在高反光物體的表面形貌視覺測量過程中,物體的鏡面反射特性會導致獲取的圖像部分區(qū)域過曝而產(chǎn)生錯誤的計算結(jié)果。為解決這一問題,首先對自適應(yīng)條紋算法進行改進優(yōu)化,以減少使用面結(jié)構(gòu)光測量過程中的投影次數(shù),提高運算速度;然后對最大投影亮度進行調(diào)整,并在此基礎(chǔ)之上實現(xiàn)了一種測量高反光物體形貌的雙目面結(jié)構(gòu)光算法。實驗結(jié)果表明,該算法可以有效減輕所述對象表面的過曝程度,減少高反光物體表面測量的噪點和無效點,提高測量數(shù)據(jù)的質(zhì)量。 

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【圖文】：

表面反射模型示意圖

改進的自適應(yīng)條紋投影算法流程

第一輪投影相機飽和掩膜圖像與


本文編號：3708431