有著較大差距。LCD及OLED等液晶顯示平板在Array階段均為周期紋理表面，在復(fù)雜背景下，當(dāng)缺陷的灰度值與背景紋理灰度值處于同一水平時(shí)，傳統(tǒng)的缺陷檢測(cè)方法如邊緣檢測(cè)、閾值分割等不能有效的在紋理中將缺陷檢出。目前針對(duì)液晶平板的光學(xué)檢測(cè)方法主要可分為三大類：差影法、統(tǒng)計(jì)法和頻譜法。圖2-1奧寶公司顯示平板（FPD）AOI檢測(cè)設(shè)備圖1.2.1差影法差影法是一種簡(jiǎn)單直接的檢測(cè)方法，其核心思想為通過對(duì)無缺陷模板圖像與待檢測(cè)圖像進(jìn)行差分運(yùn)算，得到殘影圖像再根據(jù)一定的分割算法進(jìn)行缺陷判定。該方法主要包括無缺陷模板圖像的生成、模板與待測(cè)圖像配準(zhǔn)和缺陷提取

哈爾濱工業(yè)大學(xué)工程碩士學(xué)位論文10行算法處理，確定待檢面板是否存在缺陷點(diǎn)，若存在則輸出其位置至復(fù)檢系統(tǒng)；復(fù)檢系統(tǒng)對(duì)缺陷點(diǎn)進(jìn)行高分辨率圖像采集，經(jīng)分類識(shí)別算法，對(duì)缺陷點(diǎn)類別進(jìn)行輸出。具體AOI系統(tǒng)結(jié)構(gòu)可參見圖2-3，本課題主要針對(duì)Scan系統(tǒng)的光學(xué)傳感模塊及缺陷檢測(cè)算法進(jìn)行研究，系統(tǒng)該部分核心硬件包括CCD相機(jī)陣列、線陣相機(jī)鏡頭、照明光源及圖像采集卡。圖2-1帶缺陷Array平板圖2-2AOI系統(tǒng)工作流程圖圖2-3AOI系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖[26]系統(tǒng)掃描路徑規(guī)劃為幾字型如圖2-4所示，即在x方向以一定步長步進(jìn)，y方向往返掃描，步進(jìn)步長略小于成像視場(chǎng)大小，以保證不存在漏檢區(qū)域。光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖如圖2-5所示，為了與運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)相配合且不影響成像質(zhì)

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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博士論文
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碩士論文
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本文編號(hào)：3270308