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離子摻雜光學(xué)晶體的特性研究

發(fā)布時(shí)間:2023-11-16 20:28
  TeO2晶體具有良好的雙折射性能和很高的聲光閾值,在光學(xué)放大器、光學(xué)開(kāi)關(guān)器件等領(lǐng)域有著巨大的應(yīng)用潛力。Nd:YLF晶體具有超大熒光線寬、較低的激光閾值,是一種出色的激光材料,在集成光電領(lǐng)域有著重要應(yīng)用。在眾多激光基質(zhì)材料中,YbVO4晶體由于出色的低激光閾值、高的斜效率,在固體激光領(lǐng)域獲得了廣泛關(guān)注。本論文利用CASTEP模塊計(jì)算了碳(C)替位碲(Te)摻雜α:TeO2體系的電子結(jié)構(gòu)及光學(xué)性質(zhì),計(jì)算并分析本征α:TeO2及三種摻雜體系的微觀結(jié)構(gòu)及光學(xué)特性。研究結(jié)果表明,摻雜后體系的導(dǎo)帶底下移,引起帶寬減小。光學(xué)結(jié)果表明,C替位摻雜后,吸收及反射等特性發(fā)生顯著改變、能量損耗峰值降低并發(fā)生紅移。相關(guān)研究結(jié)果為C摻雜金紅石結(jié)構(gòu)α:TeO2的應(yīng)用提供了理論基礎(chǔ)。本文同時(shí)采用離子注入技術(shù),結(jié)合SRIM擬合、拉曼光譜(Raman)、棱鏡耦合、反射計(jì)算法(RCM)、光致發(fā)光光譜(PL)等測(cè)試方法研究了C離子注入TeO2晶體、硅(Si)離子注入Nd:YLF晶體、鉺(Er)...

【文章頁(yè)數(shù)】:70 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【文章目錄】:
致謝
摘要
abstract
變量注釋表
1 緒論
    1.1 研究背景
    1.2 光學(xué)材料簡(jiǎn)述
    1.3 基本原理與理論
    1.4 實(shí)驗(yàn)方法
2 C離子摻雜α:TeO2的電子結(jié)構(gòu)和光學(xué)性能研究
    2.1 理論模型和計(jì)算方法
    2.2 結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性分析
    2.3 電子結(jié)構(gòu)分析
    2.4 光學(xué)性質(zhì)分析
    2.5 本章小結(jié)
3 C離子注入TeO2晶體的平面光波導(dǎo)
    3.1 拉曼光譜分析
    3.2 棱鏡耦合測(cè)試
    3.3 折射率重建
    3.4 模式分析
    3.5 SRIM擬合
    3.6 本章小結(jié)
4 Si離子注入Nd:YLF晶體的光學(xué)與光譜性能研究
    4.1 棱鏡耦合測(cè)試
    4.2 折射率重建
    4.3 模式分析
    4.4 SRIM擬合
    4.5 PL光譜測(cè)試
    4.6 本章小結(jié)
5 C/Er離子共注YbVO4晶體的光學(xué)與光譜性能研究
    5.1 棱鏡耦合測(cè)試
    5.2 折射率重建
    5.3 模式分析
    5.4 SRIM擬合
    5.5 PL光譜測(cè)試
    5.6 本章小結(jié)
6 結(jié)論
參考文獻(xiàn)
作者簡(jiǎn)歷
學(xué)位論文數(shù)據(jù)集



本文編號(hào):3864522

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