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基于垂直腔面發(fā)射激光器的濕法氧化速率研究

發(fā)布時間:2022-10-19 20:58
 。颊颈疚闹饕獓@垂直腔面發(fā)射激光器(VCSEL)中的濕法氧化工藝開展研究,通過閱讀大量相關(guān)文獻,了解垂直腔面發(fā)射激光器的制造工藝,并通過分析設(shè)計濕法氧化工藝參數(shù),實現(xiàn)VCSEL芯片濕法氧化速率精確控制的工藝要求。垂直腔面發(fā)射激光器(VCSEL)由于其具有單縱模工作、閾值電流低、圓形光斑易于與光纖耦合、易于集成二維陣列等優(yōu)勢,已經(jīng)成為光互連,光通信,紅外識別,激光顯示,激光照明(Tatum J 

【文章頁數(shù)】:2 頁

【部分圖文】:

基于垂直腔面發(fā)射激光器的濕法氧化速率研究


氧化臺面刻蝕形貌圖

基于垂直腔面發(fā)射激光器的濕法氧化速率研究


氧化深度測量示意圖;(b)氧化深度與氧化時間關(guān)系曲線

基于垂直腔面發(fā)射激光器的濕法氧化速率研究


理論擬合曲線與實際實驗數(shù)據(jù)


本文編號:3694094

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