黑矩陣擴(kuò)散法修復(fù)亮點(diǎn)理論模型及影響因素分析
【圖文】:
RGB像素修復(fù)成功率的影響?傮w來看,國(guó)內(nèi)外目前針對(duì)黑矩陣擴(kuò)散修復(fù)亮點(diǎn)的方法無全面系統(tǒng)的公開研究,對(duì)修復(fù)原理模型、修復(fù)影響因素等無詳細(xì)的分析;诖,本文建立了修復(fù)原理模型并進(jìn)行實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證,詳細(xì)而全面得分析多個(gè)因素對(duì)修復(fù)效果的影響,并以此為指導(dǎo),對(duì)不同設(shè)計(jì)的產(chǎn)品進(jìn)行修復(fù),成功率提升非常明顯。本文的研究工作,為該方法的深入研究奠定基礎(chǔ),為液晶面板企業(yè)修復(fù)成功率的提升提供了理論和實(shí)踐依據(jù)。2修復(fù)理論模型的建立2.1修復(fù)設(shè)備簡(jiǎn)介黑矩陣擴(kuò)散的方法所使用的設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示,主要由機(jī)械硬件、激光加工部和控制系統(tǒng)組成[8]。機(jī)械硬件包括基臺(tái)、玻璃臺(tái)和龍門架等組成,主要來承載液晶面板并進(jìn)行機(jī)械運(yùn)動(dòng)?刂葡到y(tǒng)主要進(jìn)行硬件動(dòng)作和激光加工的控制,同時(shí)完成圖像數(shù)據(jù)的處理,有些設(shè)備還附帶點(diǎn)燈器件[9],修完后直接確認(rèn)修復(fù)效果。圖1修復(fù)設(shè)備示意圖Fig.1Repairequipmentstructurescheme激光加工部是修復(fù)設(shè)備最為關(guān)鍵的部件,主要有激光器、光學(xué)系統(tǒng)和加工鏡頭組成。在光學(xué)165第2期魏平玉,等:黑矩陣擴(kuò)散法修復(fù)亮點(diǎn)理論模型及影響因素分析
圍的黑矩陣覆蓋在像素上,遮擋像素的光線,將亮點(diǎn)變?yōu)闉榘迭c(diǎn),提升產(chǎn)品等級(jí)。判定一個(gè)像素或者說產(chǎn)品能否用黑矩陣擴(kuò)散法修復(fù)的基準(zhǔn)是:像素周圍全部可利用的BM填充像素區(qū)域后,點(diǎn)燈灰度是否能到達(dá)暗點(diǎn)標(biāo)準(zhǔn)。如果達(dá)到暗點(diǎn)標(biāo)準(zhǔn),則理論上可修復(fù),如果達(dá)不到暗點(diǎn)灰度標(biāo)準(zhǔn)則該點(diǎn)理論上不可修復(fù),同時(shí)還要求修復(fù)不能引起其他不良。2.3修復(fù)理論模型我們建立的修復(fù)理論模型中修復(fù)過程分為3個(gè)步驟:第一步產(chǎn)生Gap(空隙),,第二步BM(黑矩陣)顆;谌剑牵幔鹛畛洌ǎ拢头稚ⅲ。圖2中(a)表示綠色像素發(fā)生亮點(diǎn)不良,在點(diǎn)燈條件下觀察顏色發(fā)亮,下面以修復(fù)該綠色像素為例,詳細(xì)說明黑矩陣擴(kuò)散法的理論模型。圖2修復(fù)模式圖Fig.2Repairmodelscheme第一步:產(chǎn)生Gap。在彩膜側(cè),RGB像素的光阻層直接做在玻璃基板上。使用激光將彩膜層和玻璃之間打出一定厚度的間隙,產(chǎn)生Gap,如圖2(b)所示,本步驟為后續(xù)填充黑矩陣顆粒作準(zhǔn)備。第二步:BM顆粒化。使用激光將固態(tài)的BM加工成細(xì)碎的顆粒,如圖2(c)所示。第三步:Gap的填充。即使用顆粒化的BM填充Gap,用BM遮擋光線。該過程和BM顆;^程緊密結(jié)合在一起。使用激光將BM顆;笾苯油迫耄牵幔饍(nèi),或者說邊顆;吿畛,如圖2(d)所示。3修復(fù)影響因素分析3.1激光設(shè)備因素激光波長(zhǎng)是激光器的重要參數(shù),波長(zhǎng)由激光器工作物質(zhì)決定。目前修復(fù)使用的為固體激光器,最常見的為NdYAG和YLF激光器。NdY-AG是最常用的一種激光器,其波長(zhǎng)為1064nm,但是在
【作者單位】: 合肥鑫晟光電科技有限公司;
【分類號(hào)】:TN873.93
【共引文獻(xiàn)】
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本文編號(hào):2516642
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